首頁　 資訊　 商機 　 下載　 拆解 　 高校　 招聘 　 雜志　 會展　 EETV　 百科 　 問答　 電路圖　 工程師手冊 　 Datasheet　 100例 　 活動中心　 E周刊閱讀 　 樣片申請
EEPW首頁 >> 主題列表 >> 微光刻

IMEC將在SPIE會議上發(fā)布下一代半導(dǎo)體微光刻研究進展

  • ??????? IMEC將于2月23日至27日在美國加州San Jose舉行的SPIE先進微光刻會議上展現(xiàn)半導(dǎo)體光刻研究中最新的研發(fā)突破。 ??????? IMEC將在會上發(fā)表26片論文。這些論文報道了IMEC及其世界領(lǐng)先的EUV和雙版光刻技術(shù)合作伙伴在32nm以下節(jié)點光刻技術(shù)中所獲得的成果。光刻技術(shù)的一系列挑戰(zhàn)都在這些論文中有所涉及，包括材料、制造工藝、測量、檢測
  • 關(guān)鍵字： IMEC  微光刻  半導(dǎo)體  
共1條 1/1 1

微光刻介紹

您好，目前還沒有人創(chuàng)建詞條微光刻!
歡迎您創(chuàng)建該詞條，闡述對微光刻的理解，并與今后在此搜索微光刻的朋友們分享。    創(chuàng)建詞條

熱門主題

樹莓派    linux   
關(guān)于我們 - 廣告服務(wù) - 企業(yè)會員服務(wù) - 網(wǎng)站地圖 - 聯(lián)系我們 - 征稿 - 友情鏈接 - 手機EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢有限公司
備案 京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052    京公網(wǎng)安備11010802012473