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EEPW首頁(yè) >> 主題列表 >> 雙重成像

條狀過(guò)孔成大勢(shì)所趨

  • 對(duì)于28納米及以下節(jié)點(diǎn)，各種新的設(shè)計(jì)要求使工程師不得不調(diào)整傳統(tǒng)的數(shù)字電路板圖設(shè)計(jì)和驗(yàn)證流程。尤其值得一提的是，過(guò)孔的使用受到了很大的影響。新的過(guò)孔類(lèi)型已推出，雙重成像（double patterning）、FinFETS 和其它新的設(shè)計(jì)技巧的加入不僅使過(guò)孔的使用顯著增多
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雙重成像介紹

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