新聞中心

EEPW首頁 > 光電顯示 > 業(yè)界動態(tài) > 英特爾研究院公布集成光電研究新進(jìn)展

英特爾研究院公布集成光電研究新進(jìn)展

—— 英特爾展示了集成在硅晶圓上的,被緊密控制的八波長激光陣列,具備適配功率和均勻波長間隔
作者: 時間:2022-06-29 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

宣布其研究取得重大進(jìn)展,這是提高數(shù)據(jù)中心內(nèi)和跨數(shù)據(jù)中心帶寬的下一個前沿領(lǐng)域。這一最新研究在多波長集成光學(xué)領(lǐng)域取得了業(yè)界領(lǐng)先的進(jìn)展,展示了完全集成在硅晶圓上的八波長分布式反饋(DFB)激光器陣列,輸出功率均勻性達(dá)到+/- 0.25分貝(dB),波長間隔均勻性到達(dá)±6.5%,均優(yōu)于行業(yè)規(guī)范。

本文引用地址:http://2s4d.com/article/202206/435680.htm

 

資深首席工程師榮海生表示:“這項新的研究表明,均勻密集的波長和良好適配的輸出功率是可以同時實現(xiàn)的,最重要的是,能夠利用英特爾晶圓廠現(xiàn)有的生產(chǎn)和制程控制技術(shù)做到這一點。因此,它為下一代光電共封裝和光互連器件的量產(chǎn)提供了一條清晰的路徑?!?/p>

 

利用這一新進(jìn)展生產(chǎn)的光源將具備未來大規(guī)模應(yīng)用所需的性能,如可用于那些處理AI和機(jī)器學(xué)習(xí)等新興網(wǎng)絡(luò)密集型工作負(fù)載的光電共封裝和光互連器件。這一激光器陣列基于英特爾300毫米硅光子制程制造,為量產(chǎn)和廣泛部署鋪平了道路。

 

據(jù)Gartner預(yù)測,到2025年,超過20%的數(shù)據(jù)中心高帶寬通道將使用硅光子,而在2020年這一比例還不到5%。此外,硅光子潛在市場的規(guī)模也達(dá)到了26億美元。對低功耗、高帶寬和快速的數(shù)據(jù)傳輸?shù)男枨髱砹斯韫庾有枨蟮耐皆鲩L,以支持?jǐn)?shù)據(jù)中心應(yīng)用和其它方面。

 

光連接在20世紀(jì)80年代開始取代銅線,是因為光纖中固有的高帶寬光傳輸優(yōu)于通過金屬線纜傳輸?shù)碾娒}沖。從那時起,由于組件尺寸和成本的降低,光纖技術(shù)變得更加高效,促成了過去幾年里光互連網(wǎng)絡(luò)解決方案的突破性進(jìn)展,這些進(jìn)展通常用于交換機(jī)、數(shù)據(jù)中心和其他高性能計算環(huán)境。

 

隨著電氣互連性能逐漸接近實際極限,將硅電路和光學(xué)器件并排集成在同一封裝上,有望在未來提高輸入/輸出(I/O)接口的能源效率,延長其傳輸距離。這些光子技術(shù)是在英特爾晶圓廠中使用現(xiàn)有制程技術(shù)實現(xiàn)的,這意味著在實現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)后,其成本將會降低。

 

最新的光電共封裝解決方案使用了密集波分復(fù)用(DWDM)技術(shù),展現(xiàn)了在增加帶寬的同時顯著縮小光子芯片尺寸的前景。然而,截止到目前,要制造具有均勻波長間隔和功率的密集波分復(fù)用光源還非常困難。

 

英特爾的這一新進(jìn)展則確保了光源在保持波長分隔一致性的同時有均勻的輸出功率,滿足了光計算互聯(lián)和密集波分復(fù)用通信的需求。使用光互連的下一代輸入/輸出接口可針對未來AI和機(jī)器學(xué)習(xí)工作負(fù)載的極高帶寬需求進(jìn)行定制。

 

image.png

8個微環(huán)調(diào)制器和光波導(dǎo)。每個微環(huán)調(diào)制器都被調(diào)節(jié)到特定的波長(或者說“光色”)。利用多波長,每個微環(huán)都可單獨調(diào)制光波,以實現(xiàn)獨立通信。這種使用多個波長的方法就叫做波分復(fù)用。(圖片來源:英特爾公司)

 

八波長分布式反饋激光器陣列是在英特爾的商用300 mm混合硅光子平臺設(shè)計和制造的,這一平臺被用于量產(chǎn)光收發(fā)器?;谂c制造300 mm硅晶圓相同的,嚴(yán)格制程控制下的光刻技術(shù),此項創(chuàng)新實現(xiàn)了大型CMOS晶圓廠激光器制造能力的重大飛躍。

 

image.png

8通道III-V族/硅混合分布式反饋激光器陣列。通過實現(xiàn)匹配功率和均勻波長間隔,這一創(chuàng)新標(biāo)志著大型晶圓廠量產(chǎn)多波長激光器能力的重大飛躍。

 

在這項研究中,英特爾使用了先進(jìn)的光刻技術(shù),以在III-V族晶圓鍵合制程前完成硅片中波導(dǎo)光柵的配置。與在三或四英寸III-V族晶圓廠制造的普通半導(dǎo)體激光器相比,這項技術(shù)提高了波長均勻性。此外,由于激光器的高密度集成,陣列在環(huán)境溫度改變時也能保持通道間距的穩(wěn)定。

 

未來,作為硅光子技術(shù)的先鋒,英特爾將繼續(xù)致力于研究各類解決方案,以滿足日益增長的對效率更高、功能更全面的網(wǎng)絡(luò)基礎(chǔ)設(shè)施的需求。目前,英特爾正在開發(fā)的關(guān)鍵構(gòu)建模塊包括光的產(chǎn)生、放大、檢測、調(diào)制、CMOS接口電路和封裝集成。

 

此外,八波長集成激光器陣列制造技術(shù)的許多方面正被英特爾的硅光子產(chǎn)品部門(Silicon Photonics Products Division)用于打造未來的光互連芯粒。這一即將推出的產(chǎn)品將在包括CPU、GPU和內(nèi)存在內(nèi)的各種計算資源之間,實現(xiàn)低功耗、高性能、太比特每秒(multi-terabits per second)的互連。對實現(xiàn)光互連芯粒的大規(guī)模制造和部署而言,集成激光器陣列是縮小體積、降低成本的關(guān)鍵。




評論


技術(shù)專區(qū)

關(guān)閉