真正的核心技術靠化緣是要不來的。我們還有多少亟待攻克的關鍵核心技術，差距在哪，需要從哪些方面突破?
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光刻機
去年，一臺價值1.06億元設備經空運從荷蘭飛抵廈門，由于該設備價值高，而且對保存和運輸有著很高的要求——保存溫度必須保持在23攝氏度恒溫狀態(tài)下，為了避免影響設備的精度，在運輸中也對穩(wěn)定性有極高的要求。因此，機場海關以機坪查驗的方式對該貨物實行全程機邊監(jiān)管，待貨物裝入特制溫控氣墊車后移至海關的機坪視頻監(jiān)控探頭之下，在完成緊急查驗后當晚就放行。
沒錯，這臺設備就是荷蘭ASML的光刻機。鐵流猜測，這臺設備很有可能是廈門當地政府與臺灣聯(lián)華電子合資的晶圓廠從荷蘭ASML采購的。
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Bumotec 光刻機
ASML是集合了西方光學應用科學與半導體尖端制造設備技術于一體的科技龐然大物，它的影響力是任何一個國家在半導體領域都無法忽視的。
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ASML 光刻機
SEMICON China 2017開幕日即3月14日，上海微電子裝備(集團)股份有限公司(后簡稱“SMEE”)宣布，SMEE 與荷蘭公司 ASML 簽署戰(zhàn)略合作備忘錄(MoU)，為雙方進一步的潛在合作奠定了基礎。
根據這項合作備忘錄，ASML 和 SMEE 將探索就 ASML 光刻系統(tǒng)的特定模塊或半導體行業(yè)相關產品進行采購的可能性。此次MoU的簽署代表 ASML 繼日前與上海集成電路研發(fā)中心(ICRD)宣布合作之后，進一步深入參與中國的IC產業(yè)的發(fā)展。
光刻機被稱
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光刻機 ASML
臺積電、三星與英特爾之間先進制程的戰(zhàn)局依舊如火如荼的展開，三方比拼毫不手軟。
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臺積電 光刻機
關鍵字：片內相位測量 模擬光刻機采用特殊照明方式的高/超高數值孔徑（NA）的193nm光刻機和相位移掩膜版（PSM），使得光刻分辨率的極限達到了32nm節(jié)點。不利的因素是掩膜的復雜度正在以指數級遞增，而業(yè)界又迫切需要
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相位測量 模擬 光刻機
ASML近日宣布，兩位使用TWINSCAN 光刻機的芯片制造商實現(xiàn)了生產新紀錄，即在24小時內實現(xiàn)了超過4000片晶圓的處理。這個里程碑記錄是在XT:870和XT:400上實現(xiàn)的，兩家使用者為亞洲的不同客戶。設備幫助他們提高了300mm光刻生產能力。
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光刻機 晶圓
據內存業(yè)者透露，由于著名光刻設備廠商ASML生產的NXT:1950i沉浸式光刻機目前供貨十分緊缺，因此臺系內存芯片廠商收到所訂購的這種設備的時間 可能會再后延12個月之久，由于NXT:1950i沉浸式光刻機對這些廠商轉移到38nm以上級別制程至關重要，因此預計臺系內存芯片廠商制程轉換的進度 會受到較大的影響。NXT:1950i 是荷蘭ASML公司最新開發(fā)的沉浸式光刻機，可用于制造12英寸32nm及以上級別制程的產品.
此前曾有報道稱 NXT:1950i的訂貨至到貨日期已經被拉長到了將近12個月，
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ASML 光刻機 內存芯片
Imec和ASML已合作驗證ASML的Tachyon Source Mask Optimization和可編程照明系統(tǒng)FlexRay，通過22nm SRAM單元的制造展示了其潛在應用價值。今年10月，imec使用的ASML XT：1900i掃描光刻設備將安裝FlexRay產品，幫助imec進一步開拓沉浸式光刻技術的應用。
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ASML 光刻機
ASML日前宣布，其2010年Q2凈銷售達到1,069 million歐元，凈收入為239 million 歐元，Q2的凈訂單價值1,179 million 歐元，包括了48套新系統(tǒng)及11套二手系統(tǒng)。各項數據均較2010年Q1有所提高。
ASML總裁兼CEO Eric Meurice認為，Q2銷售的強勁增長證明了半導體產業(yè)近期對于光刻設備的需求，已有近20套NXT:1950i 設備運出。所有ASML的先進NXT光刻機都包括了一個或多個一體化光刻部件。對于下一代將要應用于20nm以下節(jié)點的產品，E
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ASML 光刻機
Nikon的09半導體設備銷售額與08年相比下降31.7%為16億美元。
09年虧損6,32億美元, 相比于08年盈利8600萬美元。其中半導體用光刻機銷售數量下降40%及LCD用光刻機下降30%。
按路透社報道,日本尼康公司計劃在2011年3月底結算的年度中, 銷售半導體用光刻機48臺, 相比09年的36臺,及LCD用光刻機58臺, 相比09年的45臺。
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Nikon 光刻機
2010年全球存儲器可能出現(xiàn)供應缺貨，而且非?？赡軙永m(xù)下去。為什么?可能有三個原因，1)，存儲器市場復蘇;2)，前幾年中存儲器投資不足;3)，由ASML供應的光刻機交貨期延長。
巴克菜投資公司的分析師 Tim Luke在近期的報告中指出，通過存儲器的食物供應鏈看到大量的例證，認為目前存儲器供應偏緊的局面將持續(xù)2010整年，甚至延伸到2011年。
據它的報告稱，2010年全球NAND閃存的位增長可達70%，而2009增長為41%。2010年全球DRAM的位增長達52%。
Luke認為
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存儲器 NAND 光刻機
2009年對于半導體設備制造商是不可忘懷之年。所有制造商都受到危機的影響，但是2010年半導體工業(yè)正處于恢復之中，然而設備制造商仍面臨眾多的挑戰(zhàn)。
在SEMI主辦的ISS會上Globalfoundries的fab2總經理 Norm Armour列出設備制造商面臨的六大挑戰(zhàn)。
1 兼并加劇
由于在有的設備類中仍有4-5家制造商，所以兼并將加劇。當然也有如光刻機，僅剩下兩家，但是CVD，PVD，Etch仍顯太多。
2 光刻機價格高聳
用在光刻上的投資越來越大(一臺193nm浸
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半導體設備 光刻機 設備制造
在全球金融危機影響下，半導體業(yè)正進入前所未遇的嚴重衰退時期，半導體固定資產投資在2008年下降27.3%基礎上，2009年將再下降34.1%。綜合分析各大分析機構的預測數據，2009年全球半導體業(yè)年銷售額的下降幅度將在15%到20%之間。
半導體設備業(yè)受災最重
半導體產業(yè)鏈中設備業(yè)受到的影響相對最為嚴重。依Gartner公司的官方數據顯示，全球半導體業(yè)固定資產投資兩年來逐漸下滑，2007年為592億美元，2008年下降了27.3%，為490億美元，而09年將再次下降34.1%，為323億美
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應用材料 半導體 存儲器 處理器 光刻機 芯片制造 200906
KLA-Tencor 公司（納斯達克股票代碼：KLAC）今天推出其領先業(yè)界的最新版計算光刻機 PROLITH 11。這種新型光刻機讓用戶首次得以評估當前的二次成像方案，并以較低的成本針對光刻在設計、材料與制程開發(fā)等方面挑戰(zhàn)，嘗試不同的解決方案。這種新型計算光刻機還支持單次成像和浸沒技術。
KLA-Tencor 制程控制信息部副總裁兼總經理 Ed Charrier 指出：“由于光刻復雜性及實驗成本的大幅增加，電路設計師與芯片制造商不得不面對二次成像光刻所帶來的挑戰(zhàn)。計算光刻已成為控制這
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KLA-Tencor 光刻機 二次成像光刻
光刻機介紹
國外半導體設備
我公司擁有國外半導體設備,包括臺灣3S公司生產的光刻機,涂膠臺,
金絲球焊機,電子束蒸發(fā)臺。
濺射臺及探針臺等各種設備,世界知名劃片機企業(yè)英國Loadpoint公司生產的6英寸--12英寸
精密劃片機，300毫米清洗機,。
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