中微半導(dǎo)體CEO尹志堯：國(guó)產(chǎn)5nm蝕刻機(jī)已獲臺(tái)積電認(rèn)可

根據(jù)臺(tái)積電的工藝路線圖，2020年Q3季度就要試產(chǎn)5nm工藝了，這一代工藝會(huì)全面應(yīng)用EUV光刻技術(shù)。除了光刻機(jī)之外，蝕刻機(jī)也是半導(dǎo)體工藝中不可缺少的一步，在這個(gè)領(lǐng)域中國(guó)半導(dǎo)體裝備公司也取得了可喜的進(jìn)步，中微半導(dǎo)體的5nm蝕刻機(jī)已經(jīng)打入臺(tái)積電的供應(yīng)鏈。

日前在首屆臨港新片區(qū)投資論壇上，中微半導(dǎo)體設(shè)備公司董事長(zhǎng)兼首席執(zhí)行官尹志堯博士提到了該公司的進(jìn)展，指出中微半導(dǎo)體正在跟隨臺(tái)積電按照摩爾定律的發(fā)展走，后者的3nm工藝已經(jīng)研發(fā)一年多了，預(yù)計(jì)2021年初就要試產(chǎn)。

尹志堯博士表示中微半導(dǎo)體也在跟著這個(gè)路線走，目前已經(jīng)做到了5nm——尹志堯博士創(chuàng)立的中微半導(dǎo)體主要是蝕刻機(jī)、MOCVD等設(shè)備，它們與光刻機(jī)一并被稱為半導(dǎo)體工藝三大關(guān)鍵設(shè)備，而這里說的5nm指的是用于5nm工藝的等離子蝕刻機(jī)。

據(jù)介紹，等離子體刻蝕機(jī)是芯片制造中的一種關(guān)鍵設(shè)備，用來在芯片上進(jìn)行微觀雕刻，每個(gè)線條和深孔的加工精度都是頭發(fā)絲直徑的幾千分之一到上萬分之一，精度控制要求非常高。

半導(dǎo)體工藝的技術(shù)水平是由光刻機(jī)決定的，所以中微半導(dǎo)體做5nm蝕刻機(jī)并不等于能做5nm光刻，但是這個(gè)領(lǐng)域的進(jìn)展依然意義重大，先進(jìn)的蝕刻機(jī)售價(jià)也要數(shù)百萬美元，而且一條生產(chǎn)線要使用很多臺(tái)蝕刻機(jī)，總價(jià)值依然不可小覷。

根據(jù)中微半導(dǎo)體的2019年上半年財(cái)報(bào)，該公司1-6月實(shí)現(xiàn)營(yíng)收8.01億元，同比增長(zhǎng)72.03%；歸屬于上市公司股東的凈利潤(rùn)3037.11萬元，與上年同期相比扭虧為盈。