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科學家確認半導體光催化劑活性晶面依賴的本質原因

  • 近日，中國科學院大連化學物理研究所催化基礎國家重點實驗室李燦、李仁貴團隊在半導體光催化劑暴露晶面的本質作用研究方面取得新進展：觀察到光催化研究中活性晶面依賴的關系，確認了活性晶面的光催化活性差異是由不同共存暴露晶面之間的光生電荷分離性質決定的。
  • 關鍵字： 半導體  活性晶面  光催化劑  
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活性晶面介紹

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