冠石半導(dǎo)體 文章 進(jìn)入冠石半導(dǎo)體技術(shù)社區(qū)

國產(chǎn)廠商引入首臺光刻機(jī)設(shè)備！

• 據(jù)寧波前灣新區(qū)管理委員會7月15日消息，近日寧波冠石半導(dǎo)體有限公司迎來關(guān)鍵節(jié)點，引入首臺電子束掩模版光刻機(jī)。據(jù)悉，該設(shè)備是光掩模版40nm技術(shù)節(jié)點量產(chǎn)及28nm技術(shù)節(jié)點研發(fā)的重點設(shè)備。光掩模版是集成電路制造過程中光刻工藝所使用的關(guān)鍵部件，類似于相機(jī)“底片”，光線經(jīng)過掩膜版后，可在晶圓表面曝光形成電路圖形。目前，我國高精度半導(dǎo)體光掩模版產(chǎn)品主要仍依賴于進(jìn)口，國產(chǎn)化率極低。據(jù)了解，冠石半導(dǎo)體主要從事45nm~28nm半導(dǎo)體光掩模版的規(guī)模化生產(chǎn)。當(dāng)前，冠石半導(dǎo)體一期潔凈車間設(shè)計產(chǎn)能為月產(chǎn)5000片180nm~2
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