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EEPW首頁 >> 主題列表 >> 沉積

磁控濺射法沉積TCO薄膜的電源技術(shù)

  • 1前言透明導(dǎo)電氧化物薄膜(TCO薄膜)有著廣泛的用途，如作為LCD、OLED顯示器面板的電極，作為觸摸屏的感應(yīng)電極，作為薄膜太陽能電池的電極以及作為LED芯片前電極等[1]。目前，主要的TCO薄膜有氧化銦錫(ITO)、氧化錫(Sn
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波導(dǎo)SOl化學(xué)氣相沉積工藝特點

  • 對于SOl波導(dǎo)來說，CVD技術(shù)一般用來淀積其上包層，通常為二氧化硅或氮化硅。對于調(diào)制器等有源器件來說，這一層還起著隔離金屬電極減小電極對波導(dǎo)造成損耗的作用，所以厚度一定要選擇合適，不能太薄，如果薄了就不能起
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