等離子體 文章 進(jìn)入等離子體技術(shù)社區(qū)
基于光學(xué)發(fā)射光譜法監(jiān)測等離子體的光譜峰
- 海洋光學(xué)(Ocean Optics)長期以來一直為半導(dǎo)體工藝設(shè)備供應(yīng)商的新材料研究提供強(qiáng)大支持,同時協(xié)助用戶克服等離子刻蝕、沉積、涂層和清潔等方面的困難和挑戰(zhàn)。海洋光學(xué)的光譜儀,基于光學(xué)發(fā)射光譜技術(shù),被廣泛應(yīng)用于等離子體監(jiān)測,并在刻蝕終點檢測方面表現(xiàn)出色。實驗配置:實驗采用光學(xué)發(fā)射光譜(OES)方法,分別使用紫外波段的ST微型光譜儀、通用型SR4光譜儀以及高分辨率的HR4和HR6光譜儀進(jìn)行測試。所有光譜儀均配置了25μm的狹縫,積分時間設(shè)定為1秒,平均次數(shù)設(shè)置為1,滑動平均設(shè)置在0-1之間。根據(jù)具體使用情
- 關(guān)鍵字: 光學(xué)發(fā)射光譜法 等離子體 海洋光學(xué)
精確跟蹤芯片蝕刻過程,用高分辨率光譜儀監(jiān)測等離子體
- 在半導(dǎo)體行業(yè),晶圓是用光刻技術(shù)制造和操作的。蝕刻是這一過程的主要部分,在這一過程中,材料可以被分層到一個非常具體的厚度。當(dāng)這些層在晶圓表面被蝕刻時,等離子體監(jiān)測被用來跟蹤晶圓層的蝕刻,并確定等離子體何時完全蝕刻了一個特定的層并到達(dá)下一個層。通過監(jiān)測等離子體在蝕刻過程中產(chǎn)生的發(fā)射線,可以精確跟蹤蝕刻過程。這種終點檢測對于使用基于等離子體的蝕刻工藝的半導(dǎo)體材料生產(chǎn)至關(guān)重要。等離子體是一種被激發(fā)的、類似氣體的狀態(tài),其中一部分原子已經(jīng)被激發(fā)或電離,形成自由電子和離子。當(dāng)被激發(fā)的中性原子的電子返回到基態(tài)時,等離子體
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CAN總線在流光放電等離子體煙氣脫硫監(jiān)控系統(tǒng)的應(yīng)用
- 隨著我國經(jīng)濟(jì)的發(fā)展,能源消費(fèi)帶來的環(huán)境污染也越來越嚴(yán)重。燃煤煙氣中排放的二氧化硫和氮氧化物占全國總排放...
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星弧等離子體技術(shù)在LED制作工藝中的應(yīng)用
- 前言LED是可直接將電能轉(zhuǎn)化為可見光的發(fā)光器件,它有著體積小、耗電量低、使用壽命長、發(fā)光效率高、高亮度低熱量、環(huán)保、堅固耐用及可控性強(qiáng)等諸多優(yōu)點,發(fā)展突飛猛進(jìn),現(xiàn)已能批量生產(chǎn)整個可見光譜段各種顏色的高亮度
- 關(guān)鍵字: LED 等離子體 制作工藝 中的應(yīng)用
表面波等離子體激勵源設(shè)計
- 摘要:本文設(shè)計了頻率及輸出功率可調(diào)的表面波等離子體激勵源, ADF4360-7產(chǎn)生850MHz~950MHz頻率的振蕩信號, ADL5330、兩級功率放大器、AD8318和C8051F020控制輸出功率。實現(xiàn)了表面波等離子體的激發(fā)。關(guān)鍵詞:表面波;等離子體;激勵源 引言利用微波在介質(zhì)表面激發(fā)出截止密度以上的等離子體,然后微波在介質(zhì)與等離子體間形成表面波的傳輸,具有一定電場強(qiáng)度的表面波在其傳輸?shù)姆秶鷥?nèi)可生成和維持高密度的等離子體,因此稱為表面波等離子體。將微波導(dǎo)入一介質(zhì)管,在介質(zhì)管壁上激發(fā)出表面波傳輸,即
- 關(guān)鍵字: 嵌入式系統(tǒng) 單片機(jī) 表面波 等離子體 激勵源 測試測量
等離子體介紹
等離子體是由部分電子被剝奪后的原子及原子被電離后產(chǎn)生的正負(fù)電子組成的離子化氣體狀物質(zhì),它是除去固、液、氣外,物質(zhì)存在的第四態(tài)。等離子體是一種很好的導(dǎo)電體,利用經(jīng)過巧妙設(shè)計的磁場可以捕捉、移動和加速等離子體。等離子體物理的發(fā)展為材料、能源、信息、環(huán)境空間,空間物理,地球物理等科學(xué)的進(jìn)一步發(fā)展提新的技術(shù)和工藝。
目錄
1 簡介
2 主要應(yīng)用
3 等離子技術(shù)
4 不穩(wěn)定性
5 參 [ 查看詳細(xì) ]
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