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意法半導(dǎo)體和Memoir Systems整合突破性的存儲(chǔ)器技術(shù)和半導(dǎo)體制造技術(shù)

作者: 時(shí)間:2013-11-21 來(lái)源:IC設(shè)計(jì)與制造 收藏

  橫跨多重電子應(yīng)用領(lǐng)域、全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體供應(yīng)商(STMicroelectronics,簡(jiǎn)稱(chēng)ST;紐約證券交易所代碼:STM)宣布與Memoir Systems合作開(kāi)發(fā)出革命性的算法內(nèi)存技術(shù)(Algorithmic Memory Technology)。新技術(shù)將用于制造采用全耗盡型絕緣層上硅(FD-SOI,fully-depleted silicon-on-insulator)技術(shù)的專(zhuān)用集成電路(ASIC,application-specific integrated circuits)和系統(tǒng)芯片(SoCs,Systems on Chips) 的內(nèi)部。

本文引用地址:http://2s4d.com/article/192475.htm

  當(dāng)集成到采用FD-SOI技術(shù)的產(chǎn)品時(shí),Memoir Systems的算法沒(méi)有損失任何性能,這歸功于 FD-SOI在功耗和性能上的優(yōu)勢(shì) 。此外,F(xiàn)D-SOI的極低軟錯(cuò)誤率 結(jié)合超低泄漏電流對(duì)于包括網(wǎng)絡(luò)、交通、醫(yī)療和航空等關(guān)鍵應(yīng)用意義重大。

  設(shè)計(jì)支持和服務(wù)執(zhí)行副總裁Philippe Magarshack表示:“就FD-SOI工藝本身而言,F(xiàn)D-SOI配備了ASIC和SoC設(shè)計(jì)工具,與其它制造工藝相比,它可實(shí)現(xiàn)速度更快,散熱更低。而且增加了Memoir Systems的知識(shí)產(chǎn)權(quán)后,我們把FD-SOI產(chǎn)品變得更具吸引力,并展示了其簡(jiǎn)單的移動(dòng)特點(diǎn)。”

  Memoir Systems共同創(chuàng)辦人兼首席執(zhí)行官Sundar Iyer表示:“我們專(zhuān)注于突破技術(shù),實(shí)現(xiàn)更短的設(shè)計(jì)周期和極高的性能,這使我們的同類(lèi)最優(yōu)的算法存儲(chǔ)技術(shù)能夠嵌入FD-SOI平臺(tái),這對(duì)于我們和客戶(hù)都具有重要意義。簡(jiǎn)單的移動(dòng)特點(diǎn)結(jié)合有目共睹的優(yōu)異性能證實(shí),F(xiàn)D-SOI可實(shí)現(xiàn)速度更快、散熱更低、設(shè)計(jì)更簡(jiǎn)單。”

  作為領(lǐng)先的ASIC生產(chǎn)廠商,率先推出了突破性的全耗盡型絕緣層上硅(FD-SOI)制造工藝,擴(kuò)展和簡(jiǎn)化了現(xiàn)有平面體硅制造工藝。FD-SOI晶體管提高了靜電特性,縮短了溝道長(zhǎng)度,因此工作頻率高于采用傳統(tǒng)CMOS制造的晶體管。

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