佳能發(fā)布半導(dǎo)體光刻機新品 FPA-5550iX，可用于全畫幅 CMOS 制造等

IT之家 3 月 13 日消息，佳能于今日發(fā)售了面向前道工序的半導(dǎo)體光刻機新產(chǎn)品 —— i 線步進式光刻機“FPA-5550iX”，該產(chǎn)品能夠同時實現(xiàn) 0.5μm（微米）高解像力與 50×50mm 大視場曝光。

據(jù)介紹，新產(chǎn)品“FPA-5550iX”能夠同時實現(xiàn) 50×50mm 大視場及 0.5μm 高解像力曝光，在不斷趨向高精尖化的全畫幅 CMOS 傳感器制造領(lǐng)域中，使得單次曝光下的高解像力成像成為可能。

同時，通過充分利用高解像力與大視場的優(yōu)勢，“FPA-5550iX”也可應(yīng)用于頭戴式顯示器等小型顯示設(shè)備制造的曝光工序中。

此外，隨著先進的 XR 器件顯示器需求增加，該產(chǎn)品也可廣泛應(yīng)用于大視場、高對比度的微型 OLED 顯示器制造。

新產(chǎn)品“FPA-5550iX”不僅能夠應(yīng)用于半導(dǎo)體器件制造，也可以在最先進的 XR 器件顯示器制造等更廣泛的器件制造領(lǐng)域發(fā)揮其作用。

此外，“FPA-5550iX”的調(diào)準(zhǔn)用示波器不僅具備檢測直射光的“明場檢測”功能，還新增了檢測散射光和衍射光的“暗場檢測”功能，用戶可根據(jù)使用需求選擇相應(yīng)的檢測方法。通過可選波長范圍的擴大、區(qū)域傳感器的應(yīng)用，加之可進行多像素測量，最終實現(xiàn)更低噪點的檢測效果，即使是低對比度的對準(zhǔn)標(biāo)記，也可以進行檢測。還可以應(yīng)用于各類對準(zhǔn)標(biāo)記的測量，加強對用戶多樣制程的支持能力。比如，作為選裝功能，用戶可以選擇配備能夠穿透硅片的遠紅外線波長，以便在背照式傳感器制造過程中對晶圓背面進行對準(zhǔn)測量。

IT之家注：調(diào)準(zhǔn)用示波器是一種可以讀取晶圓上的對準(zhǔn)標(biāo)記并進行對準(zhǔn)的顯微鏡。其原理是從對準(zhǔn)光源將光照射到對準(zhǔn)標(biāo)記上，透過鏡頭，在區(qū)域傳感器上感光從而進行檢測。