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英特爾10nm工藝2017年才能量產(chǎn)

  •   外媒報(bào)道,英特爾早前規(guī)劃,10nm工藝制程產(chǎn)品本應(yīng)在2016年上半年面世,但后來被推遲到2016年第三季度。現(xiàn)在,英特爾的10nm工藝制程產(chǎn)品量產(chǎn)時(shí)間恐怕要推遲至2017年下半年了。   英特爾發(fā)布第二季度財(cái)報(bào)后,英特爾CEO柯再奇確認(rèn),10nm Cannonlake平臺(tái)將推遲到2017年下半年,也就是足足再跳一年。   按照既定規(guī)劃,10nm本應(yīng)在2016年上半年面世,但后來被推遲到2016年第三季度,而在它和現(xiàn)有14nm Skylake平臺(tái)之間增加了一個(gè)新的14nm Kaby Lake,這也是
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臺(tái)積電:不用等7nm,10nm我們就超越英特爾

  •   以晶圓代工起家的臺(tái)積電稍早前發(fā)布消息稱,公司將在2017年量產(chǎn)10nm芯片,公司聯(lián)席CEO劉德音近日又在公司會(huì)議宣布7nm芯片的生產(chǎn)將在2018年啟動(dòng)。公司董事長顧問蔣尚義對此解釋,臺(tái)積電目標(biāo)就是要超越英特爾,成為全球技術(shù)最先進(jìn)的芯片制造商。   近年來半導(dǎo)體業(yè)出現(xiàn)了一系列并購案,包括英特爾合并全球可程式邏輯晶片大廠之一Altera,英特爾并以15億美元投資手機(jī)晶片大廠展訊母公司清華紫光,持股比達(dá)20%。Altera和展訊均為臺(tái)積電先進(jìn)制程的主要客戶,如今被英特爾并購和入股,按照英特爾“
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三星10nm 拚明年底量產(chǎn)

  •   半導(dǎo)體市場第2季需求明顯趨緩,但國際半導(dǎo)體設(shè)備材料產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)(SEMI)公布2015年4月份北美半導(dǎo)體設(shè)備訂單及出貨金額,卻同步攀上近3年新高,其中 有2個(gè)主要原因,一是記憶體廠力拚20奈米DRAM制程微縮及3D NAND擴(kuò)產(chǎn);二是晶圓代工廠10奈米制程競賽正式開打。   臺(tái)積電16奈米鰭式場效電晶體(FinFET)制程已進(jìn)入量產(chǎn)階段,雖然進(jìn)度上落后三星14奈米FinFET制程,但臺(tái)積電信心滿滿,認(rèn)為第3季產(chǎn)能快速拉升后,明年將可奪回14/16奈米FinFET制程市場占有率,且加計(jì)20奈米的市占率將在
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10nm制程技術(shù)穩(wěn)定 Intel新處理器順利推出

  •   稍早宣布更新的15寸MacBook Pro with Retina Display,確定仍維持使用Intel Haswell平臺(tái)的第四代Core i7系列處理器,顯示Intel確定選擇在Computex 2015期間正式解禁高效能表現(xiàn)的Broadwell平臺(tái)H系列處理器,以及兩款高階桌機(jī)版處理器。   另外就先前消息顯示,Intel預(yù)期在今年下半年于美國IDF 2015期間揭曉采用14nm制程技術(shù)生產(chǎn)的Skylake平臺(tái)處理器,分別將推出S系列、Y系列、U系列,以及H系列規(guī)格,藉此讓新款處理器能在2
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推進(jìn)10nm制程 ARM擬提前揭曉新核心架構(gòu)

  • 完全沒看出來ARM要往服務(wù)企業(yè)領(lǐng)域發(fā)展,還是在繼續(xù)強(qiáng)化移動(dòng)設(shè)備領(lǐng)域,聽說ARM表示有相當(dāng)信心維持領(lǐng)先地位同時(shí)也認(rèn)為Intel即便加速追趕也無法造成明顯威脅。
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臺(tái)積電10nm報(bào)喜 2020年?duì)I收占比將達(dá)55%

  •   分享外資透露,臺(tái)積電共同執(zhí)行長劉德音18日在美林論壇專題演講中指出,物聯(lián)網(wǎng)將是繼移動(dòng)設(shè)備之后,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的成長新機(jī)會(huì)。臺(tái)積電先進(jìn)制程也捎來喜訊,劉德音預(yù)估,2020年時(shí)10納米制程占臺(tái)積電總營收比重將達(dá)55%。   業(yè)界認(rèn)為,物聯(lián)網(wǎng)商機(jī)龐大,估計(jì)至2020年時(shí),可創(chuàng)造約500億顆芯片需求,臺(tái)積電身為全球晶圓代工龍頭,在物聯(lián)網(wǎng)應(yīng)用的成熟制程已取得制高點(diǎn)位置,加上臺(tái)積電10納米先進(jìn)制程可望成為2020年?duì)I收主力,追趕英特爾,在成熟與先進(jìn)制程同步大躍進(jìn)帶動(dòng)下,臺(tái)積電后市看俏。   劉德音受邀在美林論壇以
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臺(tái)積電10nm訂單傳出好消息 趕超英特爾?

  •   外資圈17日傳出,因臺(tái)積電10納米制程技術(shù)大幅提升,先前在14納米制程琵琶別抱英特爾的阿爾特拉(Altera),將在臺(tái)積電與英特爾中擇一作為10納米合作伙伴。外資法人認(rèn)為,阿爾特拉訂單若重回臺(tái)積電懷抱,將是繼去年拿下蘋果A8訂單后的另一項(xiàng)利多題材,投資價(jià)值將進(jìn)一步攀升。        臺(tái)積電各制程成本節(jié)省幅度   外資回頭買超臺(tái)積電   受此利多消息,外資昨天又回頭買超臺(tái)積電8,139張,暫時(shí)化解“賣臺(tái)積電、轉(zhuǎn)買三星”的潛在危機(jī),臺(tái)積電昨天以2.05%漲
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10nm級移動(dòng)應(yīng)用處理器戰(zhàn)火一觸即發(fā)

  •   10納米級移動(dòng)應(yīng)用處理器(AP)戰(zhàn)火一觸即發(fā),據(jù)傳英特爾(Intel)繼三星電子 (Samsung Electronics)之后,2015年將推出14納米移動(dòng)AP Cherry Trail,英特爾與三星電子的移動(dòng)AP之爭,勢將對業(yè)界龍頭高通(Qualcomm)產(chǎn)生威脅。   據(jù)Digital Times報(bào)導(dǎo),日前業(yè)界傳出消息,指出繼應(yīng)用14納米制程技術(shù)的Broadwell中央處理器(CPU)后,2015年內(nèi)英特爾將再推移動(dòng)AP Cherry Trail,目前已開始為制造商供貨,預(yù)定將在2015年中旬
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臺(tái)積電預(yù)計(jì)2017年量產(chǎn)10nm 追上英特爾

  •   晶圓代工龍頭臺(tái)積電(TSMC)透露該公司將在2017年開始量產(chǎn)10納米制程,屆時(shí)將能與英特爾(Intel)并駕齊驅(qū);“我們的10納米制程性能表現(xiàn),包括速度、功率與密度,將會(huì)與我們認(rèn)為英特爾為其10納米技術(shù)所定義的規(guī)格相當(dāng);”臺(tái)積電企業(yè)通訊部門總監(jiān)Elizabeth Sun表示:“憑藉技術(shù)實(shí)力,我們認(rèn)為能在10納米節(jié)點(diǎn)拉近差距。”   而臺(tái)積電首度 表示,今年預(yù)期將會(huì)有半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)界最大規(guī)模的資本支出,其目標(biāo)是鞏固其晶圓代工市場領(lǐng)導(dǎo)地位,以對抗英特爾、三星
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英特爾:10nm工藝離大家不遠(yuǎn)了

  •   半導(dǎo)體技術(shù)可以說是人類社會(huì)發(fā)展速度最快的一項(xiàng)技術(shù)了,摩爾定律的魔力刺激著信息社會(huì)飛速發(fā)展,半導(dǎo)體的工藝制程現(xiàn)在已經(jīng)邁入了驚人的14納米級別,誰還能想像到50年前笨重的晶體管時(shí)代?   不過在半導(dǎo)體工藝進(jìn)入14nm之后,芯片的發(fā)展速度有變慢的趨勢。2014年,英特爾就在14納米工藝處理器的發(fā)布時(shí)間上放了大家鴿子,采用14nm工藝的Broadwell原本2014年年中發(fā)布,但實(shí)際上到今年才會(huì)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。半導(dǎo)體工藝在進(jìn)入10nm級別后就已經(jīng)逼近硅基半導(dǎo)體的物理極限,制造成本和風(fēng)險(xiǎn)都在不斷提高,本來按照英特爾
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Intel 10nm時(shí)間敲定 拒絕14nm悲劇再演

  • 如果認(rèn)為英特爾推遲14nm,打破摩爾定律或者英特爾的節(jié)奏是個(gè)悲劇,那么這種看法才是真正的悲劇,因?yàn)槟柖杀旧硎莻€(gè)總結(jié)性的現(xiàn)象,而非預(yù)測性的或者技術(shù)發(fā)展的本質(zhì)規(guī)律。
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英特爾芯片開發(fā)受阻 10nm要等到2017

  •   半導(dǎo)體工藝進(jìn)入1xnm節(jié)點(diǎn)之后,各大巨頭都遭遇了嚴(yán)重的困難,尤其是Intel 14nm出現(xiàn)了前所未有的延遲,與計(jì)劃進(jìn)度嚴(yán)重脫節(jié),至今只有寥寥兩個(gè)產(chǎn)品線,今年下半年才會(huì)全面普及。   臺(tái)積電16nm原本寄予厚望,2015年初就要快速量產(chǎn),結(jié)果連續(xù)跳票,現(xiàn)在看最快也得年底了,甚至得2016年。   三星14nm相對還好一些,起步雖晚但是進(jìn)步很快,據(jù)說良品率提高很快,又拉上Global Foundries做同盟,已經(jīng)贏得了蘋果、高通的芳心。   如果按照原先的Tick-Tock發(fā)展模式,后續(xù)進(jìn)展順利的
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Intel昭告未來:10nm報(bào)到

  •   在工藝技術(shù)上,Intel一直保持著遙遙領(lǐng)先的節(jié)奏。現(xiàn)在,10nm已經(jīng)來了。
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ARM與臺(tái)積電宣布采用10nm FinFET工藝

  •   在宣布將以16nm FinFET制程技術(shù)量產(chǎn)ARM 64位處理器后,臺(tái)積電再進(jìn)一步與ARM攜手宣布,未來將透過10nm FinFET制程技術(shù)制作64位架構(gòu)ARMv8-A處理器 ,預(yù)計(jì)最快在2015年第四季啟用此項(xiàng)技術(shù),屆時(shí)將可支持各客戶采用10nm FinFET制程技術(shù)完成64位ARM架構(gòu)處理器的設(shè)計(jì)定案。   進(jìn)一步縮減制程技術(shù)后,預(yù)期將使相同架構(gòu)處理器產(chǎn)品能以更少電功耗發(fā)揮更高的運(yùn)作效能,或是更進(jìn)一步縮減硬件產(chǎn)品體積、散熱所需空間等特性。
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檢測10nm以下半導(dǎo)體 CD-SEM量測技術(shù)邁大步

  •   半導(dǎo)體進(jìn)入10奈米以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)或三維(3D)結(jié)構(gòu)時(shí),將面臨嚴(yán)重的導(dǎo)孔偏移問題,所幸,設(shè)備商已研發(fā)出具備更高影像解析能力的微距量測掃描式電子顯微鏡(CD-SEM),可提供更清晰的對焦和更精細(xì)的量測影像,有效克服導(dǎo)孔對準(zhǔn)挑戰(zhàn)。   多年來,業(yè)界一直使用微距量測掃描式電子顯微鏡(CD-SEM)來進(jìn)行量測,此種顯微鏡會(huì)射出電子束,與要掃描的材料作用,然后回傳訊號,再由量測機(jī)臺(tái)比對運(yùn)算這些訊號。今日,針對小于10奈米(nm)的尺寸,CD-SEM或其他所有量測設(shè)備,必須處理更多的薄膜層、更高的縱橫比(HAR
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