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設(shè)定相位同調(diào)RF量測(cè)系統(tǒng):從MIMO到波束賦形

- 自從傳送出第一筆無(wú)線電波之后,工程師就持續(xù)發(fā)明新方法,以優(yōu)化電磁微波訊號(hào)。RF 訊號(hào)已廣泛用于多種應(yīng)用,其中又以無(wú)線通信與 RADAR 的 2 項(xiàng)特殊應(yīng)用正利用此常見(jiàn)技術(shù)。就本質(zhì)而言,此 2 項(xiàng)應(yīng)用的獨(dú)到之處,即是利用電磁波的空間維度 (Spatial dimension)。直到今天,許多無(wú)線通信系統(tǒng)整合了多重輸入/輸出 (MIMO) 天線架構(gòu),以利用多重路徑的訊號(hào)傳播 (Propagation) 功能。
- 關(guān)鍵字: NI RF MIMO
RF WCDMA基準(zhǔn)比較測(cè)試
- 電子產(chǎn)品世界,為電子工程師提供全面的電子產(chǎn)品信息和行業(yè)解決方案,是電子工程師的技術(shù)中心和交流中心,是電子產(chǎn)品的市場(chǎng)中心,EEPW 20年的品牌歷史,是電子工程師的網(wǎng)絡(luò)家園
- 關(guān)鍵字: 基準(zhǔn)比較測(cè)試 RF WCDMA PXI RF儀器
設(shè)定相位同調(diào) RF 量測(cè)系統(tǒng):從 MIMO 到波束賦形
- 設(shè)定相位同調(diào) RF 量測(cè)系統(tǒng):從 MIMO 到波束賦形概觀自從傳送出第一筆無(wú)線電波之后,工程師就持續(xù)發(fā)明新方法,以優(yōu)化電磁微波訊號(hào)。RF 訊號(hào)已廣泛用于多種應(yīng)用,其中又以無(wú)線通信與 RADAR 的 2 項(xiàng)特殊應(yīng)用正利用此常見(jiàn)
- 關(guān)鍵字: MIMO RF 設(shè)定 量測(cè)系統(tǒng)
AMD明年啟用28nm CMOS工藝
- AMD公司高級(jí)副總裁兼首席技術(shù)官M(fèi)ark Papermaster表示,AMD在2013年芯片生產(chǎn)工藝將有重大變化,將完全從現(xiàn)有的SOI制造工藝切換到28nm Bulk CMOS工藝。至于GPU制造,AMD并不打算作出任何改變。目前南方群島系列GPU,已經(jīng)采用臺(tái)積電28nm工藝,而AMD秋季即將推出的海島系列GPU將繼續(xù)采用相同工藝,海島系列GPU已經(jīng)進(jìn)入樣品試生產(chǎn)階段,在2012年年底開始生批量生產(chǎn),在2013年第一季度正式發(fā)布。 在評(píng)論異構(gòu)系統(tǒng)架構(gòu)(HSA)聯(lián)盟,是否用來(lái)應(yīng)對(duì)英特爾和NVIDI
- 關(guān)鍵字: ARM CMOS
一種新型高速CMOS全差分運(yùn)算放大器設(shè)計(jì)
- 摘要:設(shè)計(jì)了一種基于流水線模/數(shù)轉(zhuǎn)換系統(tǒng)應(yīng)用的低壓高速CMOS全差分運(yùn)算放大器。該運(yùn)放采用了折疊式共源共柵放大結(jié)構(gòu)與一種新型連續(xù)時(shí)間共模反饋電路相結(jié)合以達(dá)到高速度及較好的穩(wěn)定性。設(shè)計(jì)基于SMIC 0.25mu;m CM
- 關(guān)鍵字: CMOS 全差分 放大器設(shè)計(jì) 運(yùn)算
聯(lián)電與星國(guó)微電子開發(fā)TSV技術(shù)
- 聯(lián)華電子與新加坡科技研究局旗下的微電子研究院今天宣布,將合作進(jìn)行應(yīng)用在背面照度式CMOS影像感測(cè)器的TSV技術(shù)開發(fā),透過(guò)這項(xiàng)技術(shù),包括智慧手機(jī)、數(shù)位相機(jī)與個(gè)人平板電腦等行動(dòng)電子產(chǎn)品,里面所采用的數(shù)百萬(wàn)像素影像感測(cè)器,都可大幅提升產(chǎn)品效能、降低成本、體積減少。 聯(lián)電指出,市場(chǎng)上對(duì)于持續(xù)縮小像素,又能兼顧效能的需求,日益增強(qiáng),帶動(dòng)CMOS影像感測(cè)技術(shù)興起,而背面照度式技術(shù)則普遍被視為能夠讓微縮到微米級(jí)大小的像素,仍保有優(yōu)異效能的解決方案。 聯(lián)電指出,這次專案目標(biāo),希望提影像感測(cè)器靈敏度,支援更
- 關(guān)鍵字: 聯(lián)華 CMOS 微電子
IMEC探討10nm以下制程變異
- 在可預(yù)見(jiàn)的未來(lái),CMOS技術(shù)仍將持續(xù)微縮腳步,然而,當(dāng)我們邁入10nm節(jié)點(diǎn)后,控制制程復(fù)雜性和變異,將成為能否驅(qū)動(dòng)技術(shù)向前發(fā)展的關(guān)鍵,IMEC資深制程技術(shù)副總裁An Steegen在稍早前于比利時(shí)舉行的IMEC Technology Forum上表示。 明天的智慧系統(tǒng)將會(huì)需要更多的運(yùn)算能力和儲(chǔ)存容量,這些都遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)今天的處理器和記憶體所能提供的極限。而這也推動(dòng)了我們對(duì)晶片微縮技術(shù)的需求。 在演講中,Steegen了解釋IMEC 如何在超越10nm以后繼續(xù)推動(dòng)晶片微縮。在10nm之后,或許還
- 關(guān)鍵字: IMEC CMOS 10nm
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