分析稱iPhone或?qū)⒃?021年采用屏下指紋識(shí)別
近日,天風(fēng)國際分析師郭明錤發(fā)布了一份最新報(bào)告,報(bào)告中指出iPhone可能會(huì)在2021年采用屏下指紋。
本文引用地址:http://2s4d.com/article/201908/403409.htm
2021年iPhone可能采用屏下指紋識(shí)別
據(jù)郭明錤表示“蘋果曾經(jīng)申請過屏下指紋相關(guān)專利,相信蘋果對手機(jī)采用屏下指紋仍有興趣”。預(yù)期蘋果將會(huì)在2021年推出同時(shí)配備Face ID與屏下指紋的新iPhone。
他表示,根據(jù)技術(shù)發(fā)展規(guī)律推測,屏下指紋4個(gè)關(guān)鍵技術(shù)(模塊厚度、感應(yīng)面積、耗電與貼合良率)有望在未來12–18個(gè)月內(nèi)顯著提升。
值得一提是,郭明錤還表示,蘋果的屏下指紋識(shí)別技術(shù)將會(huì)采用高通的大面積超聲波技術(shù)。
(本文圖片來自互聯(lián)網(wǎng))
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