臺積電前副總裁林本堅：美國徒勞，難阻中國芯片發(fā)展

臺積電前副總裁林本堅表示，美國不可能完全阻止中國改進芯片技術，試圖限制中國的進步，這是徒勞的。

林本堅本周接受采訪時表示，美國應該專注于保持其芯片設計領先地位，而不是對抗中國的整體國家戰(zhàn)略。

林本堅在業(yè)界備受推崇，因為他是第一個提出浸沒式微影曝光技術的人，這是ASML核心產品所依賴的技術。林本堅說，除了努力達到5nm里程碑之外，中國可能還會嘗試新材料或先進芯片封裝，以制造更強大的半導體。

林本堅表示，中國可以使用現有的舊機器制造更復雜的芯片。中芯應該能夠利用已經營運的ASML曝光機推進到下一代5nm制程。

林本堅補充說：「美國真正應該做的是專注于保持其芯片設計領先地位，而不是試圖限制中國的進步，這是徒勞的，因為中國正在采取舉國戰(zhàn)略來發(fā)展芯片產業(yè)」。

來源：芯榜

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