助力晶圓生產(chǎn)工藝改進(jìn)，海洋光學(xué)參加2022中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備年會(huì)

中國(guó)上海，2022年10月25日 —— 世界領(lǐng)先的光學(xué)解決方案提供商海洋光學(xué)（Ocean Insight）將參加于10月27日~29日在無(wú)錫太湖國(guó)際博覽中心召開(kāi)的第十屆(2022)中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備年會(huì)暨半導(dǎo)體設(shè)備與核心部件展示會(huì)(CSEAC)。展位號(hào)B3-117，海洋光學(xué)攜最新改善半導(dǎo)體制造工藝的光譜解決方案參展?！澳坌竞狭?，發(fā)展芯設(shè)備”是這次大會(huì)的主題，產(chǎn)業(yè)升級(jí)是國(guó)家的大方向，中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正在加速前進(jìn)，海洋光學(xué)利用自己在光譜技術(shù)領(lǐng)域的多年積累，解決創(chuàng)新過(guò)程中遇到的問(wèn)題，與產(chǎn)業(yè)伙伴合力推進(jìn)創(chuàng)新發(fā)展。

光纖光譜儀因其快速、無(wú)損、原位測(cè)量的特點(diǎn)，在半導(dǎo)體行業(yè)廣受青睞。作為世界上第一臺(tái)微型光纖光譜儀的發(fā)明者，海洋光學(xué)多年來(lái)在半導(dǎo)體領(lǐng)域也積累了豐富的經(jīng)驗(yàn)，其光學(xué)解決方案用于芯片制造的刻蝕終點(diǎn)監(jiān)測(cè)、透明/半透膜膜厚檢測(cè)、橢偏檢測(cè)等。

海洋光學(xué)光譜儀產(chǎn)品不斷推陳出新，為客戶提供品類多樣的、更豐富好用的工具幫助創(chuàng)新。海洋光學(xué)中國(guó)區(qū)銷售總裁孫玲博士稱：“光譜儀是一個(gè)核心器件，海洋光學(xué)就是光譜界的‘樂(lè)高’。我們把自己定義為科學(xué)儀器創(chuàng)新的奠基者，我們給客戶一個(gè)包羅萬(wàn)象的工具箱，為客戶提供做出創(chuàng)新儀器的全套工具模塊，客戶用這個(gè)工具箱可以在半導(dǎo)體等領(lǐng)域進(jìn)行自己的開(kāi)發(fā)，實(shí)現(xiàn)自己的創(chuàng)新理念?！?/span>

蝕刻終點(diǎn)監(jiān)測(cè)：等離子體檢測(cè)系統(tǒng)

在半導(dǎo)體行業(yè) , 晶圓是用光刻技術(shù)制造和操作的。其中蝕刻是主要環(huán)節(jié)，當(dāng)在晶圓表面蝕刻時(shí)，可使用等離子體監(jiān)測(cè)跟蹤蝕刻穿過(guò)晶圓層的程度，確定等離子體何時(shí)完全蝕刻特定層并到達(dá)下一層。通過(guò)監(jiān)測(cè)在蝕刻期間由等離子體產(chǎn)生的發(fā)射光譜，可準(zhǔn)確追蹤蝕刻過(guò)程。這種終點(diǎn)檢測(cè)對(duì)于使用基于等離子體的蝕刻工藝的半導(dǎo)體材料生產(chǎn)至關(guān)重要。

等離子體監(jiān)測(cè)可以通過(guò)靈活的模塊化設(shè)置完成，基于Ocean HDX光譜儀的模塊化光譜設(shè)置用于監(jiān)測(cè)引入不同氣體和納米顆粒后氬等離子體發(fā)射光譜的變化。測(cè)量在封閉的反應(yīng)室中進(jìn)行，使用光纖和余弦校正器耦合到光譜儀，通過(guò)反應(yīng)腔體中的小窗口進(jìn)行觀察。測(cè)量結(jié)果表明模塊化光譜組件可實(shí)時(shí)獲取等離子體發(fā)射光譜。通過(guò)發(fā)射光譜確定的等離子體特性可用于監(jiān)測(cè)和控制基于等離子體的反應(yīng)過(guò)程。

Ocean HDX采用高清晰度光學(xué)系統(tǒng)，具有高通量和高熱穩(wěn)定性的特點(diǎn)，支持多種通訊模式，如USB、千兆以太網(wǎng)、Wi-Fi、AP Wi-Fi和RS-232。內(nèi)置板載緩存數(shù)據(jù)處理模塊，提高數(shù)據(jù)分析速度，保證數(shù)據(jù)完整。

模塊化光譜儀配置可用作QC工具或集成到生產(chǎn)線中

膜厚檢測(cè)：晶圓膜厚測(cè)量系統(tǒng)

半導(dǎo)體集成電路的生產(chǎn)以數(shù)十次至數(shù)百次的鍍膜、光刻、蝕刻、去膜、平坦等為主要工序，膜層的厚度、均勻性等直接影響芯片的質(zhì)量和產(chǎn)量，在加工中必須不斷地檢測(cè)以便控制膜層的厚度。光學(xué)薄膜測(cè)厚儀是半導(dǎo)體生產(chǎn)流程中必不可少的設(shè)備之一，用于對(duì)芯片晶圓及相關(guān)半導(dǎo)體材料的鍍膜厚度等進(jìn)行檢測(cè)。

海洋光學(xué)膜厚測(cè)量系統(tǒng)，配置有采樣平臺(tái)、反射探頭等，基于光波的干涉現(xiàn)象，光束照射在薄膜表面，由于入射介質(zhì)、薄膜材料和基底材料具有不同的折射率值和消光系數(shù)值，使得光束在透明/半透明薄膜的上下表面發(fā)生反射，反射光波相互干涉，從而形成干涉光，這些干涉光在不同相位處的強(qiáng)度將隨著薄膜的厚度發(fā)生變化。通過(guò)對(duì)干涉光的檢測(cè)，結(jié)合適當(dāng)?shù)墓鈱W(xué)模型即可計(jì)算得到薄膜的厚度。

晶圓膜厚測(cè)量系統(tǒng)配置

QE Pro是一種高靈敏度性能出色的光譜儀，適合低光度應(yīng)用。 QE Pro薄型背照式CCD探測(cè)器具有較高的量子效率，其穩(wěn)健的設(shè)計(jì)使其具有很高的信噪比性能和穩(wěn)定性?？赏ㄟ^(guò)選擇內(nèi)部快門，優(yōu)化對(duì)暗噪聲的測(cè)量。

解決問(wèn)題是海洋光學(xué)的使命。海洋光學(xué)創(chuàng)始人Mike Morris說(shuō)，“我們是問(wèn)題解決者；沒(méi)有問(wèn)題需要解決，就沒(méi)有海洋光學(xué)?！?

孫玲博士對(duì)此深有感觸：“在一些新的應(yīng)用領(lǐng)域，總有不盡人意的地方，這時(shí)候就需要做出新產(chǎn)品，要求我們的工具不斷提升精度、提升強(qiáng)度，改進(jìn)溫度一致性、臺(tái)間差、一致性等等。這些都是海洋光學(xué)最擅長(zhǎng)的，因?yàn)槲覀?0年專注于光譜領(lǐng)域進(jìn)行耕耘，有了牢靠的基礎(chǔ)和積累，我們打造出來(lái)的工具就是用來(lái)解決實(shí)際問(wèn)題的。”