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尼康NA超過1的液浸設備半導體商正式采用
- 尼康日前正式宣布,2006年1月已向大型半導體廠商供應用于55nm工藝(hp55)芯片制造、開口數(NA)為1.07的液浸ArF曝光設備“NSR-S609B”。這是全球首次供應NA超過1的液浸ArF曝光設備。 這家大型半導體廠商的名字,尼康沒有公布,估計是過去在技術方面與之開展合作的東芝。 作為全折射型液浸曝光設備,NSR-S609B具有全球最大的NA,配合偏光照明技術,能夠實現(xiàn)很高的分辨率。對于液浸產生的缺陷和重合不穩(wěn)定性的問題,據稱利用名為“Local-fill(局部
- 關鍵字: NA 尼康 嵌入式系統(tǒng)
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