中科院微電子研究所將助推粵芯半導(dǎo)體先進(jìn)光刻工藝研發(fā)

近日，廣東省大灣區(qū)集成電路與系統(tǒng)應(yīng)用研究院計(jì)算光刻研發(fā)中心主任、國家級(jí)高端技術(shù)人才專家、中國科學(xué)院微電子研究所研究員韋亞一與研究員粟雅娟蒞臨粵芯半導(dǎo)體。

2020年突如其來的新冠肺炎疫情正在以前所未有之勢改變著人們的生活和工作方式，并對(duì)全球經(jīng)濟(jì)造成了一定的沖擊。新一代信息技術(shù)在疫情防控中發(fā)揮重要作用，這也使得信息行業(yè)的基石—芯片產(chǎn)業(yè)再一次被聚焦在全國人民的聚光燈下。我國集成電路市場需求龐大,但整體技術(shù)、制造工藝與國外差距較大, 掌握國際先進(jìn)制造技術(shù)的重要性不言而喻。

面對(duì)快速發(fā)展的芯片市場，粵芯半導(dǎo)體在加快釋放產(chǎn)能的同時(shí)，也將在先進(jìn)制程技術(shù)的研發(fā)上持續(xù)加碼投入。光刻作為先進(jìn)制程的卡脖子關(guān)口，需要優(yōu)先攻克。在這次合作調(diào)研上，韋教授從當(dāng)前集成電路制造的光刻工藝需求出發(fā)，詳細(xì)介紹和分析了當(dāng)前光刻工藝的發(fā)展趨勢，系統(tǒng)性地對(duì)光刻工藝模塊的關(guān)鍵要素、銜接關(guān)系進(jìn)行了梳理，結(jié)合粵芯半導(dǎo)體當(dāng)前技術(shù)節(jié)點(diǎn)的特征，厘清了工藝中可能遇到的問題和風(fēng)險(xiǎn)，并給出相應(yīng)的技術(shù)解決方案。在座談會(huì)上，粵芯半導(dǎo)體光刻工程師們還不忘就晶圓廠在實(shí)際的生產(chǎn)工藝研發(fā)過程中所遇到的問題與韋教授一行進(jìn)行了面對(duì)面的深入交流，學(xué)術(shù)交流氛圍濃厚。

此次中科院微電子研究所與粵芯半導(dǎo)體的產(chǎn)學(xué)研合作對(duì)粵芯、粵芯人來說都是一種極大的鼓舞。在未來，粵芯半導(dǎo)體將加速推進(jìn)先進(jìn)制程技術(shù)的研發(fā)和產(chǎn)能的進(jìn)一步釋放，為中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的良性發(fā)展貢獻(xiàn)一份粵芯力量！