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佳能發(fā)售半導(dǎo)體光刻機(jī)解決方案平臺(tái)“Lithography Plus”

佳能將于2022年9月5日起發(fā)售解決方案平臺(tái)“Lithography Plus１”服務(wù)（以下簡(jiǎn)稱“Lithography Plus”），該系統(tǒng)匯聚佳能在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域超過(guò)50年的技術(shù)積淀，以包括曝光工藝在內(nèi)的海量半導(dǎo)體制造數(shù)據(jù)為支持，在提升設(shè)備維護(hù)運(yùn)轉(zhuǎn)率的同時(shí)，能夠?qū)崿F(xiàn)半導(dǎo)體制造工藝的優(yōu)化。?佳能陸續(xù)推出了具有高處理性能的KrF光刻機(jī)和支持多種設(shè)備的i線光刻機(jī)等一系列產(chǎn)品，多年來(lái)一直積極地為購(gòu)置佳能光刻機(jī)的客戶提供技術(shù)支持?！癓ithography Plus”通過(guò)綜合運(yùn)用技術(shù)經(jīng)驗(yàn)與數(shù)據(jù)積累，在實(shí)
關(guān)鍵字：佳能半導(dǎo)體光刻機(jī) Lithography Plus

　　電子束光刻系統(tǒng)的知名廠商Vistec Lithography公司近日宣布他們與中國(guó)武漢華中科技大學(xué)光電工程學(xué)院簽署了戰(zhàn)略合作伙伴協(xié)議。武漢華中科技大學(xué)是大陸國(guó)家級(jí)重點(diǎn)院校之一，而 Vistec Lithography則是電子束光刻設(shè)備的領(lǐng)先廠商，按協(xié)議規(guī)定，兩家將在納米光刻技術(shù)研究和教學(xué)領(lǐng)域開(kāi)展合作。　　這次合作的核心是Vistec公司提供給華中科技大學(xué)的EBPG5000pES電子束光刻系統(tǒng)，裝備這套系統(tǒng)之后，華中科技大學(xué)在教學(xué)，科研以及對(duì)外合作方面的實(shí)力將如虎添翼。華中科技大學(xué)稱：“
關(guān)鍵字： Vistec-Lithography 光刻掩膜

　　Maskless Lithography公司今天首次公開(kāi)推出全新的可提高印制電路板(PCB) 生產(chǎn)門檻的直寫(xiě)數(shù)字成像技術(shù)。這種MLI-2027直寫(xiě)光刻系統(tǒng)首次在業(yè)內(nèi)同時(shí)實(shí)現(xiàn)高精度、高生產(chǎn)效率和高成品率，並采用標(biāo)準(zhǔn)的“非激光直接成像(Non-LDI)” 抗蝕劑。Maskless公司今天還宣布Sanmina-SCI公司通過(guò)在洛杉磯的工廠中對(duì)Maskless MLI-2027設(shè)備進(jìn)行測(cè)試、驗(yàn)證和認(rèn)證后，購(gòu)買了該公司的首臺(tái)產(chǎn)品。　　“這臺(tái)設(shè)備的售出標(biāo)志著我們五年的研發(fā)工
關(guān)鍵字： Maskless-Lithography PCB 光刻系統(tǒng) MLI-2027

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