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350nm，俄羅斯光刻機制造完成

  • 5月25日消息，據(jù)外媒報道稱，俄羅斯首臺光刻機已經(jīng)制造完成并正在進行測試。俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里-什帕克指出，該設(shè)備可確保生產(chǎn)350nm（0.35μm）的芯片。圖片來源：塔斯社報道截圖公開資料顯示，350納米尺寸芯片在當(dāng)代較為落后，但是仍然可以應(yīng)用于汽車、能源和電信等多個行業(yè)。該光刻機的研制成功對于俄羅斯未來實現(xiàn)自主生產(chǎn)芯片具有里程碑意義。圖片來源：全球半導(dǎo)體觀察制圖目前，全球光刻機的主要玩家依舊以ASML、尼康、佳能三家為主。據(jù)外媒公開消息，俄羅斯目前主有兩家主要的晶圓廠，分別是Mikron
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俄羅斯首臺光刻機問世

  • 據(jù)外媒報道，目前，俄羅斯首臺光刻機已經(jīng)制造完成并正在進行測試。俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）表示，已組裝并制造了第一臺國產(chǎn)光刻機，作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線的一部分，目前正在對其進行測試，該設(shè)備可確保生產(chǎn)350nm的芯片。什帕克還指出，到2026年將獲得130nm的國產(chǎn)光刻機，下一步將是開發(fā)90nm光刻機，并繼續(xù)向下邁進。此前，俄羅斯曾表示，計劃到2026年實現(xiàn)65nm的芯片節(jié)點工藝，2027年實現(xiàn)28nm本土芯片制造，到2030年實現(xiàn)14nm國產(chǎn)芯片制造。
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350nm介紹

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