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石墨烯,半導(dǎo)體的「野心家」

作者: 時(shí)間:2024-03-04 來(lái)源:半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫 收藏

前不久,《自然》雜志網(wǎng)站在線發(fā)表了一個(gè)題為《碳化硅上生長(zhǎng)的超高遷移率半導(dǎo)體外延》的研究成果。

本文引用地址:http://2s4d.com/article/202403/455955.htm

這是天津大學(xué)天津納米顆粒與納米系統(tǒng)國(guó)際研究中心馬雷教授團(tuán)隊(duì)在半導(dǎo)體領(lǐng)域取得顯著進(jìn)展,成功制備出高遷移率半導(dǎo)體外延,表現(xiàn)出了 10 倍于硅的性能。

這一突破引起了業(yè)內(nèi)的關(guān)注,石墨烯在半導(dǎo)體界究竟是怎么樣的存在?為什么大家都在關(guān)注石墨烯?

困擾石墨烯研究者數(shù)十年的難題

碳元素是人類(lèi)接觸得最早的元素之一, 也是人類(lèi)利用得最早的元素之一, 作為碳的同素異形體之一的石墨也被人們熟知與研究。

石墨烯是單層石墨,它的碳原子排列和石墨的單原子層雷同,是碳原子以 sp2 雜化軌道組成六角形, 呈蜂巢晶格 (honeycomb crystal lattice) 排列的單層二維晶體。

從理論來(lái)講,人們研究石墨烯已經(jīng)有 70 多年了,但因?yàn)?Landau、Peierls 等研究者指出二維晶體是熱力學(xué)不穩(wěn)定,不能單獨(dú)存在的,石墨烯一直被視為一種理論上的材料。不過(guò),在 2004 年,石墨烯在室溫中被制備出來(lái),掀起了石墨烯研究的熱潮。

之前咱們經(jīng)常談?wù)摰?a class="contentlabel" href="http://2s4d.com/news/listbylabel/label/碳基半導(dǎo)體">碳基半導(dǎo)體,其碳基晶圓的基礎(chǔ)就是石墨烯半導(dǎo)體材料。石墨烯是半導(dǎo)體的「野心家」,那么石墨烯相較于硅基半導(dǎo)體,有什么優(yōu)勢(shì)呢?

第一,高遷移率,即電子在材料中的移動(dòng)速度。遷移率是衡量半導(dǎo)體性能的重要指標(biāo),它決定了電子器件的運(yùn)算速度和功耗。

石墨烯的遷移率是硅的 10 倍以上,這意味著石墨烯半導(dǎo)體可以制造出更快、更節(jié)能的電子器件,例如晶體管、傳感器、顯示屏等。典型的懸浮石墨烯具有高達(dá) 200000cm2V-1s-1 的遷移率,而單晶硅的遷移率只有 1000cm2V-1s-1。這種高電子遷移率意味著更高的運(yùn)行效率和運(yùn)行速度。

第二,高穩(wěn)定性,即材料的結(jié)構(gòu)不易變化。石墨烯是由單層碳原子構(gòu)成的平面結(jié)構(gòu),它的原子間距和鍵角都是最優(yōu)化的,因此它具有很強(qiáng)的力學(xué)強(qiáng)度和熱穩(wěn)定性。石墨烯可以在極端的溫度、壓力和電場(chǎng)下保持其性能,而不會(huì)像硅那樣受到損壞或噪聲的影響。

第三,高靈活性,即材料的形狀可以隨意改變。石墨烯是一種二維材料,它的厚度只有 0.34 納米,相當(dāng)于硅的 1/300,這使得它可以輕松地彎曲、折疊、拉伸,甚至卷成管狀或球狀。石墨烯半導(dǎo)體可以適應(yīng)各種復(fù)雜的形狀和表面,為制造柔性電子、可穿戴設(shè)備、生物醫(yī)療等領(lǐng)域提供了巨大的潛力。

這些優(yōu)勢(shì),都讓石墨烯成為鼎鼎有名的下一代「」的候選人。

但石墨烯當(dāng)半導(dǎo)體還有一個(gè)問(wèn)題,它是零帶隙材料。零帶隙是指禁帶寬度為零。帶隙是導(dǎo)帶的最低點(diǎn)和價(jià)帶的最高點(diǎn)的能量之差,帶隙越大,電子由價(jià)帶被激發(fā)到導(dǎo)帶越難,本征載流子濃度就越低,電導(dǎo)率也就越低。沒(méi)有帶隙的話(huà),就無(wú)法充分實(shí)現(xiàn)邏輯電路必須的晶體管「關(guān)斷(Switch Off)」功能。

所以它不是半導(dǎo)體,而屬于金屬性質(zhì),半導(dǎo)體材料的帶隙寬度都是大于零的,其實(shí)石墨烯在未來(lái)微電子學(xué)領(lǐng)域有極大的應(yīng)用前景,但是其零帶隙的特點(diǎn)阻礙了石墨烯在半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用。

突破零帶隙,就成為了困擾石墨烯研究者數(shù)十年的難題。

如何突破零帶隙?

人們正嘗試向石墨烯中引入帶隙,這將使它變得半導(dǎo)電,室溫遷移率將比硅高一個(gè)數(shù)量級(jí)。

前文提到的突破就是,馬雷教授研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)對(duì)外延石墨烯生長(zhǎng)過(guò)程的精確調(diào)控,成功地在石墨烯中引入了帶隙,創(chuàng)造了一種新型穩(wěn)定的半導(dǎo)體石墨烯。這項(xiàng)科技通過(guò)對(duì)生長(zhǎng)環(huán)境的溫度、時(shí)間及氣體流量進(jìn)行嚴(yán)格控制,確保了碳原子在碳化硅襯底上能形成高度有序的結(jié)構(gòu)。這種半導(dǎo)體石墨烯不僅具有帶隙,在室溫下也擁有遠(yuǎn)超過(guò)硅材料的電子遷移率,并且擁有硅材料所不具備的獨(dú)特性質(zhì)。

馬雷表示:「半導(dǎo)體石墨烯在常溫下具有超過(guò)硅材料十倍的遷移率的同時(shí),擁有 0.6 eV 的帶隙。它是一個(gè)真正意義上的單晶石墨烯半導(dǎo)體。」

具體來(lái)說(shuō),采用的是準(zhǔn)平衡退火方法,來(lái)制備超大單層單晶疇半導(dǎo)體外延石墨烯。目前看,這種方式基本可以滿(mǎn)足工業(yè)化應(yīng)用需求。相較于傳統(tǒng)生產(chǎn)工藝,生長(zhǎng)面積大、均勻性高、工藝流程簡(jiǎn)單、成本低廉,室溫遷移率優(yōu)于目前所有單層晶體至少一個(gè)數(shù)量級(jí)。

其實(shí),在此之前也有一些石墨烯產(chǎn)生禁帶方法。比如說(shuō)直接產(chǎn)生禁帶法和間接產(chǎn)生禁帶法。

直接產(chǎn)生禁帶方面,研究表明,當(dāng)構(gòu)造的石墨烯納米帶寬度小于 10nm 時(shí),可利用納米石墨烯的量子效應(yīng)和邊緣效應(yīng)來(lái)有效地打開(kāi)能帶帶隙,從而使其產(chǎn)生半導(dǎo)體性質(zhì)。2008 年,英國(guó)研究人員制備出僅一個(gè)原子厚幾納米寬的石墨烯量子點(diǎn)器件。在這種尺度下,石墨烯存在約 0.5eV 的禁帶寬度,且器件仍然能保持較好的導(dǎo)電性。

間接產(chǎn)生禁帶方面,主要是通過(guò)引入具有非零禁帶的物質(zhì)作為勢(shì)壘產(chǎn)生禁帶,在石墨烯表面和邊界上構(gòu)造異質(zhì)結(jié),形成異質(zhì)結(jié)晶體管。

石墨烯的提早布局

對(duì)于新材料來(lái)說(shuō),不提早布局,就是慢人一步。因此,美國(guó)、歐盟、韓國(guó)、日本其實(shí)是有所布局的。我們可以分別來(lái)看看。

美國(guó)較早開(kāi)始探索石墨烯電子技術(shù)。從 2006 年開(kāi)始,美國(guó)國(guó)家科學(xué)基金會(huì)設(shè)立了眾多碳基電子基礎(chǔ)研究項(xiàng)目,涵蓋了碳基電子研究和應(yīng)用的各個(gè)領(lǐng)域。開(kāi)展了多項(xiàng)有關(guān)石墨烯、碳納米管、碳化硅的碳基電子技術(shù)研發(fā)項(xiàng)目,主要涵蓋石墨烯電子器件、石墨烯電路、石墨烯傳感器、石墨烯在量子開(kāi)關(guān)等量子技術(shù)中的應(yīng)用。

2008 年,美國(guó)高級(jí)計(jì)劃研究局投資 2200 萬(wàn)元開(kāi)發(fā)碳電子射頻應(yīng)用項(xiàng)目,用于開(kāi)發(fā)新款石墨烯晶體管。2011 年,IBM 制備出具有 155GHz 超高截止頻率的新一代石墨烯晶體管,其具有 40nm 的選通脈沖寬度。

美國(guó)石墨烯和二維材料生產(chǎn)商 Grolltex,2019 年時(shí),宣布完成其新的產(chǎn)能擴(kuò)張,其在加利福尼亞州圣地亞哥的 CVD 單層石墨烯制造廠每年可生產(chǎn) 30,000 個(gè) 8 英寸石墨烯晶圓(在不同基底上)產(chǎn)品。

再來(lái)看歐洲。早在 2013 年 1 月,歐盟委員會(huì)就計(jì)劃把「石墨烯旗艦計(jì)劃」列為首批「未來(lái)新興技術(shù)旗艦項(xiàng)目」之一。設(shè)立了 12 個(gè)應(yīng)用工作組負(fù)責(zé)材料應(yīng)用、復(fù)合材料、光電子、電子設(shè)備、傳感器、生物醫(yī)藥、健康及環(huán)境等研究方向,來(lái)推進(jìn)之后的應(yīng)用落地。這個(gè)計(jì)劃,是歐洲有史以來(lái)最大的多方合作研究計(jì)劃,投資預(yù)算達(dá) 10 億歐元。

其中,耗資 2000 萬(wàn)歐元的「二維實(shí)驗(yàn)試驗(yàn)線(2D-EPL)」項(xiàng)目 2021 年啟動(dòng),旨在成為首家將石墨烯和層狀材料集成到半導(dǎo)體平臺(tái)的石墨烯晶圓廠,將基于二維材料的創(chuàng)新技術(shù)從實(shí)驗(yàn)室引向規(guī)模化生產(chǎn)和商業(yè)化落地。

日本的研究也是 2000 年代開(kāi)始,日本學(xué)術(shù)振興機(jī)構(gòu)從 2007 年起開(kāi)始對(duì)石墨烯相關(guān)材料、器件技術(shù)進(jìn)行資助。

2019 年的時(shí)候,日本宣布了精確合成出「石墨烯納米帶」。日本的高校和企業(yè)組成聯(lián)合團(tuán)隊(duì),共同開(kāi)發(fā)出了通過(guò)精確控制結(jié)構(gòu)將其合成為帶狀的方法,并成功制作了較寬的「石墨烯納米帶(GNR)」。

在報(bào)道的相關(guān)新聞中提到,GNR 作為半導(dǎo)體具有非常優(yōu)異的電氣特性。此次制作的 GNR 寬約 2 納米,相當(dāng)于 17 個(gè)原子,與電流易流動(dòng)性相關(guān)的「帶隙」僅 0.6eV 左右,作為既可以成為絕緣體也可以成為導(dǎo)體的半導(dǎo)體材料,表現(xiàn)出了最佳性質(zhì)。

韓國(guó)方面,最近,三星電子和 LG 電子正加速開(kāi)發(fā)基于石墨烯的組件,旨在提升半導(dǎo)體和家電產(chǎn)品的耐用性與能源效率。

值得注意的是,三星電子是石墨烯領(lǐng)域的先驅(qū)之一,早在 2014 年,就已經(jīng)成功地實(shí)現(xiàn)了石墨烯的商業(yè)化生產(chǎn)。三星電子應(yīng)用了自己的專(zhuān)利技術(shù),制造出具有高性能的石墨烯薄膜和石墨烯復(fù)合材料,并用于豐富的應(yīng)用中。到目前為止,三星電子在石墨烯領(lǐng)域擁有 220 多個(gè)專(zhuān)利,數(shù)量是其他上市公司的兩倍以上。這些專(zhuān)利涵蓋了石墨烯的各個(gè)方面,包括生產(chǎn)、制備、應(yīng)用等,為三星電子在石墨烯市場(chǎng)中贏得了強(qiáng)有力的優(yōu)勢(shì)。

結(jié)語(yǔ)

傳統(tǒng)硅基集成電路產(chǎn)業(yè)賴(lài)以生存的摩爾定律日益逼近物理極限,帶來(lái)產(chǎn)學(xué)界對(duì)于集成電路產(chǎn)業(yè)未來(lái)發(fā)展的擔(dān)憂(yōu)。這一背景下,石墨烯因具備優(yōu)異的電學(xué)特性、導(dǎo)熱性等優(yōu)勢(shì),而被視為有望取代硅基材料的后備材料之一。

在半導(dǎo)體銷(xiāo)售額不斷增長(zhǎng)的今天,如何能夠更好地減少在半導(dǎo)體芯片方面的投入是未來(lái)不得不面對(duì)的問(wèn)題。

在 2016 年時(shí),曾獲 2010 年諾貝爾物理學(xué)獎(jiǎng)的 K. S. Novoselo 展望過(guò),認(rèn)為 2020 年后石墨烯晶體管也許可以代替硅技術(shù)。現(xiàn)在看來(lái),似乎還有很長(zhǎng)一段距離。石墨烯應(yīng)用于邏輯晶體管中仍有很多的問(wèn)題需要被解決。

不過(guò),道阻且長(zhǎng),行則將至。



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