- 先進掩膜技術中心（AMTC）、半導體設備供貨商Vistec和德國國家物理技術研究院（PTB）將共同完成研發(fā)下一代芯片生產技術和量測流程的開發(fā)項目。
德國教育部對此代號為“CDuR32 （32nm掩膜光刻技術的核心演習和使用） ”的研發(fā)項目提供了部分資助。該項目的總預算資金為16.7百萬歐元（約24.3百萬），其中德國政府資助了7.9百萬歐元。
該項目預計為期2.5年，旨在研發(fā)掩膜技術以用于今后其Dresden晶圓廠32nm存儲芯片和22nm微處理器的生產。AMTC由
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掩膜 AMTC 半導體 PTB
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