光學反射式分布測量技術淺析
加入技術交流群
光學分布探測是一種適用于光纖等連續(xù)光學鏈路的特征參數(shù)測量的技術。反射式分布探測是基于測量光背向散射信號，由光傳輸特性的變化來探測、定位和測量光纖鏈路上因熔接、連接器、彎曲等造成的光學性能改變。光時域反射儀OTDR是這種技術的典型應用。OTDR可以測量整個光纖鏈路的衰減并提供與長度有關的衰減細節(jié),測量具有非破壞性、測量過程快速方便、結果準確直觀的特點。因此在生產(chǎn)、研究以及通信等領域有廣泛應用。為了提高測量性能，在OTDR的基礎上提出了時域相關測量，頻域測量和干涉測量等改進的測量技術。
二、OTDR的測量原理[1]
當光束沿光纖傳播時，由于纖芯折射率的細微不均勻會不斷產(chǎn)生瑞利散射，部分散射光會反向回到輸入端。
測量中的反向散射光有兩種，一種是瑞利散射光，另一種是光纖斷面或光纖連接處產(chǎn)生的菲涅爾反射。假設入射光功率為P0，光纖中l(wèi)處反向散射光傳播到入射端的功率為Ps,光纖l處的衰減系數(shù)為α(l)，則可以得到下列公式：
(1)
(2)
評論