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Inversion Semiconductor旨在實(shí)現(xiàn)更明亮、更快速的光刻技術(shù)

  • Inversion Semiconductor Inc.（加利福尼亞州舊金山）是一家 2024 年的初創(chuàng)公司，計(jì)劃利用粒子加速為下一代光刻技術(shù)開發(fā)更亮、更可調(diào)的光源。該公司表示，與現(xiàn)有系統(tǒng)相比，它將能夠以高達(dá) 15 倍的速度制造芯片，并且具有更精細(xì)的功能。Inversion 加入 Lace Lithography 是一家初創(chuàng)公司，希望取代或至少被視為成熟的光刻市場領(lǐng)導(dǎo)者 ASML Holding NV 的替代品。當(dāng)然，這兩家初創(chuàng)公司都看到了使用 13.5nm 波長的極紫外光進(jìn)行光刻膠閃光曝光的進(jìn)一步開發(fā)的
  • 關(guān)鍵字： Inversion Semiconductor  光刻技術(shù)  
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