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英國開設全球第二個5納米以下電子束光刻中心

• 近日，英國南安普敦大學宣布成功開設了一個尖端電子束光刻（EBL）中心。這是日本以外全球首個分辨率達5納米以下的中心，也是歐洲首個此類電子束光刻中心。該中心能夠制造下一代半導體芯片。據(jù)南安普敦大學介紹，該電子束光刻中心采用日本JEOL公司的加速電壓直寫電子束光刻系統(tǒng)。這是全球第二臺200kV系統(tǒng)（JEOL JBX-8100 G3），第一臺在日本。該系統(tǒng)可在200毫米晶圓上實現(xiàn)低于5納米級精細結(jié)構(gòu)的分辨率處理，適用于厚至10微米的光刻膠，側(cè)壁幾乎垂直，有助于開發(fā)電子和光子學領域研究芯片中的新結(jié)構(gòu)。JEOL的另
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