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電子束導向設計eBeam創(chuàng)始計劃正式運作

  • 　　2009年2月24日，加州圣荷西訊- 多家電子業(yè)領導廠商今天共同宣布eBeam創(chuàng)始計劃正式運作。此平臺主要致力于教育及推廣新的制造設計 (design-to-manufacturing)方法，也稱作電子束導向設計(Design for e-Beam;DFEB)。藉由降低半導體設備的光罩成本，電子束導向設計(DFEB)被視為成為增強設計啟動以及縮短半導體設備上市時間的最終關鍵。 　　本創(chuàng)始計劃會員涵蓋半導體上下產(chǎn)業(yè)鏈，會員分別為Advantest、Alchip Technologies、 Alto
  • 關鍵字： eBeam  光罩  
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