碳化硅 mosfet 文章 進入碳化硅 mosfet技術(shù)社區(qū)
用于SiC MOSFET的隔離柵極驅(qū)動器使用指南
- SiC MOSFET 在功率半導體市場中正迅速普及,因為它最初的一些可靠性問題已得到解決,并且價位已達到非常有吸引力的水平。隨著市場上的器件越來越多,必須了解 SiC MOSFET 與 IGBT 之間的共性和差異,以便用戶充分利用每種器件。本系列文章概述了安森美 M 1 1200 V SiC MOSFET 的關(guān)鍵特性及驅(qū)動條件對它的影響,作為安森美提供的全方位寬禁帶生態(tài)系統(tǒng)的一部分,還將提供 NCP51705(用于 SiC MOSFET 的隔離柵極驅(qū)動器)的使用指南。本文為第三部分,將重點介紹NCP517
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具有更高效率與優(yōu)勢的碳化硅技術(shù)
- 碳化硅(SiC)技術(shù)具有比傳統(tǒng)的硅(Si)、絕緣柵雙極晶體管(IGBT)等技術(shù)具有更多優(yōu)勢,包括更高的開關(guān)頻率,更低的工作溫度,更高的電流和電壓容量,以及更低的損耗,進而可以實現(xiàn)更高的功率密度、可靠性和效率。本文將為您介紹SiC的發(fā)展趨勢與在儲能系統(tǒng)(ESS)上的應用,以及由Wolfspeed推出的SiC電源解決方案。大幅降低儲能系統(tǒng)成本與提升效率的SiC技術(shù)當前的SiC技術(shù)已經(jīng)相當成熟,可以適用在從千瓦到兆瓦功率的工業(yè)應用范圍中,影響了能源、工業(yè)和汽車等眾多領(lǐng)域。由于SiC器件運作時的溫度較低,及較小的
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Nexperia擴充NextPower 80/100 V MOSFET產(chǎn)品組合的封裝系列
- 奈梅亨,2023年6月21日:基礎半導體器件領(lǐng)域的高產(chǎn)能生產(chǎn)專家Nexperia今日宣布擴充NextPower 80/100 V MOSFET產(chǎn)品組合的封裝系列。此前該產(chǎn)品組合僅提供LFPAK56E封裝,而現(xiàn)在新增了LFPAK56和LFPAK88封裝設計。這些器件具備高效率和低尖峰特性,適用于通信、服務器、工業(yè)、開關(guān)電源、快充、USB-PD和電機控制應用。 長期以來,品質(zhì)因數(shù)Qg*RDSon一直是半導體制造商提高MOSFET開關(guān)效率的重點。然而,一味地降低該品質(zhì)因數(shù)導致產(chǎn)生了意外后果
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采用SiC MOSFET的高性能逆變焊機設計要點
- 近年來,為了更好地實現(xiàn)自然資源可持續(xù)利用,需要更多節(jié)能產(chǎn)品,因此,關(guān)于焊機能效的強制性規(guī)定應運而生。經(jīng)改進的碳化硅CoolSiC? MOSFET 1200V采用基于.XT擴散焊技術(shù)的TO-247封裝,其非常規(guī)封裝和熱設計方法通過改良設計提高了能效和功率密度。逆變焊機通常是通過IGBT功率模塊解決方案設計來實現(xiàn)更高輸出功率,從而幫助降低節(jié)能焊機的成本、重量和尺寸[1]。在焊機行業(yè),諸如提高效率、降低成本和增強便攜性(即,縮小尺寸并減輕重量)等趨勢一直是促進持續(xù)發(fā)展的推動力。譬如,多個標準法規(guī)已經(jīng)或即將強制規(guī)
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干貨 | MOSFET結(jié)構(gòu)及其工作原理詳解
- 01?概述MOSFET的原意是:MOS(Metal Oxide Semiconductor金屬氧化物半導體),F(xiàn)ET(Field Effect Transistor場效應晶體管),即以金屬層(M)的柵極隔著氧化層(O)利用電場的效應來控制半導體(S)的場效應晶體管。功率場效應晶體管也分為結(jié)型和絕緣柵型,但通常主要指絕緣柵型中的MOS型(Metal Oxide Semiconductor FET),簡稱功率MOSFET(Power MOSFET)。結(jié)型功率場效應晶體管一般稱作靜電感應晶體管(Sta
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用于車載充電器應用的1200 V SiC MOSFET模塊使用指南
- 隨著電動汽車的車載充電器 (OBC) 迅速向更高功率和更高開關(guān)頻率發(fā)展,對 SiC MOSFET 的需求也在增長。許多高壓分立 SiC MOSFET 已經(jīng)上市,工程師也在利用它們的性能優(yōu)勢設計 OBC 系統(tǒng)。要注意的是,PFC 拓撲結(jié)構(gòu)的變化非常顯著。設計人員正在采用基于 SiC MOSFET 的無橋 PFC 拓撲,因為它有著卓越的開關(guān)性能和較小的反向恢復特性。眾所周知,使用 SiC MOSFET 模塊可提供電氣和熱性能以及功率密度方面的優(yōu)勢。安森美 (onsemi) 在使用 Si MOSFET 技術(shù)的汽
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三極管用飽和Rce,而MOSFET用飽和Vds?
- MOSFET和三極管,在ON 狀態(tài)時,MOSFET通常用Rds,三極管通常用飽和Vce。那么是否存在能夠反過來的情況,三極管用飽和Rce,而MOSFET用飽和Vds呢?MOSFET和三極管,在ON 狀態(tài)時,MOSFET通常用Rds,三極管通常用飽和Vce。那么是否存在能夠反過來的情況,三極管用飽和Rce,而MOSFET用飽和Vds呢?三極管ON狀態(tài)時工作于飽和區(qū),導通電流Ice主要由Ib與Vce決定,由于三極管的基極驅(qū)動電流Ib一般不能保持恒定,因而Ice就不能簡單的僅 由Vce來決定,即不能采用飽和Rc
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中國電科55所高性能高可靠碳化硅MOSFET成功通過技術(shù)鑒定
- 近日,中國電科55所牽頭研發(fā)的“高性能高可靠碳化硅MOSFET技術(shù)及應用”成功通過技術(shù)鑒定。鑒定委員會認為,該項目技術(shù)難度大,創(chuàng)新性顯著,總體技術(shù)達到國際先進水平。該項目聚焦新能源汽車、光伏儲能、智能電網(wǎng)等領(lǐng)域?qū)Ω咝阅芨呖煽刻蓟鐼OSFET器件自主創(chuàng)新的迫切需求,突破多項關(guān)鍵工藝技術(shù),貫通碳化硅襯底、外延、芯片、模塊全產(chǎn)業(yè)鏈量產(chǎn)平臺,國內(nèi)率先研制出750V/150A和6500V/25A的大電流碳化硅MOSFET器件,實現(xiàn)新能源汽車、光伏、智能電網(wǎng)等領(lǐng)域碳化硅MOSFET批量供貨,有力保障碳化硅功率器件供
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碳化硅擴產(chǎn)、量產(chǎn)消息不斷,瑞薩、X-FAB跟進
- 近期,一眾國內(nèi)廠商擴產(chǎn)、量產(chǎn)碳化硅的消息頻繁發(fā)布。如博世收購了美國半導體代工廠TSI以在2030年底之前擴大自己的SiC產(chǎn)品組合;安森美半導體考慮投資20億美元擴產(chǎn)碳化硅芯片;SK集團宣布,旗下SK powertech位于釜山的新工廠結(jié)束試運行,將正式量產(chǎn)碳化硅,產(chǎn)能將擴大近3倍。除此之外,據(jù)外媒報道,日本半導體巨頭瑞薩和德國晶圓代工廠X-FAB也于近日宣布了擴產(chǎn)碳化硅的計劃。其中,瑞薩電子將于2025年開始生產(chǎn)使用碳化硅 (SiC)來降低損耗的下一代功率半導體產(chǎn)品。報道指出,按照計劃,瑞薩電子擬在目
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英飛凌碳化硅晶圓處理黑科技——冷切割
- 近兩年新能源汽車和光伏儲能市場的火熱,讓半導體供應上升到了很多公司戰(zhàn)略層面的考慮因素。特別是SiC的供應更加緊俏。最近幾年用戶對SiC的使用更有經(jīng)驗,逐漸發(fā)揮出了其高效率高功率密度的優(yōu)點,正在SiC使用量增大的階段,卻面臨了整個市場的缺貨的狀態(tài)。碳化硅功率器件缺貨有很多因素,目前前道是最大的瓶頸,特別是前道的“最前端” ,SiC襯底片和外延片是目前缺貨最嚴重的材料。面對這種問題,作為功率半導體的領(lǐng)頭羊英飛凌又有哪些舉措呢?一方面,英飛凌與多家晶圓廠簽訂長期供貨協(xié)議推動其碳化硅(SiC)供應商體系多元化,保
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碳化硅 mosfet介紹
您好,目前還沒有人創(chuàng)建詞條碳化硅 mosfet!
歡迎您創(chuàng)建該詞條,闡述對碳化硅 mosfet的理解,并與今后在此搜索碳化硅 mosfet的朋友們分享。 創(chuàng)建詞條
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