ASML德國工廠起火，產線損失未知

1月3日，路透社消息，芯片光刻機龍頭ASML周一表示，其在德國柏林的一家工廠發(fā)生火災。廠房部分區(qū)域受損，自動清洗設備噴灑了約200平方公尺。好在暫時無人傷亡， 但是詳細損失及產能規(guī)模的影響還需要評估。

據柏林市消防單位稱，廠房的生產設備目前不可用，火災原因和損失程度仍在調查中。

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起火工廠

前身是ASML的供應商Berliner Glas

隨后，ASML也在官網公布了關于該工廠的火災消息，從官網的信息來看，發(fā)生火災的工廠主要生產ASML的光刻機制造零件。

這家德國柏林的ASML工廠前身是Berliner Glas，為ASML的光刻機系統(tǒng)的零件制造和供應工廠。，包括晶圓臺(wafer tables)、光罩盤(reticle chucks)、反射鏡(mirror blocks)等。 

ASML在2020年收購德商Berliner Glas，后者是光學、機械及電子系統(tǒng)解決方案的開發(fā)商及OEM(代工生產)制造商，當時并未公開收購金額。 該公司的銷售額為 2.3 億歐元（2.61 億美元）。

ASML表示，目前就損失或火災是否會對今年的產出計劃產生任何影響發(fā)表任何聲明還為時過早，還需要幾天時間來評估損失，會盡快向市場提供最新消息。 

“目前就損害或該事件是否會對今年的產量計劃產生任何影響發(fā)表任何聲明還為時過早，”ASML 表示，并補充說評估損害需要幾天時間，并將盡快地公布。

不過，ASML 的股價，在傳出發(fā)生火災之前持續(xù)維持上漲約1% 的態(tài)勢。但是，在傳出發(fā)生火災事件之后，則是股價下跌約0.3% 幅度，來到每股704.4 歐元的價位。

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無法替代的ASML

目前全球半導體短缺，ASML 作為幾乎所有主要計算機芯片制造商的關鍵設備供應商，替全球芯片制造商生產關鍵設備，擁有獨家極紫外光（EUV）微影設備，與臺積電、三星及英特爾都有密切合作關系，中國臺灣也設有相關部門，在臺員工人數(shù)初估達2000人。目前正在滿負荷運轉，任何發(fā)貨延遲都會影響試圖擴大產能的客戶。 

早前ASML CEO曾指出，疫情持續(xù)加速數(shù)字化轉型，為解決芯片缺貨問題，IDM廠、晶圓代工廠、存儲器廠均擴大投資提高產能，且投資項目聚集在先進制程產能，進一步推動邏輯IC及DRAM的EUV設備強勁需求。ASML今年EUV設備產能約達45～50臺且供不應求，明年預期將提高至55臺，且都將用于生產效率提升15％的新一代NXE: 3600D曝光機，新機臺在客戶晶圓廠每小時曝光產量（throughput）已達160片。

根據ASML召開分析師會議中資料，隨著邏輯IC制程明年跨入3納米世代，DRAM制程微縮至14納米以下，單片晶圓EUV曝光光罩層數(shù)正在快速提升，ASML預估先進邏輯制程晶圓2021年EUV曝光層數(shù)平均已逾10層，至2023年將增加到逾20層，EUV光刻機未來幾年都會供不應求，ASML的EUV光刻機訂單一路滿到2025年。

隨著EUV光刻技術變得越來越重要，ASML的優(yōu)勢也越發(fā)明顯。

不過，光刻機供貨商除阿斯麥之外，還有日本廠商尼康(Nikon)和佳能(CAJ.US)，這兩家在深紫外線(DUV，光源波長比EUV長)的光刻技術上能與ASML競爭，但ASML作為企業(yè)龍頭，在DUV光刻領域，也擁有62%的市場份額。

但是在EUV領域，只有ASML一家能生產。

此外，ASML的第一臺高NA EUV光刻機預計將在2023年開放早期訪問，2024年到2025年開放給客戶進行研發(fā)并從2025年開始量產。據悉，相較于當前0.33NA的EUV光刻機，0.55NA有了革命性進步，它能允許蝕刻更高分辨率的圖案。分析師Alan Priestley稱，0.55NA光刻機一臺的價格會高達3億美元（約合19億元），是當前0.33NA的兩倍。

有分析師表示，大火可能會限制ASML產量(至少在短期內)，從而阻礙計劃中的晶圓代工生產。