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ASML最先進的光刻機，花落誰家？

  • 4月上旬，全球光刻機龍頭企業(yè)ASML發(fā)布了其最新一代極紫外線(EUV)光刻設(shè)備Twinscan NXE:3800E，該工具投影透鏡擁有0.33的數(shù)值孔徑，旨在滿足未來幾年對于尖端技術(shù)芯片的制造需求，包括3nm、2nm等小尺寸節(jié)點。ASML還計劃進一步推出另一代低數(shù)值孔徑(EUV)掃描儀Twinscan NXE:4000F，預(yù)計將于2026年左右發(fā)布。近日，據(jù)外媒消息，ASML截至2025上半年的高數(shù)值孔徑EUV（High-NA EUV）設(shè)備訂單由英特爾全部包攬，據(jù)悉，英特爾在宣布重新進入芯片代工業(yè)務(wù)時搶先
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日本Rapidus計劃2024年底引入EUV光刻機

  • 據(jù)日媒報道，日本芯片公司Rapidus表示，正在北海道建設(shè)芯片工廠，目標(biāo)是2027年量產(chǎn)2nm制程芯片。該公司宣布，決定在2024年年底引入EUV光刻機，并將派遣員工赴荷蘭阿斯麥學(xué)習(xí)EUV極紫外光刻技術(shù)。目標(biāo)是今年派遣100名員工至IBM、阿斯麥學(xué)習(xí)先進芯片技術(shù)。
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柔弱的雕刻大師——EUV光刻機

  • 在如今這個信息時代，如果說我們的世界是由芯片堆積起來的高樓大廈，那么芯片制造，則是這里面高樓的地基，而談到芯片制造各位讀者自然就能想到光刻機，沒錯，作為人類商業(yè)化機器的工程奇跡，光刻機自然是量產(chǎn)高性能芯片的必要設(shè)備。特別是隨著這幾年中美貿(mào)易戰(zhàn)的加劇，光刻機這種大部分可能一生都不會見到的機器一下子成了婦孺皆知的存在，那么光刻機是如何工作的呢？它是如何在方寸之間的芯片上雕刻出上百億的晶體管的呢？本篇文章就著重給大家介紹一下目前最先進，也是我國被“卡脖子”的EUV（極紫外）光刻機。? ? &
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ASML新EUV光刻機成本：趕上頂級戰(zhàn)機

  • 日前，ASML CEO Peter Wennink最新接受媒體采訪時透露，他們正在全力研制劃時代的新光刻機high-NA EUV設(shè)備，而高NA EUV光刻機系統(tǒng)的單臺造價將在25億元（單臺造價在3億到3.5億歐元之間，約合人民幣21.95到25.61億元）。資料顯示重型航母（排水量60000噸以上）航母造價是35億美金左右，而上述光刻機成本等同于f35戰(zhàn)斗機造價（1.5-2.5億美元）。盡管如此昂貴，但Intel此前表示自己是全球第一個下單的客戶，臺積電也跟進了。高NA EUV光刻機將在2024年進廠投入
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三星公布發(fā)展規(guī)劃；ASML繼續(xù)向中國出貨非EUV光刻機

  • 三星公布五年發(fā)展規(guī)劃10月20日，三星電子在韓國首爾舉辦晶圓代工論壇，此前三星已經(jīng)分別在美國加州、德國慕尼黑、日本東京舉辦了該論壇活動，韓國首爾是今年三星晶圓代工論壇的收官站點。在上述晶圓代工系列活動上，三星對外介紹了最新技術(shù)成果，以及未來五年晶圓代工事業(yè)發(fā)展規(guī)劃。按照規(guī)劃，三星將于2025年量產(chǎn)2nm先進制程工藝技術(shù)，到2027年量產(chǎn)1.4nm制程工藝技術(shù)。另一大晶圓代工巨頭臺積電也于近期表示，2nm方面，目前進展一切順利，將仍按照進度量產(chǎn)，并將在2nm節(jié)點引入GAA架構(gòu)，預(yù)計2024年下半年進入風(fēng)險性
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臺積電計劃關(guān)閉部分EUV光刻機：先進工藝過剩

  • EUV光刻機是半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備，只有ASML公司才能生產(chǎn)，單臺售價約10億人民幣，之前三星、臺積電等公司還要搶著買，然而今年半導(dǎo)體形勢已經(jīng)變了，EUV光刻機反而因為耗電太多，臺積電計劃關(guān)閉省電。來自產(chǎn)業(yè)鏈的消息人士手機晶片達(dá)人的消息稱，由于先進制程產(chǎn)能利用率開始下滑，而且評估之后下滑時間會持續(xù)一段周期，臺積電計劃從年底開始，將部分EUV 設(shè)備關(guān)機，以節(jié)省EUV設(shè)備巨大的耗電支出。據(jù)了解臺積電目前擁有大約80臺EUV光刻機，主要用于7nm、5nm及以下的先進工藝，今年9月份還會量產(chǎn)3nm工藝，都需要E
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單價26億元 ASML下一代EUV光刻機啟動：核心部件到貨

  • 荷蘭ASML公司今天發(fā)布了2022年第二季度財報，當(dāng)季凈銷售額為54.31億歐元，好于市場預(yù)期的52.6億歐元，上年同期為40.20億歐元，同比增長35%。毛利潤為26.65億歐元，上一季度為17.31億歐元，上年同期為20.45億歐元;毛利率為49.1%，上一季度為49.0%。凈利潤為14.11億歐元，上年同期為10.38億歐元，同比增長36%。Q2新增訂單金額為84.61億歐元，其中包括54億歐元的EUV訂單，較上一季度的新增訂單金額69.77億歐元環(huán)比增長21%。本季度中，ASML公司出貨了12臺E
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臺積電、Intel、三星狂買ASML EUV光刻機

  • 臺積電在北美技術(shù)論壇上公布了新的制程路線圖，定于2025年量產(chǎn)2nm工藝，其采用Nanosheet（納米片電晶體）的微觀結(jié)構(gòu)，取代FinFET。期間，臺積電甚至規(guī)劃了5種3nm制程，包括N3、N3E、N3P、N3S和N3X，要在2025年前將成熟和專業(yè)化制程的產(chǎn)能提高50%，包括興建更多的晶圓廠。顯然，作為產(chǎn)能提升以及興建晶圓廠的關(guān)鍵核心設(shè)備，EUV光刻機少不了要采購一大批。臺積電表示，計劃在2024年引入ASML的新一代EUV極紫外光刻機。此前，Intel曾說自己是第一個訂購ASML下一代EUV光刻機的
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TrendForce：ASML工廠火災(zāi) 影響EUV光刻機交期

  • ASML位于德國柏林工廠一處，于1月3日發(fā)生火警，該企業(yè)主要為晶圓代工及內(nèi)存生產(chǎn)，所需的關(guān)鍵設(shè)備機臺，包含EUV與DUV之最大供貨商。根據(jù)TrendForce的消息，占地32,000平方米的柏林廠區(qū)中，約200平方米廠區(qū)受火災(zāi)影響。該廠區(qū)主要制造光刻機中，所需的光學(xué)相關(guān)零組件，例如：晶圓臺、光罩吸盤和反射鏡，其中用以固定光罩的光罩吸盤，處于緊缺狀態(tài)。目前該廠零組件以供應(yīng)EUV機臺較多，且以晶圓代工的需求占多數(shù)。若屆時因火災(zāi)而造成零組件交期有所延后，不排除ASML將優(yōu)先分配主要的產(chǎn)出支持晶圓代工訂單的可能性
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ASML出貨超過100臺EUV光刻機 新制程時代來臨

  • 芯研所消息，全球半導(dǎo)體的缺貨，進一步激發(fā)了上游半導(dǎo)體設(shè)備廠商的產(chǎn)能，據(jù)外媒報道截至第二季度，ASML EUV設(shè)備出貨總量達(dá)到102臺，隨著需求量的提高和客戶群的擴大，預(yù)計2年內(nèi)累計供應(yīng)量將增加2倍以上，標(biāo)志著EUV時代正式拉開帷幕。據(jù)統(tǒng)計，過去四個季度（2020年第三季度-2021年第二季度），ASML EUV設(shè)備出貨總計40臺，較之前四個季度（2019年第三季度-2020年第二季度）增長了66%。ASML今年的出貨目標(biāo)是40臺左右，下半年將供應(yīng)25臺左右。ASML擴大EUV設(shè)備供應(yīng)響應(yīng)了半導(dǎo)體制造業(yè)實現(xiàn)
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EUV光刻機將如何發(fā)展？

  • AI、5G應(yīng)用推動芯片微縮化,要實現(xiàn)5nm、3nm等先進制程,意味著需要更新穎的技術(shù)支援以進行加工制造,半導(dǎo)體設(shè)備商遂陸續(xù)推出新一代方案。 AI、5G應(yīng)用推動晶片微縮化,要實現(xiàn)5nm、3nm等先進制程,意味著需要更新穎的技術(shù)支援以進行加工制造,為此,艾司摩爾(ASML)持續(xù)強化極紫外光(EUV)微影系統(tǒng)效能。艾司摩爾(ASML)資深市場策略總監(jiān)Boudewijn Sluijk表示,VR/AR、自動駕駛、5G、大數(shù)據(jù)及AI等,持續(xù)推動半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展,為滿足各式應(yīng)用、資料傳輸,以及演算法需求,芯片效
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EUV光刻機需求強勁：ASML超應(yīng)用材料成全球第一大半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)

  • 用了將近30年的時間，荷蘭光刻機巨頭ASML（阿斯麥）終于要超過Applied Materials（美國應(yīng)用材料公司），成為全球最大的半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)。
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ASML單價近一億美元EUV光刻機訂單已達(dá)10臺

  • 　　2010年浸潤式微米光刻機臺設(shè)備(Immersion Scanner)大缺貨，形成DRAM產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)進40納米工藝的天險，隨著缺貨問題解決，ASML針對20納米工藝，推出深紫外光(EUV)機臺，目前已有10臺訂單在手，預(yù)計2012年將正式交貨;不過，對于資金拮據(jù)的DRAM廠，1臺要價近1億美元的EUV機臺，將會是更大的資金挑戰(zhàn)，目前僅瑞晶下單訂購1臺，藉以確保20納米工藝的參賽權(quán)。　
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euv光刻機介紹

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