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美國發(fā)起的對華聯(lián)合出口限制留下漏洞？

  • 據(jù)報(bào)道，荷蘭和日本已與美國達(dá)成協(xié)議，共同限制向中國出口芯片制造工具，這將進(jìn)一步削弱中國半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展，因?yàn)槌讼拗浦袊圃焐淌褂?EUV 光刻機(jī)外，進(jìn)一步限制其使用浸沒式 DUV 光刻機(jī)。但在美國對中國發(fā)起的嚴(yán)格出口限制中，中國半導(dǎo)體企業(yè)是否可以利用任何關(guān)鍵漏洞來緩沖沖擊？這似乎是一個(gè)值得仔細(xì)研究的問題。近年來，美國加大了對中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的打壓力度。不僅設(shè)計(jì)了各種策略和行動，還動員了盟友的參與。在 2022 年 10 月對向中國出口先進(jìn)芯片制造工具和技術(shù)實(shí)施全面出口限制后，美國急于讓擁有 ASML
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EUV光刻機(jī)開始“落幕”了

  • 說到光刻機(jī)大家難免會想到三個(gè)廠商，荷蘭的ASML公司、尼康和佳能。而光刻機(jī)就是制造芯片的核心裝備?，F(xiàn)如今光刻機(jī)領(lǐng)域的核心地位就是荷蘭的ASML，他與臺積電合作，共同突破了沉浸式DUV光刻機(jī)，也正因?yàn)榇藙幼?，才奠定了ASML在光刻機(jī)領(lǐng)域的核心地位。后續(xù)ASML又推出了更加高端的EUV光刻機(jī)，而且還是獨(dú)家壟斷生產(chǎn)。這就進(jìn)一步使得ASML成為行業(yè)的巨頭。隨著科技的不斷發(fā)展，市場就要越來越追求高性能以及高要求，ASLM造成的長時(shí)間壟斷，導(dǎo)致其他同行沒有辦法發(fā)展。在他自身無法突破的前提下，他的路是越走越窄。在全球范
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ASML澄清與中芯國際交易EUV與DUV光刻機(jī)一字之差大不同

  • 　　近日，中芯國際與ASML達(dá)成12億美元交易購買晶圓生產(chǎn)設(shè)備的消息引發(fā)關(guān)注。針對雙方此次合作，有媒體報(bào)道稱“除了EUV光刻機(jī)，中芯國際幾乎可以買到其他所有型號的光刻機(jī)。”但是這一說法很快被ASML官方澄清，該協(xié)議與DUV光刻技術(shù)的現(xiàn)有協(xié)議相關(guān)。　　可能很多網(wǎng)友看到這里有點(diǎn)蒙圈，這繞來繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進(jìn)行一個(gè)小科普，EUV和DUV到底有啥區(qū)別呢？EUV也就是“極深紫外線”的意思，而DUV是“深紫外線”的意思，通過字面就知道EUV看上去就比DUV高級，實(shí)際上也是如此?！　SML澄清與中
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Gigaphoton發(fā)布新的DUV光源產(chǎn)品規(guī)劃圖

  • 　　半導(dǎo)體光刻光源的主要供應(yīng)商Gigaphoton株式會社(母公司：栃木縣小山市，董事長：浦中克己)宣布，為提高設(shè)備的工作效率，公司將制定新的產(chǎn)品規(guī)劃圖，以應(yīng)對需求量不斷高漲的半導(dǎo)體廠家的要求。 　　Gigaphoton此次制定的產(chǎn)品規(guī)劃圖“RAM Enhancement”加強(qiáng)了DUV光源受激準(zhǔn)分子激光器的可靠性(Reliability)、可用性(Availability)以及可維護(hù)性(Maintainability)。公司已經(jīng)開始行動，將在2020年前打破被業(yè)界定位為極限的&l
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