半導體光刻機 文章 進入半導體光刻機技術社區(qū)
佳能發(fā)售半導體光刻機解決方案平臺“Lithography Plus”
- 佳能將于2022年9月5日起發(fā)售解決方案平臺“Lithography Plus１”服務（以下簡稱“Lithography Plus”），該系統(tǒng)匯聚佳能在半導體制造領域超過50年的技術積淀，以包括曝光工藝在內的海量半導體制造數據為支持，在提升設備維護運轉率的同時，能夠實現半導體制造工藝的優(yōu)化。?佳能陸續(xù)推出了具有高處理性能的KrF光刻機和支持多種設備的i線光刻機等一系列產品，多年來一直積極地為購置佳能光刻機的客戶提供技術支持?！癓ithography Plus”通過綜合運用技術經驗與數據積累，在實
- 關鍵字： 佳能 半導體光刻機 Lithography Plus
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半導體光刻機介紹
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