中芯國際和新思科技共同開發(fā)出了基于0.13微米工藝的設計參考流程2.0

    世界領先的半導體設計軟件供應商新思科技有限公司今天宣布其已經(jīng)和中國大陸最大的芯片代工廠中芯國際 (NYSE: SMI; SEHK: 0981.HK) 共同開發(fā)出了基于 0.13微米工藝的設計參考流程2.0。中芯國際和新思科技緊密合作，完成了從 RTL 到 GDSII 的設計流程。該流程基于新思科技的 Galaxy(TM) 設計平臺和中芯國際先進的0.13 微米工藝，不僅解決了在0.13微米工藝設計中遇到的深亞微米設計挑戰(zhàn)，并且縮短了產(chǎn)品上市時間和良率達成時間。 
 
    中芯國際和新思科技參考流程2.0的新增功能中包含了 JupiterXT(TM) 設計布局解決方案。特別是，該方案的電源網(wǎng)絡綜合 (PNS) 與電源網(wǎng)絡分析 (PNA) 能力使得在布局階段就可進行電源規(guī)劃設計。應用了新思科技的 PrimeTime(R) SI，Astro-Xtalk(TM) 和 Astro-Rail(TM) 等工具，該參考流程還具有先進的信號完整性 (SI) 和集成電路可靠性 (IR/EM) 的分析能力。這些功能解決了電遷移 (EM) 所帶來的時序和可靠性問題，避免了通常易出現(xiàn)的電源柵格和電阻增加所導致的電壓下降 (IR-drop) 和對地反彈等問題。最后，該流程還引入了電壓下降的分析，使得用戶可分析其對于時序、性能、功能、抗干擾性能的影響，并能夠對 IC 的可靠性進行分析，從而找到不同問題的折中方案。 
 
    “中芯國際自2004年上半年開始為全球客戶提供0.13微米 CMOS 量產(chǎn)工藝。參考流程2.0更進一步提供給客戶完整的、驗證過的設計方案，包括了先進的布局、信號完整性失效和集成電路可靠性的分析，對0.13 微米工藝的設計具有重要意義?！?nbsp;中芯國際設計服務處副總裁歐陽雄（Paul Ouyang）介紹，”參考流程2.0的開發(fā)是建立在第一個版本的成功與合作的基礎上。我們期待在工藝持續(xù)發(fā)展的過程中和新思科技 持續(xù)保持愉快的合作關系。” 
 
    “中芯國際和新思科技都是大唐微電子的關鍵技術合作伙伴。兩家公司合作開發(fā)的參考設計流程中新增功能可以被我們的工程師使用，幫助我們縮短設計時間并加速達到預期良率。” 大唐微電子技術公司總經(jīng)理趙倫表示，“中芯國際提供的完整工藝組合，和來自新思科技驗證過的設計方案對于實現(xiàn)我們先進的設計需求至關重要?！?nbsp;
 
   “與中芯國際的緊密合作使我們能夠提供這個參考流程，來解決中國市場持續(xù)增長的先進深亞微米工藝需求?！毙滤伎萍嫉膽?zhàn)略市場開發(fā)副總裁 Rich Goldman 表示， “新思科技 會繼續(xù)與中芯國際合作，幫助他們的客戶應用經(jīng)過驗證的設計流程，來縮短完成復雜的 IC 及系統(tǒng)設計的時間。”