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電子束
電子束 文章 進(jìn)入電子束技術(shù)社區(qū)
一種具有故障保護(hù)功能的掃描電源設(shè)計(jì)
- 在線性電子加速器系統(tǒng)的輻照處理過(guò)程中,需要根據(jù)商品的大小、形狀、體積等頻繁調(diào)整電子束的掃描寬度。這就要求掃描電源提供可變的交流電以產(chǎn)生磁場(chǎng),使產(chǎn)生的電子隨著電流的變化而產(chǎn)生磁轉(zhuǎn),并且產(chǎn)生的電子不會(huì)都打到一個(gè)點(diǎn)上,從而確保輻照物品接受輻照的均勻性。由于每種食品接受輻照的能量不同,所以不可能產(chǎn)生的電子束能量都一樣,為確保經(jīng)過(guò)電子束輻照的食品都滿足相應(yīng)的要求,要通過(guò)控制掃描電源頻率和幅度來(lái)調(diào)節(jié)電子束偏轉(zhuǎn)大小和多少來(lái)控制輻照能量的大小;當(dāng)束流管掃描電源出現(xiàn)故障時(shí),電源必須及時(shí)準(zhǔn)確的報(bào)給主控臺(tái),以保護(hù)束流管以及整個(gè)
- 關(guān)鍵字: 電子束 掃描電源 遠(yuǎn)程復(fù)位 磁轉(zhuǎn) 202104
示波器的原理及應(yīng)用
- 導(dǎo)讀:示波器是一種用途十分廣泛的電子測(cè)量?jī)x器。它能把肉眼看不見(jiàn)的電信號(hào)變換成看得見(jiàn)的圖象,便于人們研究各種電現(xiàn)象的變化過(guò)程。它是觀察數(shù)字電路實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象、分析實(shí)驗(yàn)中的問(wèn)題、測(cè)量實(shí)驗(yàn)結(jié)果必不可少的重要儀器 示波器的原理及應(yīng)用--工作原理 示波器利用狹窄的、由高速電子組成的電子束,打在涂有熒光物質(zhì)的屏面上,就可產(chǎn)生細(xì)小的光點(diǎn)。在被測(cè)信號(hào)的作用下,電子束就好像一支筆的筆尖,可以在屏面上描繪出被測(cè)信號(hào)的瞬時(shí)值的變化曲線。利用示波器能觀察各種不同信號(hào)幅度隨時(shí)間變化的波形曲線,還可以用它測(cè)試各種不同的電量,如
- 關(guān)鍵字: 示波器 電子束 示波器的原理 示波器的原理及應(yīng)用
采用電子束檢測(cè)技術(shù)輔助晶體管開(kāi)發(fā)
- 涉足尖端技術(shù)研究工作的芯片制造商正在把無(wú)數(shù)新材料和奇特的器件結(jié)構(gòu)結(jié)合起來(lái),用于65nm及更低節(jié)點(diǎn)的量產(chǎn)。同時(shí)他們發(fā)現(xiàn),在這些研究上的努力生產(chǎn)的結(jié)果還包括目前必須著手解決各器件各個(gè)層上出現(xiàn)的越來(lái)越多的細(xì)微的
- 關(guān)鍵字: 電子束 檢測(cè)技術(shù) 輔助 晶體管
電子束焊機(jī)用高壓電源中的PLC控制系統(tǒng)的設(shè)計(jì)
- 摘要:介紹了電子束焊機(jī)用高壓電源及其控制系統(tǒng)的要求,根據(jù)PLC控制技術(shù)的特點(diǎn),設(shè)計(jì)了控制系統(tǒng)的硬件電路及其相關(guān)軟件。試驗(yàn)表明:控制系統(tǒng)的硬件、軟件工作可靠,滿足電子束焊接工藝之需要。 關(guān)鍵詞:可編程控制器
- 關(guān)鍵字: 控制系統(tǒng) 設(shè)計(jì) PLC 電源 焊機(jī) 高壓 電子束
KLA-Tencor 推出第十代電子束偵測(cè)系統(tǒng)
- KLA-Tencor 公司(納斯達(dá)克股票代碼:KLAC)今天宣布推出 eS35 電子束偵測(cè)系統(tǒng),該系統(tǒng)能夠以大幅提升的速度檢測(cè)和分類(lèi)更小的物理缺陷,以及更細(xì)微的電子缺陷。eS35 屬于 KLA-Tencor 的第十代電子束偵測(cè)系統(tǒng),它具備更高的靈敏度,改善了單機(jī)檢查和分類(lèi),并且顯著加強(qiáng)了吞吐能力,以提高 4Xnm 和 3Xnm 設(shè)備的良率。 KLA-Tencor 的電子束技術(shù)部集團(tuán)副總裁兼總工程師 Zain Saidin 表示:“電子束偵測(cè)對(duì)于捕獲和發(fā)現(xiàn)最小缺陷以及只能通過(guò)它們的電子
- 關(guān)鍵字: KLA-Tencor 電子束 偵測(cè) 半導(dǎo)體 微電子
22納米后EUV光刻還是電子束光刻?市場(chǎng)看法存分歧
- 浸潤(rùn)式微顯影雙重曝光能進(jìn)一步延伸摩爾定律的壽命至32納米,不過(guò),22納米以下究竟哪種技術(shù)得以出頭,爭(zhēng)議不斷。據(jù)了解,臺(tái)積電目前正積極研發(fā)22納米以下直寫(xiě)式多重電子束(MEBDW)方案,并已有具體成果,但積極推動(dòng)深紫外光(EUV)的ASML則表示,目前已有數(shù)家客戶下單,最快2009年便可出貨,但哪種技術(shù)最終將「一統(tǒng)江湖」,尚未有定論。 ASML表示,目前深紫外光EUV的光波波長(zhǎng)可達(dá)13.5納米,約是248波長(zhǎng)的KrF顯影設(shè)備的15分之1,盡管浸潤(rùn)式顯
- 關(guān)鍵字: 消費(fèi)電子 EUV 電子束 消費(fèi)電子
KLA-Tencor推出新一代電子束缺陷再檢查和分類(lèi)系統(tǒng)
- KLA-Tencor正式推出新一代晶片缺陷再檢查和分類(lèi)系統(tǒng) eDR-5200。該系統(tǒng)綜合高分辨率圖像和高缺陷再檢查靈敏度,以及與 KLA-Tencor 光學(xué)檢測(cè)系統(tǒng)的獨(dú)特連接技術(shù),進(jìn)而實(shí)現(xiàn)更高的再檢查效能,更短的良率學(xué)習(xí)周期和更高的總體系統(tǒng)生產(chǎn)效率。KLA-Tencor 光學(xué)檢測(cè)系統(tǒng)和 eDR-5200 電子再檢查系統(tǒng)的獨(dú)特連接,確保生產(chǎn) 45 納米及以下的芯片廠每小時(shí)能建立更多, 更高品質(zhì)的缺陷 Pare
- 關(guān)鍵字: KLA-Tencor 測(cè)量 測(cè)試 電子束 工業(yè)控制 工業(yè)控制
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