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基于模型的建議：光刻友好設(shè)計(jì)成功的導(dǎo)航

  • 如今對(duì)于一些技術(shù)節(jié)點(diǎn)，設(shè)計(jì)人員需要在晶圓代工廠流片和驗(yàn)收之前進(jìn)行光刻友好設(shè)計(jì)(Litho Friendly Design) 檢查。由于先進(jìn)節(jié)點(diǎn)的解析度增進(jìn)技術(shù)(RET) 限制，即使在符合設(shè)計(jì)規(guī)則檢查 (DRC) 的設(shè)計(jì)中，我們?nèi)钥吹搅烁嗟闹圃靻?wèn)題。
  • 關(guān)鍵字： 模型  光刻  DRC  MBH  
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