2019年IPC APEX展會最佳技術(shù)論文評選結(jié)果揭曉

　　2019年IPC APEX展會的最佳技術(shù)論文，經(jīng)由IPC APEX展會技術(shù)項目委員會投票選出。論文作者表彰會將于2019年1月29日的開題演講會議上舉行。

　　諾基亞公司的Chen Xu和倫敦帝國學院的Jason Stafford合著的《優(yōu)化冷卻氣體模式減少電子設備上的粉塵沉積》榮獲最佳論文榜首，論文演講將于1月31日在表面處理可靠性/鍍金修復/裂隙腐蝕專題技術(shù)會議第36會場舉行。

　　榮獲今年最佳論文獎的第二篇論文是《枕頭缺陷檢測—X-ray檢測的局限性》，作者是Ericsson AB公司的Lars Bruno和Benny Gustafson。此論文演講將于1月29日組裝/檢測—BTC/BGA專題技術(shù)會議第3會場舉行。

　　另一篇獲此殊榮的論文是《印制電路板的氧化殘留物分析》，由The Charles Stark Draper Laboratory公司的Wade Glodman、Andrew Dineen、Hailey Jordan、Curtis Leonard以及雷神公司太空系統(tǒng)部門的Edward Arthur合著而成。此論文內(nèi)容將于1月30日失效分析專題技術(shù)會議第25會場發(fā)布。

　　最佳論文的評選依據(jù)技術(shù)內(nèi)容、原創(chuàng)性、實驗方法及支持結(jié)論的數(shù)據(jù)，圖片質(zhì)量，撰寫的專業(yè)度和簡潔度等因素綜合得出。

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