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EEPW首頁 >> 主題列表 >> 刻蝕

國內(nèi)首家掌握干法刻蝕的民營企業(yè) 寶豐堂攻克“造芯”重要一環(huán)

  • 摘要: 　　發(fā)展數(shù)字經(jīng)濟需要海量芯片支持，芯片制作需要半導體產(chǎn)業(yè)全力協(xié)同。受美國禁令影響，目前全球“缺芯”問題持續(xù)發(fā)酵，解決半導體生產(chǎn)設備“卡脖子”刻不容緩。 　　作為登上廣東“專精特新”新品發(fā)布會(以下簡稱 ...　　發(fā)展數(shù)字經(jīng)濟需要海量芯片支持，芯片制作需要半導體產(chǎn)業(yè)全力協(xié)同。受美國禁令影響，目前全球“缺芯”問題持續(xù)發(fā)酵，解決半導體生產(chǎn)設備“卡脖子”刻不容緩?！　∽鳛榈巧蠌V東“專精特新”新品發(fā)布會(以下簡稱“新品發(fā)布會”)首場發(fā)布會的20家企業(yè)之一，珠海寶豐堂電子科技有限公司(以下簡稱“寶豐堂”)靠著
  • 關鍵字： 刻蝕  等離子  

中微發(fā)布第一代電感耦合等離子體刻蝕設備Primo nanova?

  • 中國上海，2018年3月13日電——中微半導體設備（上海）有限公司（以下簡稱“中微”）在本周舉辦的SEMICON China期間正式發(fā)布了第一代電感耦合等離子體刻蝕設備Primo nanova?，用于大批量生產(chǎn)存儲芯片和邏輯芯片的前道工序。該設備采用了中微具有自主知識產(chǎn)權的電感耦合等離子體刻蝕技術和許多創(chuàng)新的功能，以幫助客戶達到芯片制造工藝的關鍵指標，例如關鍵尺寸（CD）刻蝕的精準度、均勻性和重復性等。其創(chuàng)新的設計包括：完全對稱的反應腔，超高的分子泵抽速；獨特的低電容耦合線圈設計和多區(qū)細分溫控靜電吸盤（E
  • 關鍵字： 中微  半導體  刻蝕  

半導體制造的工藝與材料發(fā)展趨勢

  • 應用將持續(xù)驅(qū)動芯片業(yè)的發(fā)展。摩爾定律將繼續(xù)演進，但形式正發(fā)生變化，從注重特征尺寸的縮小，正轉變到同時關注材料和結構創(chuàng)新。預計中國半導體市場10年內(nèi)翻番，將帶來半導體制造的興盛。為了迎接10nm以下的挑戰(zhàn)，應用材料公司近期推出了三款新產(chǎn)品。
  • 關鍵字： 晶圓  材料工程  設備  刻蝕  電子束  201612  

中微公司將發(fā)布新一代等離子刻蝕設備

  • 今年IC China(一年一度在上海舉辦的業(yè)內(nèi)知名半導體展會和論壇)展會期間，先進的設備制造商 -- 中微半導體設備(上海)有限公司(以下簡稱“中微公司”)，將于本周三在上海世博展覽館，就其設計創(chuàng)新、技術領先的新一代刻蝕設備產(chǎn)品舉辦新聞發(fā)布會。
  • 關鍵字： 中微公司  刻蝕  

Schmid 選擇性發(fā)射極刻蝕機繼續(xù)成功之道

  • 　　Schmid集團的選擇性發(fā)射極技術通過自身出色的運行情況證明其為市場上最有效的工藝技術。在競爭更高效率的戰(zhàn)爭中，更多的電池生產(chǎn)商依賴于濕化學工藝;由Schmid濕法機器訂單越來越多可見一斑。無論是擴展生產(chǎn)線還是升級現(xiàn)有生產(chǎn)線，Schmid的選擇性發(fā)射極技術繼續(xù)其成功之道。Schmid選擇性發(fā)射極刻蝕機最新訂單是八月中旬，來自一家中國的主要生產(chǎn)商。 　　
  • 關鍵字： Schmid  刻蝕  

IC設備國產(chǎn)化多點突破二手市場尋求整合

  • 　　“工欲善其事，必先利其器。”集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展離不開裝備制造業(yè)的支撐，而裝備業(yè)的發(fā)展水平也是衡量一個國家集成電路產(chǎn)業(yè)總體水平的重要標準。近年來，我國集成電路裝備業(yè)取得了長足的進步，12英寸設備在多個工序?qū)崿F(xiàn)國產(chǎn)化。但由于8英寸、12英寸集成電路生產(chǎn)線在我國仍有很大的發(fā)展空間，這也給國外的二手設備提供了用武之地，同時，也給從事設備翻新的企業(yè)提供了發(fā)展機遇。 　　12英寸國產(chǎn)設備進展顯著 　　●多種核心裝備實現(xiàn)國產(chǎn)化 　　●12英寸65納米是下階段重點 　　一條標準的集成電
  • 關鍵字： 半導體設備  芯片制造  光刻  刻蝕  

氟橡膠密封的刻蝕機理和使用特性

  • 半導體工業(yè)中的等離子加工對于氟橡膠真空密封是一個富有挑戰(zhàn)性的環(huán)境。在高溫和等離子條件下實現(xiàn)的密封能力...
  • 關鍵字： 氟橡膠  刻蝕  

基于MEMS的OXC：解決可靠性差距

應用材料公司推出Centura Carina Etch系統(tǒng)克服高K介電常數(shù)

  • 近日，應用材料公司推出Centura® Carina™ Etch系統(tǒng)用于世界上最先進晶體管的刻蝕。運用創(chuàng)新的高溫技術，它能提供45納米及更小技術節(jié)點上采用高K介電常數(shù)/金屬柵極(HK/MG)的邏輯和存儲器件工藝擴展所必需的材料刻蝕輪廓，是目前唯一具有上述能力并可以用于生產(chǎn)的解決方案。應用材料公司的Carina技術具有獨一無二的表現(xiàn)，它能達到毫不妥協(xié)的關鍵刻蝕參數(shù)要求：平坦垂直，側邊輪廓不含任何硅材料凹陷，同時沒有任何副產(chǎn)品殘留物。 應用材料公司資深副總裁、硅系統(tǒng)業(yè)務
  • 關鍵字： 測試  測量  應用材料  晶體管  刻蝕  IC  制造制程  
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刻蝕介紹

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