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ASML看好中國市場 最先進(jìn)光刻機(jī)將入華

  • 　　中國集成電路制造年會近日邀請到了光刻機(jī)霸主ASML(阿斯麥)中國區(qū)總裁沈波參加，他出面解答了一些媒體關(guān)心的話題。　　盡管UMC(聯(lián)電)和Globalfoundries(格羅方德，格芯)先后宣布放棄7nm制程及更先進(jìn)工藝的研發(fā)，但ASML依然對EUV光刻機(jī)的前景表示樂觀?！　〈饲坝邢⒅赋?，中芯國際(SMIC)今年已向ASML訂購了一臺EUV光刻機(jī)，預(yù)計明年交付，用于7nm節(jié)點?！　⊥瑫r，傳統(tǒng)的沉浸式光刻機(jī)方面，沈波稱，今年下半年ASML已開始出貨家族最先進(jìn)的NXT：2000i，很快會在中國市場上也見到
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迫于美國政府壓力，光刻機(jī)巨頭荷蘭ASML被曝不再招收中國員工 ...

  • 　　在高科技領(lǐng)域，美國這一年來加強(qiáng)了對中國人的防范，不只限于美國本土，就連歐洲公司也受到了美國政府的壓力，荷蘭ASML被曝禁止招收中國籍員工。　　在光刻機(jī)領(lǐng)域，荷蘭ASML公司幾乎壟斷了全球高端光刻機(jī)市場，在EUV光刻機(jī)中更是獨一份，7nm及以后的工藝都要依賴EUV光刻機(jī)。在高科技領(lǐng)域，美國這一年來加強(qiáng)了對中國人的防范，不只限于美國本土，就連歐洲公司也受到了美國政府的壓力，荷蘭ASML被曝禁止招收中國籍員工?！　∪绻f半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)是制造工業(yè)的皇冠，那么光刻機(jī)可以說是皇冠上的明珠，因為光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造中最關(guān)
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Entegris EUV 1010光罩盒展現(xiàn)極低的缺陷率，已獲ASML認(rèn)證

  • 　　業(yè)界領(lǐng)先的特種化學(xué)及先進(jìn)材料解決方案的公司Entegris(納斯達(dá)克：ENTG)日前發(fā)布了下一代EUV 1010光罩盒，用于以極紫外(EUV)光刻技術(shù)進(jìn)行大批量IC制造。Entegris的EUV 1010是與全球最大的芯片制造設(shè)備制造商之一的ASML密切合作而開發(fā)的，已在全球率先獲得ASML的認(rèn)證，用于NXE:3400B等產(chǎn)品?！　‰S著半導(dǎo)體行業(yè)開始更多地使用EUV光刻技術(shù)進(jìn)行先進(jìn)技術(shù)制程的大批量制造(HVM)，對EUV光罩無缺陷的要求比以往任何時候都要嚴(yán)格。Entegris的EUV 1010光罩盒已
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ASML出貨新光刻機(jī)NXT2000i：用于7nm/5nm DUV工藝

  • 　　據(jù)外媒報道，光刻機(jī)霸主ASML(阿斯麥)已經(jīng)開始出貨新品Twinscan NXT：2000i DUV(NXT：2000i雙工件臺深紫外光刻機(jī))，可用于7nm和5nm節(jié)點?！　XT：2000i將是NXE：3400B EUV光刻機(jī)的有效補(bǔ)充，畢竟臺積電/GF的第一代7nm都是基于DUV工藝?！　⊥瑫r，NXT：2000i也成為了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的產(chǎn)品，達(dá)到了和3400B一樣的1.9nm(5nm要求至少2.4nm，7nm要求至少3.5nm)?！　SML將于本季度末開始量產(chǎn)Twin
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中荷半導(dǎo)體“芯”對比

  • 荷蘭有恩智浦、ASML、飛利浦等世界領(lǐng)先的半導(dǎo)體企業(yè)，而國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)目前依舊薄弱。
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ASML載具供應(yīng)商家登精密談中國EUV的發(fā)展，面臨諸多挑戰(zhàn)

  • 　　載具對于曝光機(jī)發(fā)揮保護(hù)、運(yùn)送和存儲光罩等功能十分重要。家登精密多年來致力于研究曝光機(jī)載具，并為全球最大的半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML提供載具相關(guān)技術(shù)。 　　我們主要研究EUV的配套技術(shù)，例如EUV的載具以及EUV的配套光罩，是7nm向5nm進(jìn)階的突破口。隨著5nm技術(shù)的升級，EUV的重要性逐漸凸顯出來，而載具的研究也越發(fā)緊迫。過去幾年，家登精密一直專心做一件事，那就是載具的配套研究。去年，我們的技術(shù)產(chǎn)品已經(jīng)達(dá)到國際先進(jìn)水平，這是一個值得自豪的成績。未來，7nm工藝逐漸向5nm升級，技術(shù)的研究會越來越困難
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看好中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)騰飛，ASML南京分公司近日開業(yè)

  • 　　據(jù)南京日報報道，8月18日，全球最大芯片光刻設(shè)備市場供貨商阿斯麥(ASML)在南京的分公司正式開業(yè)。作為臺積電的重要合作伙伴及上游供應(yīng)商，該企業(yè)選擇落戶在南京江北新區(qū)研創(chuàng)園孵鷹大廈。 　　跟隨臺積電的步伐，ASML在南京的布局在一年前啟動。去年11月考察江北新區(qū)研創(chuàng)園后，被園區(qū)前端的產(chǎn)業(yè)定位、創(chuàng)新的整體設(shè)計、完善的軟硬件配套所吸引。今年8月，ASML南京分公司完成了750平米辦公設(shè)施搭建，以及服務(wù)工程師、裝機(jī)工程師、應(yīng)用工程師等多職能覆蓋的團(tuán)隊組建。談及ASML未來對中國半導(dǎo)體市場前景的展望，該公司
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EUV需求看俏 ASML頻傳捷報

  • 　　全球最大芯片光刻設(shè)備市場供貨商阿斯麥 (ASML) 公布最新2017第二季財報。ASML表示，由于不論邏輯芯片和DRAM客戶都積極準(zhǔn)備將EUV導(dǎo)入芯片量產(chǎn)階段，EUV光刻機(jī)目前第二季已累積27臺訂單總計28億歐元。 　　ASML 第二季營收凈額 (net sales)21億歐元，毛利率(gross margin)為45%。在第二季新增8臺EUV系統(tǒng)訂單，讓EUV光刻系統(tǒng)的未出貨訂單累積到27臺，總值高達(dá)28億歐元。 　　ASML預(yù)估2017第三季營收凈額(net sales)約為22億歐元，毛
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EUV在手天下我有 ASML二季度表現(xiàn)亮眼

  • 　　全球最大芯片光刻設(shè)備市場供貨商阿斯麥(ASML)近日公布2017第二季財報。ASML第二季營收凈額21億歐元，毛利率為45%。在第二季新增8臺EUV系統(tǒng)訂單，讓EUV光刻系統(tǒng)的未出貨訂單累積到27臺，總值高達(dá)28億歐元。 　　預(yù)估2017第三季營收凈額約為22億歐元，毛利率約為43%。因為市場需求和第二季的強(qiáng)勁財務(wù)表現(xiàn)，ASML預(yù)估2017全年營收成長可達(dá)25%。 　　ASML總裁暨執(zhí)行長溫彼得指出:“ASML今年的主要營收貢獻(xiàn)來自內(nèi)存芯片客戶，尤其在DRAM市場需求的驅(qū)動下，這部分的
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半導(dǎo)體廠商無不識君 聊一聊隱形大佬ASML

  • ASML是集合了西方光學(xué)應(yīng)用科學(xué)與半導(dǎo)體尖端制造設(shè)備技術(shù)于一體的科技龐然大物，它的影響力是任何一個國家在半導(dǎo)體領(lǐng)域都無法忽視的。
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尼康起訴ASML和卡爾蔡司光刻技術(shù)侵權(quán) 要求賠償

  • 　　北京時間4月24日晚間消息，尼康今日宣布，已對荷蘭半導(dǎo)體行業(yè)光刻系統(tǒng)供應(yīng)商阿斯麥(ASML)和德國光學(xué)及光電子學(xué)設(shè)備廠商卡爾蔡司(Carl Zeiss)提起訴訟，指控這兩家公司未經(jīng)授權(quán)而使用其光刻技術(shù)。 　　尼康稱，已在荷蘭、德國和日本對阿斯麥和卡爾蔡司提起訴訟。卡爾蔡司是阿斯麥的光學(xué)設(shè)備供應(yīng)商。尼康在一份聲明中稱：“阿斯麥和卡爾蔡司在未經(jīng)尼康許可的前提下，在阿斯麥的光刻系統(tǒng)中使用尼康的專利技術(shù)。” 　　當(dāng)前，光刻系統(tǒng)被廣泛應(yīng)用于制造半導(dǎo)體，而阿斯麥又主導(dǎo)著半導(dǎo)體光刻機(jī)市場
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光刻機(jī)領(lǐng)域國內(nèi)接近世界先進(jìn)水平，9nm線寬光刻實現(xiàn)突破

  • 　　SEMICON China 2017開幕日即3月14日，上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司(后簡稱“SMEE”)宣布，SMEE 與荷蘭公司 ASML 簽署戰(zhàn)略合作備忘錄(MoU)，為雙方進(jìn)一步的潛在合作奠定了基礎(chǔ)。 　　根據(jù)這項合作備忘錄，ASML 和 SMEE 將探索就 ASML 光刻系統(tǒng)的特定模塊或半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)產(chǎn)品進(jìn)行采購的可能性。此次MoU的簽署代表 ASML 繼日前與上海集成電路研發(fā)中心(ICRD)宣布合作之后，進(jìn)一步深入?yún)⑴c中國的IC產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。 　　光刻機(jī)被稱
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上海微電子與芯片制造設(shè)備廠商ASML簽署戰(zhàn)略合作備忘錄

  • 　　3月14日，上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司(SMEE)宣布，與世界領(lǐng)先的芯片制造設(shè)備的領(lǐng)先廠商阿斯麥 (ASML) 簽署戰(zhàn)略合作備忘錄(MoU)，為雙方進(jìn)一步的潛在合作奠定了基礎(chǔ)。 　　根據(jù)這項合作備忘ASML和SMEE將探索就ASML光刻系統(tǒng)的特定模塊或半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)產(chǎn)品進(jìn)行采購的可能性。 　　“全球IC行業(yè)都在積極尋求技術(shù)藍(lán)圖進(jìn)來一步縮小芯片尺寸，為商業(yè)和消費者用戶提供更性能更強(qiáng)但節(jié)能的電子組件。這一技術(shù)藍(lán)圖的有效執(zhí)行需要精密復(fù)雜的制造技術(shù)，這只能靠各領(lǐng)先公司、研究機(jī)構(gòu)和院
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半導(dǎo)體押寶EUV ASML突破瓶頸 預(yù)計2018年可用于量產(chǎn)

  • 　　摩爾定律(Moore’s Law)自1970年代左右問世以來，全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)均能朝此一定律規(guī)則前進(jìn)發(fā)展，過去數(shù)十年來包括光微影技術(shù)(Photolithography)等一系列制程技術(shù)持續(xù)的突破，才得以讓半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)能依照摩爾定律演進(jìn)，進(jìn)而帶動全球科技產(chǎn)業(yè)研發(fā)持續(xù)前進(jìn)。 　　但為延續(xù)產(chǎn)業(yè)良性發(fā)展，光是依賴于傳統(tǒng)微影技術(shù)仍不夠，因此芯片制造商也正在苦思試圖進(jìn)行一次重大且最具挑戰(zhàn)的變革，即發(fā)展所謂的“極紫外光”(EUV)微影技術(shù)，該技術(shù)也成為臺積電、英特爾(Intel)等
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尼康半導(dǎo)體曝光設(shè)備死于自我封閉？

  • 　　日本光學(xué)及半導(dǎo)體設(shè)備大廠尼康(Nikon)未來可能進(jìn)行人事調(diào)整，以數(shù)位相機(jī)及半導(dǎo)體設(shè)備事業(yè)為主，希望轉(zhuǎn)型重建企業(yè)經(jīng)營。 　　根據(jù)報導(dǎo)，日本半導(dǎo)體事業(yè)始于日本政府的產(chǎn)業(yè)計劃，1970年代由官方與民間合作的結(jié)果，建立了從半導(dǎo)體設(shè)備到半導(dǎo)體生產(chǎn)線的完整事業(yè)。當(dāng)時名為日本光學(xué)工業(yè)的尼康，借其光學(xué)技術(shù)推出先進(jìn)的曝光裝置，制造精密半導(dǎo)體的線路，是日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在1980~1990年代與美國平起平坐的主因。 　　但是，1984年從荷蘭電機(jī)大廠飛利浦(Philips)獨立的ASML，由于積極與外界學(xué)校及廠商合作，
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