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大功率VDMOS(200V)的設(shè)計(jì)研究
- 功率MOS場(chǎng)效應(yīng)晶體管是新一代電力電子開(kāi)關(guān)器件,在微電子工藝基礎(chǔ)上實(shí)現(xiàn)電力設(shè)備高功率大電流的要求。自從垂直導(dǎo)電雙擴(kuò)散VDMOS(VerticalDou-ble-diff used Metal Oxide Semiconductor)新結(jié)構(gòu)誕生以來(lái),電力MOSFET得到
- 關(guān)鍵字: 研究 設(shè)計(jì) 200V VDMOS 大功率
大功率VDMOS(200 V)的設(shè)計(jì)研究
- 摘要:介紹了大功率VDMOS(200 V)的設(shè)計(jì)方法。對(duì)設(shè)計(jì)參數(shù)進(jìn)行了理論分析,并使用仿真工具時(shí)設(shè)計(jì)參數(shù)進(jìn)行了驗(yàn)證和優(yōu)化。設(shè)計(jì)中主要考慮了漏源電壓和導(dǎo)通電阻等參數(shù)指標(biāo),通過(guò)器件和工藝的仿真,確定了該器件合理的參數(shù)
- 關(guān)鍵字: 研究 設(shè)計(jì) VDMOS 大功率
VDMOS器件損傷的DC/DC轉(zhuǎn)換器輻射預(yù)兆單元設(shè)計(jì)
- 航天用DC/DC轉(zhuǎn)換器工作在太空輻射環(huán)境下,輻射損傷是其主要失效機(jī)理。DC/DC轉(zhuǎn)換器的可靠性關(guān)系到整個(gè)航天器的可靠性,國(guó)內(nèi)外廣泛研究了DC/DC轉(zhuǎn)換器輻射損傷失效機(jī)理、失效模式和抗輻射篩選與加固措施。隨著
- 關(guān)鍵字: DC 預(yù)兆 單元 設(shè)計(jì) 輻射 轉(zhuǎn)換器 器件 損傷 VDMOS DC/DC轉(zhuǎn)換器
一種減少VDMOS寄生電容的新結(jié)構(gòu)
- 分析影響VDMOS開(kāi)關(guān)特性的各部分電容結(jié)構(gòu)及參數(shù),為了減少寄生電容,提高開(kāi)關(guān)速度,在此提出一種減少VDMOS寄生電容的新型結(jié)構(gòu)。該方法是部分去除傳統(tǒng)VDMOS的neck區(qū)多晶硅條,并利用多晶硅作掩模注入P型區(qū),改變VDMOS柵下耗盡區(qū)形狀,減小寄生電容。在此增加了neck區(qū)寬度,并增加了P阱注入。利用TCAD工具模擬,結(jié)果表明:這種新型結(jié)構(gòu)與傳統(tǒng)VDMOS相比,能有效減小器件的寄生電容,減少柵電荷量,提高開(kāi)關(guān)時(shí)間,提高器件的動(dòng)態(tài)性能。
- 關(guān)鍵字: VDMOS 寄生電容
DC/DC輻照損傷與VDMOS器件1/f噪聲相關(guān)性研究
- 通過(guò)對(duì)DC/DC轉(zhuǎn)換器低頻噪聲測(cè)試技術(shù)以及在y輻照前后電性能與1/f噪聲特性變化的對(duì)比分析,發(fā)現(xiàn)使用低頻噪聲表征DC/DC轉(zhuǎn)換器的可靠性是對(duì)傳統(tǒng)電參數(shù)表征方法的一種有效補(bǔ)充。對(duì)DC/DC轉(zhuǎn)換器輻照損傷與其內(nèi)部VDMOS器件1/f噪聲相關(guān)性進(jìn)行了研究,討論了引起DC/DC轉(zhuǎn)換器輻照失效的原因。
- 關(guān)鍵字: DC 相關(guān)性 研究 噪聲 VDMOS 輻照 損傷 器件 轉(zhuǎn)換器
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vdmos介紹
垂直雙擴(kuò)散金屬-氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管
VDMOS兼有雙極晶體管和普通MOS器件的優(yōu)點(diǎn),無(wú)論是開(kāi)關(guān)
應(yīng)用還是線形應(yīng)用,VDMOS都是理想的功率器件,VDMOS主要
應(yīng)用于電機(jī)調(diào)速、逆變器、不間斷電源、電子開(kāi)關(guān)、高保真音
響、汽車(chē)電器和電子鎮(zhèn)流器等。
特征:
接近無(wú)限大的靜態(tài)輸入阻抗特性,非常快的開(kāi)關(guān)時(shí)間,導(dǎo)通
電阻正溫度系數(shù),近似常數(shù)的跨導(dǎo), 高 [ 查看詳細(xì) ]
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