加入技術(shù)交流群
問題的關(guān)鍵在于使用干涉圖樣，不同波長的相干光在不同位置會彼此增強或抵消。研究者將這種對光反應(yīng)變色的材料，材料改變顏色后，便會對對應(yīng)的光線透明。曝光時用一對圖樣的蒙板，各自采用不同波長的光同時進行曝光。當一種波長的亮線與另一種波長的暗線對應(yīng)交疊時，極細小的線條就產(chǎn)生了。這一層材料便可作為蒙板，用第一種波長的光線照明，就像用負片在相紙上沖洗出照片一樣，在底層材料上留下圖樣。
這個研究是由電子學(xué)研究實驗室工程師Rajesh Menon和化學(xué)系研究生Trisha Andrew以及電子工程與計算機科學(xué)系的研究生Hsin-Yu共同完成的，研究的論文已經(jīng)發(fā)表在4月10日的《科學(xué)》雜志上。
這項了不起的新技術(shù)，研究人員成為吸光率調(diào)制，使得制造出所用光線波長十分之一粗細的線條成為可能。成功實現(xiàn)這一過程的部分關(guān)鍵在于找到合適的光敏材料，其在最初曝光之后透明與不透明區(qū)域都應(yīng)保持穩(wěn)定。
使用這種方法，研究團隊制造出了36納米寬的線條，并宣稱他們還可以制造出許多同樣大小間隔的線條。
Menon說，這種技術(shù)會對芯片制造帶來顯著的沖擊，也會使依賴于納米尺度技術(shù)的新興領(lǐng)域的研究工作成為可能，包括納米光子學(xué)，納米流體力學(xué)，納米電子學(xué)以及納米生物系統(tǒng)。
Menon已經(jīng)成立一個公司，以繼續(xù)這項技術(shù)的研發(fā)，他期望能在5年內(nèi)實現(xiàn)商用化。
但這并不是這一技術(shù)唯一的潛在運用，Menon稱他的團隊正在尋求這套系統(tǒng)在成像系統(tǒng)中的可能運用，有可能使納米尺度的新型顯微鏡成為可能，這在生物學(xué)與材料科學(xué)中將有巨大應(yīng)用前景。同時，他也在尋求使用這種技術(shù)把類似圖案的尺度降低到單個分子的大小。
新方法可能制造出更細微的芯片紋路
MIT的研究人員已經(jīng)找到一種全新的方式，只需要一種能在透明與非透明狀態(tài)之間轉(zhuǎn)換的材料，用特定波長的光照射，就能在微型芯片上獲得極細的線條。這種材料并不新奇，但研究人員找到了一種全新的方法來利用這一特性，用于構(gòu)造出極其細微線條的透明蒙板，用這個蒙板可以在材質(zhì)上創(chuàng)建出對應(yīng)的細微線條。制造這樣細微的線條對于很多新技術(shù)而言是關(guān)鍵的，從不斷追求往一塊芯片上加入更多元件的芯片制造業(yè)，到日漸顯露頭角的納米技術(shù)。但這些技術(shù)都面臨一個極限，即他們都要依賴于光的波長，大多數(shù)技術(shù)無法獲得比光波長更小尺度的圖樣，而這個新技術(shù)則彌補了這一點。
本文引用地址：http://2s4d.com/article/93348.htm
評論