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光刻機(jī)
光刻機(jī) 文章 最新資訊
佳能推出晶圓測(cè)量機(jī)新品 MS-001：比光刻機(jī)精度更高，可提高生產(chǎn)效率
- IT之家 2 月 21 日消息，在邏輯、存儲(chǔ)器、CMOS 傳感器等尖端半導(dǎo)體領(lǐng)域，制造工藝日趨復(fù)雜，半導(dǎo)體元器件制造廠商為了制造出高精度的半導(dǎo)體元器件，需要提高套刻的精度，因而曝光前要測(cè)量的對(duì)準(zhǔn)測(cè)量點(diǎn)也越來(lái)越多。如果在半導(dǎo)體光刻機(jī)中對(duì)數(shù)量眾多的測(cè)量點(diǎn)進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)測(cè)量的話，測(cè)量本身會(huì)非常耗時(shí)，進(jìn)而就會(huì)降低半導(dǎo)體光刻機(jī)的生產(chǎn)效率。為此，半導(dǎo)體制造領(lǐng)域引進(jìn)了晶圓測(cè)量機(jī)，將半導(dǎo)體光刻機(jī)的對(duì)準(zhǔn)測(cè)量功能分離出來(lái)，以此來(lái)確保生產(chǎn)的高精度和效率。2 月 21 日，佳能推出了半導(dǎo)體制造用晶圓測(cè)量機(jī)“MS-001”，該
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淺析中美芯片博弈——美國(guó)加碼對(duì)華為禁令，ASML DUV光刻機(jī)對(duì)華出口或有變
- 2019年，無(wú)論從那個(gè)角度來(lái)說(shuō)，都是最好的一年。在那一年的智能手機(jī)消費(fèi)市場(chǎng)中，手機(jī)品牌競(jìng)爭(zhēng)激烈，紛紛拿出了不少產(chǎn)品力很強(qiáng)的產(chǎn)品，三星、華為、蘋果分別位列全球前三。這一年，是手機(jī)市場(chǎng)巔峰，也是華為最強(qiáng)盛的時(shí)期，這一年，華為全年智能手機(jī)出貨量高達(dá)2.4億臺(tái)，超越蘋果，緊逼三星；這一年，華為的營(yíng)收高達(dá)8588億人民幣，其中智能手機(jī)為主的消費(fèi)者業(yè)務(wù)貢獻(xiàn)了4673億人民幣，占到了一半以上的營(yíng)收比例，是華為最大的營(yíng)收來(lái)源，賺錢能力強(qiáng)。可也就是這一年，美國(guó)開(kāi)始了對(duì)華貿(mào)易戰(zhàn)，開(kāi)始了對(duì)于華為的全面打壓，首先，谷歌禁止了華為
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光刻機(jī)龍頭ASML公布2022全年財(cái)報(bào)佳績(jī)，預(yù)計(jì)2023年凈銷售額同比增長(zhǎng)超25%
- 當(dāng)?shù)貢r(shí)間，2023年1月25日，荷蘭光刻機(jī)龍頭ASML發(fā)布了2022年第四季度和全年業(yè)績(jī)。2022年第四季度的凈銷售額為64億歐元，達(dá)到了預(yù)期目標(biāo)區(qū)間中位，毛利率為51.5%，高于預(yù)期。同時(shí)，毛利率還受到去年ASML柏林工廠火災(zāi)導(dǎo)致的額外升級(jí)和保險(xiǎn)賠償影響。2022年全年ASML總凈銷售額為212億歐元，毛利率為50.5%，凈利潤(rùn)為56億歐元。另外，2022年底，ASML未交付訂單創(chuàng)下歷史新高，達(dá)404億歐元，該年總共銷售317臺(tái)新光刻機(jī)，較前一年增長(zhǎng)31臺(tái)，此外還出貨了28臺(tái)二手光刻機(jī)。展望未來(lái)，ASM
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光刻機(jī)關(guān)鍵原料氖氣價(jià)格暴漲20倍 中企出手后：降下來(lái)了
- 芯片制造離不開(kāi)光刻機(jī)，數(shù)據(jù)顯示，全球晶圓制造材料中的第一大耗材是硅片，第二大就是電子特氣。以光刻為例，需要的電子特氣就包括氖氣、氬氣、氪氣、氙氣等幾種稀有氣體。這是因?yàn)楣饪虤怏w是光刻機(jī)產(chǎn)生激光的光源，難以取代。其中氖氣主要用于深紫外光刻領(lǐng)域，服務(wù)1x nm到180nm芯片的加工。因?yàn)闉蹩颂m占全球氖氣供應(yīng)比例高達(dá)70%，所以去年一度，氖氣的價(jià)格飆升了20倍。不過(guò)來(lái)自TheElec的報(bào)道稱，氖氣的價(jià)格已經(jīng)明顯下跌，這主要是因?yàn)橹袊?guó)、韓國(guó)等供應(yīng)商的加入。
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EUV光刻機(jī)開(kāi)始“落幕”了
- 說(shuō)到光刻機(jī)大家難免會(huì)想到三個(gè)廠商，荷蘭的ASML公司、尼康和佳能。而光刻機(jī)就是制造芯片的核心裝備?，F(xiàn)如今光刻機(jī)領(lǐng)域的核心地位就是荷蘭的ASML，他與臺(tái)積電合作，共同突破了沉浸式DUV光刻機(jī)，也正因?yàn)榇藙?dòng)作，才奠定了ASML在光刻機(jī)領(lǐng)域的核心地位。后續(xù)ASML又推出了更加高端的EUV光刻機(jī)，而且還是獨(dú)家壟斷生產(chǎn)。這就進(jìn)一步使得ASML成為行業(yè)的巨頭。隨著科技的不斷發(fā)展，市場(chǎng)就要越來(lái)越追求高性能以及高要求，ASLM造成的長(zhǎng)時(shí)間壟斷，導(dǎo)致其他同行沒(méi)有辦法發(fā)展。在他自身無(wú)法突破的前提下，他的路是越走越窄。在全球范
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消息稱光刻機(jī)巨頭 ASML 臺(tái)灣地區(qū)新工廠明年 7 月動(dòng)工
- IT之家 12 月 7 日消息，據(jù)臺(tái)灣地區(qū)經(jīng)濟(jì)日?qǐng)?bào)報(bào)道，光刻機(jī)巨頭 ASML 將擴(kuò)大在臺(tái)灣地區(qū)的投資。ASML 臺(tái)灣地區(qū)新工廠預(yù)計(jì)將在明年 7 月動(dòng)工，是該公司在當(dāng)?shù)氐淖畲笸顿Y，并計(jì)劃把歐洲供應(yīng)鏈帶到臺(tái)灣地區(qū)。臺(tái)媒指出，ASML 帶來(lái)的歐洲供應(yīng)鏈將會(huì)落地林口工一研發(fā)中心、桃園龜山兩處，未來(lái)不排除以相同模式陸續(xù)在新竹、臺(tái)中、臺(tái)南落地。此外，ASML 帶來(lái)的主要為設(shè)備維修及組裝。數(shù)據(jù)顯示，2022 年第三季度，ASML 實(shí)現(xiàn)了凈銷售額 58 億歐元（約 425.72 億元人民幣），毛利率為
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三星首次引進(jìn)本土生產(chǎn)光刻膠，日本稱霸該市場(chǎng)
- 12 月 4 日消息，據(jù) ETNews 消息，三星電子首次引入東進(jìn)世美肯半導(dǎo)體的光刻膠進(jìn)入其量產(chǎn)線，這也是三星進(jìn)行光刻膠本土量產(chǎn)的首次嘗試。不過(guò)考慮到三星與海外光刻膠供應(yīng)商的關(guān)系，目前具體產(chǎn)量尚不清楚，且三星是否會(huì)額外引進(jìn)其他品種的光刻膠也并沒(méi)有得到回應(yīng)。報(bào)道稱，三星電子已將韓國(guó)公司開(kāi)發(fā)的用于高科技工藝的極紫外光刻膠（PR）引入其大規(guī)模生產(chǎn)線。2019 年 7 月，日本方面宣布限制向韓國(guó)出口包括含氟聚酰亞胺、光刻膠以及高純度氟化氫在內(nèi)的三項(xiàng)重要半導(dǎo)體及 OLED 面板原材料，經(jīng)過(guò)三年的努力，韓國(guó)實(shí)現(xiàn)了光刻
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有多貴？ASML新EUV光刻機(jī)單臺(tái)硬件造價(jià)2500億：可買三臺(tái)頂級(jí)航母
- 都知道光刻機(jī)單臺(tái)成本非常的貴，但是你知道有多貴嗎？一臺(tái)數(shù)億美元的光刻機(jī)讓我們看到了一款硬件設(shè)備的價(jià)格極限，然而，ASML CEO Peter Wennink最新接受媒體采訪時(shí)透露，他們正在全力研制劃時(shí)代的新光刻機(jī)high-NA EUV設(shè)備，而高NA EUV光刻機(jī)系統(tǒng)的單臺(tái)造價(jià)將在300億到350億歐元之間，約合人民幣2195到2561億元。這個(gè)價(jià)格什么概念，一搜頂級(jí)航母的價(jià)格差不多在100億美元左右，而這臺(tái)硬件設(shè)備可以買三艘頂級(jí)航母，而ASML目前在售的雙工件臺(tái)EUV光刻機(jī)不過(guò)數(shù)億美元，作為下一代產(chǎn)品身價(jià)
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ASML參展第五屆進(jìn)博會(huì) 以開(kāi)放與專注助力行業(yè)合作共贏
- （中國(guó)上海，2022年11月4日）—— 今年，半導(dǎo)體行業(yè)的領(lǐng)先供應(yīng)商ASML將以“光刻未來(lái)，攜手同行”為主題繼續(xù)亮相第五屆中國(guó)國(guó)際進(jìn)口博覽會(huì)（以下簡(jiǎn)稱“進(jìn)博會(huì)”）技術(shù)裝備展區(qū)4.1展館A0-01展臺(tái)。屆時(shí)，ASML將首次通過(guò)“元宇宙”平臺(tái)，帶來(lái)沉浸式的光刻體驗(yàn)，彰顯前沿科技，推動(dòng)行業(yè)發(fā)展。 “今年是ASML第四次參展進(jìn)博會(huì)，我們希望借助進(jìn)博會(huì)的平臺(tái)不斷地展現(xiàn)開(kāi)放共贏、合作發(fā)展的理念?！盇SML全球高級(jí)副總裁、中國(guó)區(qū)總裁沈波表示，“ASML一直秉持開(kāi)放與專注，以‘開(kāi)放式創(chuàng)新’和對(duì)光刻技術(shù)的專注，持
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芯片巨頭美光：成功繞過(guò)了EUV光刻技術(shù)
- 本周美光宣布，采用全球最先進(jìn)1β(1-beta)制造工藝的DRAM內(nèi)存芯片已經(jīng)送樣給部分手機(jī)制造商、芯片平臺(tái)合作伙伴進(jìn)行驗(yàn)證，并做好了量產(chǎn)準(zhǔn)備?！ ?β工藝可將能效提高約15％，存儲(chǔ)密度提升35％以上，單顆裸片(Die)容量高達(dá)16Gb(2GB)?！ ∫粋€(gè)值得關(guān)注的點(diǎn)是，美光稱，1β繞過(guò)了EUV（極紫外光刻）工具，而依然采用的是DUV（深紫外光刻）。 這意味著相較于三星、SK海力士，美光需要更復(fù)雜的設(shè)計(jì)方案。畢竟，DRAM的先進(jìn)性很大程度上取決于每平方毫米晶圓面積上集成更多更快半導(dǎo)體的能力，各公司目
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摩爾定律不死 臺(tái)積電已在謀劃1nm工藝：下代EUV光刻機(jī)是關(guān)鍵
- 在先進(jìn)工藝上，臺(tái)積電今年底量產(chǎn)3nm工藝，2025年則是量產(chǎn)2nm工藝，這一代會(huì)開(kāi)始使用GAA晶體管，放棄現(xiàn)在的FinFET晶體管技術(shù)?！ ≡偻竽?？2nm之后是1.4nm工藝，Intel、臺(tái)積電及三星這三大芯片廠商也在沖刺，其中三星首個(gè)宣布2027年量產(chǎn)1.4nm工藝，臺(tái)積電沒(méi)說(shuō)時(shí)間點(diǎn)，預(yù)計(jì)也是在2027年左右?！ ?.4nm之后就是1nm工藝了，這個(gè)節(jié)點(diǎn)曾經(jīng)被認(rèn)為是摩爾定律的物理極限，是無(wú)法實(shí)現(xiàn)的，但是現(xiàn)在芯片廠商也已經(jīng)在攻關(guān)中?！ ∨_(tái)積電已經(jīng)啟動(dòng)了先導(dǎo)計(jì)劃，傳聞中的1nm晶圓廠將落戶新竹科技園下
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2028年自研7nm光刻機(jī)！俄羅斯真有這個(gè)能耐？
- 2028年實(shí)現(xiàn)光刻機(jī)自研，可支持7nm芯片制造！俄羅斯真有這個(gè)能耐？在芯片規(guī)則不斷的升級(jí)之下，各個(gè)國(guó)家不再相信基于美技術(shù)體系的國(guó)際產(chǎn)業(yè)鏈，而中、俄是產(chǎn)業(yè)被限制最嚴(yán)重的國(guó)家，因此在技術(shù)的自研上反應(yīng)也是最強(qiáng)烈的，在中企相繼傳出好消息之后，俄科學(xué)院也官宣了好消息。根據(jù)海外傳來(lái)的消息，俄科學(xué)院IPF RAS已經(jīng)全力參與光刻設(shè)備的研發(fā)，后續(xù)將會(huì)有整套的半導(dǎo)體設(shè)備誕生，并且其還高調(diào)宣稱：“自研的光刻機(jī)將在2028年商用，并且可用于7nm左右的芯片量產(chǎn)！”這就讓人納悶了，目前俄國(guó)依靠自主化的產(chǎn)業(yè)鏈，就連90nm工藝都無(wú)
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ASML：有望繼續(xù)向中國(guó)出貨非EUV光刻機(jī)
- 近期，全球半導(dǎo)體龍頭設(shè)備企業(yè)阿斯麥（ASML）、泛林（LAM）公布了其最新一季度財(cái)報(bào)，阿斯麥方面，最新一季度銷售額和利潤(rùn)均超出市場(chǎng)預(yù)期，其新的凈預(yù)訂額也創(chuàng)下了紀(jì)錄。此外阿斯麥CEO Peter Wennink表示，ASML有望繼續(xù)向中國(guó)出貨非EUV光刻機(jī)；泛林方面，當(dāng)季公司營(yíng)收創(chuàng)下歷史新高，官方表示，2023年晶圓廠設(shè)備支出將下滑。ASML：有望繼續(xù)向中國(guó)出貨非EUV光刻機(jī)10月19日，光刻機(jī)大廠阿斯麥公布了2022年第三季度財(cái)報(bào)。數(shù)據(jù)顯示，ASML第三季度凈營(yíng)收同比增長(zhǎng)10%至58億歐元，超出此前業(yè)界預(yù)
- 關(guān)鍵字： ASML EUV 光刻機(jī) 泛林
精度遠(yuǎn)超EVU！美企造出全球分辨率最高的光刻機(jī)
- 芯研所9月26日消息，近日美國(guó)開(kāi)發(fā)和商業(yè)化原子精密制造技術(shù)公司Zyvex Labs宣布，其推出了全球分辨率最高的光刻系統(tǒng)——ZyvexLitho1TM。它沒(méi)有采用EUV光刻技術(shù)，而是基于STM掃描隧道顯微鏡，使用的是電子束光刻（EBL）方式。實(shí)現(xiàn)了0.768nm的原子級(jí)精密圖案和亞納米級(jí)分辨率芯片的制造，遠(yuǎn)超EVU光刻機(jī)的精度。目前，5nm級(jí)及以下的尖端半導(dǎo)體制程必須采用EUV光刻機(jī)，而精度更高的2nm制程所使用的ASML新一代0.55 NA EUV光刻機(jī)，售價(jià)或?qū)⒏哌_(dá)4億美元。但想要實(shí)現(xiàn)1nm以下更先進(jìn)
- 關(guān)鍵字： 光刻機(jī) 美國(guó)
光刻機(jī)介紹
國(guó)外半導(dǎo)體設(shè)備
我公司擁有國(guó)外半導(dǎo)體設(shè)備,包括臺(tái)灣3S公司生產(chǎn)的光刻機(jī),涂膠臺(tái),
金絲球焊機(jī),電子束蒸發(fā)臺(tái)。
濺射臺(tái)及探針臺(tái)等各種設(shè)備,世界知名劃片機(jī)企業(yè)英國(guó)Loadpoint公司生產(chǎn)的6英寸--12英寸
精密劃片機(jī)，300毫米清洗機(jī),。
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網(wǎng)址:http://www.loadpoint.com.cn
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