寬能隙半導(dǎo)體 文章 進入寬能隙半導(dǎo)體技術(shù)社區(qū)
碳化硅基板及磊晶成長領(lǐng)域 環(huán)球晶布局掌握關(guān)鍵技術(shù)
- 由于5G、電動車、高頻無線通信及國防航天等新興科技趨勢的興起,產(chǎn)業(yè)對于高頻率、低耗損的表現(xiàn)需求日益增加,如何在高溫、高頻率及高電壓等惡劣環(huán)境作業(yè)下?lián)p失較少功率的化合物半導(dǎo)體材料,備受產(chǎn)業(yè)期待。而基于碳化硅(SiC)芯片制作寬能隙半導(dǎo)體的器件,能夠滿足傳統(tǒng)硅基半導(dǎo)體所不能滿足的諸多優(yōu)點。放眼全球化合物半導(dǎo)體大廠,碳化硅(SiC)晶圓的供應(yīng)以美國大廠Cree為首,是具有上下游整合制造能力的整合組件制造商(IDM),在碳化硅之全球市占率高達(dá)六至七成。磊晶廠則以美國的II-VI Incorporated為代表;模
- 關(guān)鍵字: 碳化硅 寬能隙半導(dǎo)體
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寬能隙半導(dǎo)體介紹
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