應(yīng)用材料為20nm制程開發(fā)自主式缺陷檢測SEM

　　應(yīng)用材料公司推出 Applied SEMVision G5 系統(tǒng)，進(jìn)一步推升在缺陷檢測掃描電子顯微鏡 (Scanning Electronic Microscope，簡稱SEM) 技術(shù)的領(lǐng)導(dǎo)地位，這是首款可供芯片制造商用于無人生產(chǎn)環(huán)境的缺陷檢測工具，能拍攝并分析20納米影響良率的缺陷。

　　據(jù)應(yīng)材表示，SEMVision G5獨特的功能可識別并拍攝1納米畫素的缺陷，協(xié)助邏輯與內(nèi)存客戶改善制程，比過去更快且更正確地找出造成缺陷的根本原因。

　　SEMVision G5系統(tǒng)配備最先進(jìn)的1納米畫素、無與倫比的影像質(zhì)量及強大的分析引擎，是唯一的缺陷檢測掃描電子顯微鏡，能夠在極其困難的線路層上，一邊進(jìn)行識別、分析及發(fā)現(xiàn)缺陷，卻同時能提高產(chǎn)出。另外，這套系統(tǒng)在區(qū)別真假警訊或真假缺陷方面樹立了全新的標(biāo)竿，在測試中，這套系統(tǒng)遠(yuǎn)比專業(yè)的操作員更為準(zhǔn)確而快速，能讓客戶更快更常檢查更多晶圓，學(xué)習(xí)曲線更加速、提升良率也更迅速。

　　突破性的SEMVision G5為開放架構(gòu)平臺，具有已定義之檢測策略鏈接庫，可動態(tài)結(jié)合接收自晶圓檢查系統(tǒng)的數(shù)據(jù)。此系統(tǒng)可自動建立新的檢測程序，這是超越其它競爭對手工具的主要優(yōu)勢，因為其它廠商的工具需要以耗時的手動設(shè)定程序，針對每一種芯片類型分別建立檢測方式。這項功能對于晶圓代工客戶至為關(guān)鍵，因為他們必須在每年制造的數(shù)千種新芯片設(shè)計中達(dá)到良好的產(chǎn)能。