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臺積電今年將拿到最新款光刻機

  • 6月6日消息，據(jù)外媒報道稱，ASML將在今年向臺積電交付旗下最先進的光刻機，單臺造價達3.8億美元。報道中提到，ASML首席財務(wù)官Roger Dassen在最近的一次電話會議上告訴分析師，公司兩大客戶臺積電和英特爾將在今年年底前獲得所謂的高數(shù)值孔徑（高NA）極紫外（EUV）光刻系統(tǒng)。英特爾此前已經(jīng)訂購了最新的高NA EUV設(shè)備，第一臺設(shè)備已于12月底運往俄勒岡州的一家工廠。目前尚不清楚ASML最大的EUV客戶臺積電何時會收到設(shè)備。據(jù)悉，這些機器每臺造價3.5億歐元（3.8億美元），重量相當(dāng)于兩架空中客車A
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ASML今年將向臺積電交付最新款光刻機 單價3.8億美元

  • 6月6日消息，荷蘭光刻機制造商ASML今年將向臺積電交付其最新款光刻機。據(jù)公司發(fā)言人莫尼克·莫爾斯（Monique Mols）透露，首席財務(wù)官羅杰·達森（Roger Dassen）在近期的分析師電話會議中表示，包括臺積電和英特爾在內(nèi)的ASML兩大客戶都將在今年年底前拿到高數(shù)值孔徑極紫外線（high-NA EUV）光刻機。英特爾已經(jīng)下單購買了這款最新的光刻機，并于去年12月底將第一臺機器運至其位于俄勒岡州的工廠。目前尚不清楚臺積電何時會收到這些設(shè)備。臺積電代表表示，公司一直與供應(yīng)商保持密切合作，但拒絕對此事
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ASML和IMEC啟用聯(lián)合High-NA EUV光刻實驗室

  • 自ASML官網(wǎng)獲悉，6月3日，比利時微電子研究中心（imec）與阿斯麥（ASML）宣布在荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven）開設(shè)聯(lián)合High-NA EUV光刻實驗室（High NA EUV Lithography Lab），由ASML和imec共同運營。聲明中稱，經(jīng)過多年的構(gòu)建和集成，該實驗室已準備好為領(lǐng)先的邏輯和存儲芯片制造商以及先進材料和設(shè)備供應(yīng)商提供第一臺原型高數(shù)值孔徑EUV掃描儀（TWINSCAN EXE：5000）以及周圍的處理和計量工具。據(jù)悉，該聯(lián)合實驗室的開放是High-NA EUV大批量生
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臺積電CEO秘訪ASML，High-NA EUV光刻機競賽提前打響？

  • 5月26日，臺積電舉辦“2024年技術(shù)論壇臺北站”的活動，臺積電CEO魏哲家罕見的沒有出席，原因是其秘密前往荷蘭訪問位于埃因霍溫的ASML總部，以及位于德國迪琴根的工業(yè)激光專業(yè)公司TRUMPF。ASML CEO Christophe Fouquet和其激光光源設(shè)備供應(yīng)商TRUMPF CEO Nicola Leibinger-Kammüller近日通過社交媒體透露了魏哲家秘密出訪的行蹤。Christophe Fouquet表示他們向魏哲家介紹了最新的技術(shù)和新產(chǎn)品，包括High-NA EUV設(shè)備將如何實現(xiàn)未來
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臺積電不嫌ASML最新機臺貴？ 魏哲家密訪歐洲內(nèi)幕

  • 臺積電晶圓代工事業(yè)遙遙領(lǐng)先，但高層顯然一點也沒有掉以輕心。據(jù)韓媒報導(dǎo)，臺積電總裁魏哲家23日沒有出席在臺北舉行臺積電2024年術(shù)論壇，是因為他已經(jīng)前往歐洲秘密造訪艾司摩爾（ASML）荷蘭總部以及德國工業(yè)雷射大廠「創(chuàng)浦」（TRUMPF）。美國芯片大廠英特爾沖刺晶圓代工事業(yè)，目前已成為ASML首臺最新型「High-NA EUV」（高數(shù)值孔徑極紫外光微影系統(tǒng)）的買家。臺積電高層原本表示，臺積電A16先進制程節(jié)點并不一定需要這部機器，原因是價格太貴了。但據(jù)南韓媒體BusinessKorea報導(dǎo)，臺積電總裁魏哲家這
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ASML最先進的光刻機，花落誰家？

  • 4月上旬，全球光刻機龍頭企業(yè)ASML發(fā)布了其最新一代極紫外線(EUV)光刻設(shè)備Twinscan NXE:3800E，該工具投影透鏡擁有0.33的數(shù)值孔徑，旨在滿足未來幾年對于尖端技術(shù)芯片的制造需求，包括3nm、2nm等小尺寸節(jié)點。ASML還計劃進一步推出另一代低數(shù)值孔徑(EUV)掃描儀Twinscan NXE:4000F，預(yù)計將于2026年左右發(fā)布。近日，據(jù)外媒消息，ASML截至2025上半年的高數(shù)值孔徑EUV（High-NA EUV）設(shè)備訂單由英特爾全部包攬，據(jù)悉，英特爾在宣布重新進入芯片代工業(yè)務(wù)時搶先
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英特爾宣布世界首臺商用 High NA EUV 光刻機完成組裝，計劃明年投入研發(fā)使用

  • IT之家 4 月 19 日消息，英特爾今日宣布其已在位于美國俄勒岡州希爾斯伯勒的 Fab D1X 研發(fā)晶圓廠完成世界首臺商用 High NA（0.55NA） EUV 光刻機的組裝工作，目前已進入光學(xué)系統(tǒng)校準階段。▲ 圖源英特爾新聞稿這臺光刻機型號 TWINSCAN EXE:5000，為 ASML 的首代 High NA EUV 光刻機，價值約 3.5 億美元（IT之家備注：當(dāng)前約 25.38 億元人民幣）。就在不久前 ASML 宣布其在荷蘭埃因霍溫總部的另一臺 High NA EUV 光刻機成功
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阿斯麥向客戶交付第二臺 High NA EUV 光刻機，買家身份成謎

  • IT之家 4 月 18 日消息，荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商阿斯麥（ASML）近日向一家未披露名稱的公司交付了其第二臺高數(shù)值孔徑 (NA) 極紫外 (EUV) 光刻機。這臺高端光刻機旨在制造比當(dāng)前低 NA EUV 設(shè)備所能制造的更高密度的芯片。據(jù)路透社報道，第二臺高端光刻機的出貨意味著這一最新技術(shù)正逐漸被采用。然而，ASML 對買家身份諱莫如深，只能猜測其身份，路透社指出英特爾、臺積電和三星都是潛在客戶。事實上，英特爾已經(jīng)購買了首臺高數(shù)值孔徑 EUV 光刻機，用于其即將推出的 14A 制程節(jié)點。正如 A
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美國：不準向中國廠商提供光刻機維修服務(wù)！ASML回應(yīng)

  • 4月18日消息，ASML公開表示，將繼續(xù)為中國大陸廠商提供設(shè)備維修服務(wù)。此前有消息稱，美國計劃向荷蘭施壓，試圖阻止ASML在中國提供部分設(shè)備的維修服務(wù)。在業(yè)績電話會上，ASML首席執(zhí)行官溫寧克回應(yīng)稱，“目前沒有什么可以阻止我們?yōu)樵谥袊箨懓惭b的設(shè)備提供服務(wù)?！惫饪虣C是制造芯片的關(guān)鍵設(shè)備，中國大陸是ASML的第二大市場。因此，這種限制可能對中國的晶圓制造商產(chǎn)生重大影響，特別是對于維護產(chǎn)線穩(wěn)定運行所必需的光刻機核心部件的供應(yīng)和維護。之前外界擔(dān)心，受限的光刻機主要是NXT:2000i及更先進的機型，而其他未受限
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ASML發(fā)布2024年第一季度財報

  • 阿斯麥（ASML）今日發(fā)布2024年第一季度財報。2024年第一季度，ASML實現(xiàn)凈銷售額53億歐元，毛利率為51.0%，凈利潤達12億歐元。今年第一季度的新增訂單金額為36億歐元2，其中6.56億歐元為EUV光刻機訂單。ASML預(yù)計2024年第二季度的凈銷售額在57億至62億歐元之間，毛利率介于50%到51%，預(yù)計2024年的凈銷售額將與2023年基本持平。1.累計裝機管理銷售額等于凈服務(wù)和升級方案?(field option)?銷售額的總和。2.訂單包括所有的系統(tǒng)銷售訂單和通脹調(diào)整
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老美失算了！想引領(lǐng)芯片技術(shù)卻讓ASML獨大

  • 美國為了擺脫對他國的芯片依賴，力促芯片制造業(yè)回流本土，美媒撰文分析，美國曾有機會引領(lǐng)芯片制造技術(shù)卻錯過了機會，不只讓ASML獨大，也讓亞洲制造商臺積電、三星等主導(dǎo)了生產(chǎn)。根據(jù)MarketWatch報導(dǎo)，ASML在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)占有關(guān)鍵地位，是目前全球唯一有能力生產(chǎn)微影設(shè)備極紫外光（EUV）曝光機的企業(yè)。Dilation Capital基金經(jīng)理人Vijay Shilpiekandula指出，臺積電、英特爾和三星之間競爭激烈，身為設(shè)備供貨商的ASML處在賺取AI熱潮紅利的最佳位置。至于美國為何會失去對EUV技術(shù)這
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3大巨頭AI競賽背后的大贏家：芯片戰(zhàn)爭中的軍火商

  • 全球AI浪潮來襲，3大巨頭臺積電、英特爾與三星競爭日益激烈，根據(jù)MarketWatch報導(dǎo)，避險基金經(jīng)理人指出，荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備大廠ASML就像這場芯片戰(zhàn)爭中的軍火商，成為最大受惠者之一。報導(dǎo)指出，Dilation Capital基金經(jīng)理人Vijay Shilpiekandula在于倫敦舉辦的一場投資大會(Sohn Investment Conferenc)上表示，臺積電、英特爾和三星之間競爭激烈，身為設(shè)備供貨商的ASML處在賺取AI熱潮紅利的最佳位置。Vijay Shilpiekandula認為，數(shù)年來A
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半導(dǎo)體光刻機巨頭，何去何從？

  • 3月27日消息，據(jù)外媒報道，為留住光刻機設(shè)備巨頭阿斯麥（ASML）繼續(xù)在荷蘭發(fā)展，荷蘭政府計劃向ASML注入至少10億歐元資金。本月初，荷蘭當(dāng)?shù)貓蠹圖e Telegraaf揭露，ASML計劃將公司搬離荷蘭。報道指出，ASML已向荷蘭政府提出了意向，表示將有可能在其他地方擴張或遷移，法國是選擇之一。根據(jù)荷蘭通訊社的消息，荷蘭政府為此專門成立了一個名為“貝多芬行動”的特別工作小組，由首相馬克·呂特親自領(lǐng)導(dǎo)，旨在與ASML進行協(xié)商以解決其對荷蘭當(dāng)?shù)貏趧恿?yīng)、法規(guī)政策和供應(yīng)鏈安全的擔(dān)憂。最新消息指出，荷蘭政府計
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逼近極限！ASML發(fā)布第三代EUV光刻機

  • 芯片制造商需要速度。在科技日新月異的今天，芯片制造技術(shù)的不斷革新成為了推動科技進步的關(guān)鍵力量。作為光刻技術(shù)的領(lǐng)軍企業(yè)，ASML近日發(fā)布的第三代EUV光刻機——Twinscan NXE：3800E，無疑為全球芯片制造業(yè)帶來了新的希望與機遇。更加先進的光刻機出現(xiàn)，不僅代表著ASML在光刻技術(shù)領(lǐng)域的又一次突破，更將助力芯片制造商實現(xiàn)2nm處理器制造的飛躍。又一“神器”出現(xiàn)ASML，作為全球領(lǐng)先的光刻機制造商，不用過多介紹。此次發(fā)布的Twinscan NXE：3800E光刻機，是ASML在EUV光刻技術(shù)領(lǐng)域的又一
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ASML正計劃搬離荷蘭？向外擴張轉(zhuǎn)移業(yè)務(wù)成為最優(yōu)解

  • 據(jù)路透社報道，光刻機巨頭阿斯麥（ASML）正計劃將公司搬離荷蘭。荷蘭政府緊急成立了一個名為“貝多芬計劃”的特別工作組，由首相馬克·呂特親自領(lǐng)導(dǎo)，以確保ASML繼續(xù)在荷蘭發(fā)展。消息還稱，ASML已向荷蘭政府提出了意向，表示將有可能在其他地方擴張或遷移，法國或是選擇之一。針對最近“搬離荷蘭”等傳言，ASML發(fā)言人對媒體稱他們在考慮公司的未來，但沒有透露具體的想法。ASML為何要搬離荷蘭？憑借先天的地理位置及海港內(nèi)陸網(wǎng)絡(luò)，荷蘭一直為歐洲的交通樞紐，國家經(jīng)濟高度依賴國際貿(mào)易，2022年最新出口額占全國GDP之比超
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