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匠心獨(dú)運(yùn)——感受MNT的獨(dú)特魅力

發(fā)布人:旺材芯片 時(shí)間:2024-05-07 來(lái)源:工程師 發(fā)布文章
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“在時(shí)代的浪潮中,總有一些企業(yè)以其獨(dú)特的理念和不懈的努力,書寫著屬于自己的傳奇?!?/p>



ENTERPRISE STORY

企業(yè)故事

ENTERPRISE STORY




微納(香港)科技

有限公司(MNT)


微納(香港)科技有限公司(MNT)成立于2014年,總部設(shè)在中國(guó)香港,是一家專門從事半導(dǎo)體設(shè)備與科研設(shè)備代理的高科技公司,致力于為中國(guó)半導(dǎo)體,材料,機(jī)械,醫(yī)學(xué),汽車,航天等領(lǐng)域提供國(guó)際尖端的制造設(shè)備,檢測(cè)設(shè)備及技術(shù)解決方案。








目前, 微納(香港)科技有限公司(MNT)是多家歐美日韓儀器供應(yīng)商在中國(guó)的代理商,主要負(fù)責(zé)相關(guān)設(shè)備在中國(guó)的銷售,技術(shù)支持與售后服務(wù), 產(chǎn)品涵蓋多種晶圓減薄機(jī)、CMP化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)、CMP后清洗機(jī)、晶圓顆粒度測(cè)量系統(tǒng)、磁控濺射鍍膜系統(tǒng)、熱蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng),電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng),納米壓印系統(tǒng)、衍射器件光學(xué)參數(shù)測(cè)量系統(tǒng),光學(xué)散射儀,晶圓厚度測(cè)量系統(tǒng)、晶圓翹曲度測(cè)量系統(tǒng)、晶圓平整度測(cè)量系統(tǒng)、膜厚測(cè)量?jī)x,勻膠機(jī)、噴膠機(jī)、濕法臺(tái)、臨時(shí)鍵合/解鍵合機(jī)、熱板、晶圓貼膜機(jī)、晶圓貼片機(jī)、掃描超聲顯微鏡,共聚焦拉曼顯微鏡,原子力顯微鏡、光學(xué)輪廓儀、納米壓痕儀、微米壓痕儀、納米劃痕儀、微米劃痕儀、摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)、快速退火爐、棱鏡耦合儀等諸多產(chǎn)品,客戶遍及中國(guó)各大高校、科研院所及著名半導(dǎo)體企業(yè)。



我司的服務(wù)理念是:


專業(yè)成就品質(zhì),

服務(wù)創(chuàng)造價(jià)值,

誠(chéng)信鑄就品牌!




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展品推薦


德國(guó)SENTRONICS 晶圓厚度測(cè)試系統(tǒng)


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樣品尺寸:

4寸、6寸、8寸、12寸




采用紅外光譜技術(shù),要用于測(cè)量晶圓的厚度、TTV、Bow、Warp以及wafer上各層薄膜厚度;

采用白光干涉技術(shù),可得到wafer表面的3D形貌,表面粗糙度,TSV等關(guān)鍵尺寸,測(cè)量范圍為0-100um,分辨率為亞納米水平。


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韓國(guó)CTS CMP化學(xué)機(jī)械拋光系統(tǒng)


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樣品尺寸:

4寸、6寸、8寸、12寸




采用氣囊加載模式,分區(qū)壓力控制(8寸以下分3區(qū),12寸分5區(qū));

拋光墊修整器分區(qū)控制修整(8寸以下分10區(qū),12寸分13區(qū));

采用直驅(qū)線性電機(jī),性能遠(yuǎn)遠(yuǎn)優(yōu)于傳統(tǒng)的伺服電機(jī);

片內(nèi)非均勻性WIWNU 1sigma,去邊5mm< 5%;

片間非均勻性WTWNU 1sigma,去邊5mm< 3%;


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德國(guó)OSIRIS濕法臺(tái)、CMP后清洗機(jī)、勻膠機(jī)、噴膠機(jī)、顯影機(jī)、刻蝕機(jī)、熱板


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兼容:

2、4、6、8、12寸晶圓




手動(dòng)/全自動(dòng)(帶機(jī)械臂/Cassette)可選;

極高的均勻性及穩(wěn)定性(勻膠設(shè)備均勻性<1%,濕法刻蝕設(shè)備均勻性<3%);

濕法刻蝕/清洗設(shè)備集成自動(dòng)混液系統(tǒng)



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