首頁(yè)　 資訊　 商機(jī) 　 下載　 拆解 　 高校　 招聘 　 雜志　 會(huì)展　 EETV　 百科 　 問(wèn)答　 電路圖　 工程師手冊(cè) 　 Datasheet　 100例 　 活動(dòng)中心　 E周刊閱讀 　 樣片申請(qǐng)
EEPW首頁(yè) >> 主題列表 >> ic工藝

我國(guó)下一代IC工藝技術(shù)需慎重布局

  • 　　電子電路逐漸細(xì)微，芯片制造商在晶體管設(shè)計(jì)制造方面遇到的困難也越來(lái)越大。1965年“摩爾定律”與1975年“丹納德定律”所構(gòu)建的“幾何尺寸按比例縮小”的時(shí)代在進(jìn)入10納米后，多年來(lái)基于硅的平面器件所形成的技術(shù)路線、工藝裝備和生產(chǎn)條件，面臨重大調(diào)整。進(jìn)入2014年以來(lái)，英特爾、臺(tái)積電在推進(jìn)基于14nm/16nmFinFET工藝時(shí)都遇到了比以往更大的挑戰(zhàn)，而日前韓國(guó)三星公司宣布與意法半導(dǎo)體合作開展FDSOI生產(chǎn)工藝開發(fā)，更使半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的
  • 關(guān)鍵字： IC工藝  半導(dǎo)體  

MEMS技術(shù)加工工藝與IC工藝區(qū)別

  • 微機(jī)械加工工藝分為硅基加工和非硅基加工。下面主要介紹體加工工藝、硅表面微機(jī)械加工技術(shù)、結(jié)合加工、逐次 ...
  • 關(guān)鍵字： MEMS  IC工藝  

針對(duì)電路板空間不足的IC工藝解決方案

  • IC 工藝幾何尺寸的日益縮小促使當(dāng)今電子產(chǎn)品的工作電壓降至遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于 2V 的水平，由此帶來(lái)了諸多的設(shè)計(jì)挑戰(zhàn)。一個(gè)常見的問(wèn)題是需要多個(gè)電源電壓，例如：一個(gè)電壓用于 CPU 內(nèi)核，另一個(gè)電壓用于 I/O，還有其它一些電壓
  • 關(guān)鍵字： 電路板  IC工藝  方案    
共3條 1/1 1

ic工藝介紹

您好，目前還沒(méi)有人創(chuàng)建詞條ic工藝!
歡迎您創(chuàng)建該詞條，闡述對(duì)ic工藝的理解，并與今后在此搜索ic工藝的朋友們分享。    創(chuàng)建詞條

熱門主題

樹莓派    linux   
關(guān)于我們 - 廣告服務(wù) - 企業(yè)會(huì)員服務(wù) - 網(wǎng)站地圖 - 聯(lián)系我們 - 征稿 - 友情鏈接 - 手機(jī)EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國(guó)際技術(shù)信息咨詢有限公司
備案 京ICP備12027778號(hào)-2 北京市公安局備案：1101082052    京公網(wǎng)安備11010802012473