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2010決勝年　ASML 主攻38納米、EUV設備

• 　　全球最大半導體微顯影設備業(yè)者ASML表示，目前客戶訂單增加相當多，但主是來自半導體業(yè)者制程微縮而非產(chǎn)能擴充的需求，半導體業(yè)者仍持續(xù)微縮半導體制程，摩爾定律預料將持續(xù)延續(xù)。以目前ASML最先進的浸潤式微顯影機種來看，新一代的機種NXT 1950i 也已于2009年下半出貨，未來將快速增加出貨，同時深紫外光(EUV)也至少囊括5套客戶訂單，對ASML來說2010年將是極重要的一年。 　　ASML NXT技術平臺資深經(jīng)理Frank van de Mast指出，XT1900Hi的下一代機種NXT 1950i
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