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SEMI將在日本召開全球平板顯示合作伙伴峰會
- SEMI將在日本召開全球平板顯示合作伙伴峰會 SEMI今天宣布了即將舉行的全球平板顯示合作伙伴峰會(GFPC)專題演講嘉賓名單。本次峰會將于2005年2月27日至3月2日在日本沖繩縣名護市舉行,屆時將為全球平板顯示產業(yè)鏈內的高層管理者提供寶貴的信息交流及合作機會。SEMI選擇在一個遠離工業(yè)區(qū),但交通方便且自由放松的環(huán)境來舉辦此次業(yè)內領袖的年度聚會,將有效的促進產業(yè)鏈內的商業(yè)聯系,討論與解決影響產業(yè)未來發(fā)展的各種問題。與會人員將來自與全球平板顯示產業(yè)鏈的設備與材料供應商,面板制造商,面板應用商,顯示技術研
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SEMI:大陸小尺寸芯片供貨商實力不可小覷
- 據國際半導體設備暨材料協會(SEMI)透露,我國正逐步發(fā)展成對業(yè)界具有指導意義的芯片產業(yè),其中包括一家有300mm芯片制造能力的公司。SEMI的半導體分析師Samuel Ni和Dan Tracy在最近的一份電子郵件中表示,“中國擁有不少重要的芯片供貨商?!?nbsp; “中國最大的芯片生產商包括:有研半導體材料股份有限公司,寧波立立電子,麥斯克電子材料有限公司(MCL),上海申和熱磁電子,上海合晶硅材料有限公司(WaferWorks)和萬向硅峰
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Si2和SEMI宣布聯手改良 集成電路可制造性設計
- 2005年4月15日,德州奧斯汀,加州圣何塞——Silicon Integration Initiative(Si2)和SEMI于今日宣布一項合作協議,旨在應對日益復雜的集成電路可制造性設計以及不斷增長的成本問題。 半導體的設計制造日趨復雜,因此亟須設計商、制造商和技術供應商通力合作,以共同應對這一難題。SEMI成員已充分意識到這一需要,并對可制造性設計(DFM)這一領域頗感興趣。而Si2成員同樣在尋求更加深入地了解制造流程,以期開發(fā)出全新的工具和技術用于創(chuàng)造更為穩(wěn)健的設計方案,
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Si2和SEMI宣布聯手改良集成電路可制造性設計
- Silicon Integration Initiative(Si2)和SEMI于今日宣布一項合作協議,旨在應對日益復雜的集成電路可制造性設計以及不斷增長的成本問題。 半導體的設計制造日趨復雜,因此亟須設計商、制造商和技術供應商通力合作,以共同應對這一難題。SEMI成員已充分意識到這一需要,并對可制造性設計(DFM)這一領域頗感興趣。而Si2成員同樣在尋求更加深入地了解制造流程,以期開發(fā)出全新的工具和技術用于創(chuàng)造更為穩(wěn)健的設計方案,并在制造流程早期實現更高收益。SEMI總裁兼首席執(zhí)行官麥雅斯說
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IEEE和SEMI簽署了一項關于共同制定納米技術和微電子機械系統(tǒng)標準的協議
- SEMI和IEEE簽署了一項關于合作項目的諒解備忘錄,該項目旨在創(chuàng)建納米技術和微電子機械系統(tǒng)(MEMS)標準。此協議的簽訂標志著協議雙方的首度標準協調合作。根據該理解備忘錄,SEMI和IEEE將確定有關聯絡事宜,說明定期的信息交流計劃并安排定期召開聯合會議。備忘錄中還提供各自委員會會議的最新資料并發(fā)布關于納米技術和微電子機械系統(tǒng)標準信息。 IEEE標準協會正在積極推進其納米技術標準,并預計在2005年出臺碳納米管的測量標準。同樣,SEMI的MEMS動議也顯示了對這一標準的關注?!霸搨渫泴{米技術、ME
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