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DUV曝光機光阻劑力拼島內自給 核心材料明年供臺積電、聯(lián)電

  • 中國臺灣自研重點放在半導體關鍵材料自主化，9家廠商年底將進行終端產線驗證。 最快明年深紫外光（DUV）曝光機的光阻劑核心材料，可打入臺積電、聯(lián)電等代工大廠產線中。微影制程是在晶圓上制作電路圖案，隨著精細度有DUV、EUV（極紫外光）差別。 光阻劑是一種光敏感材料，由樹脂、光敏感劑、溶劑和添加劑等組成，乃微影不可或缺重要材料。 至于曝光機的光罩部份，島內像是家登都有生產，比例已不低。但過去晶圓代工制程曾發(fā)生過光阻劑大缺貨，為了把關鍵材料掌握在自己手中，島內推動兩期半導體先進制程與封裝材料研發(fā)。 第一期202
  • 關鍵字： DUV  曝光機  光阻劑  臺積電  聯(lián)電  

什么是LED光阻劑

  • 光阻，亦稱為光阻劑，是一個用在許多工業(yè)制程上的光敏材料。像是光刻技術，可以在材料表面刻上一個圖案的被覆層。...
  • 關鍵字： LED  光阻劑  

LED行業(yè)用光阻劑的簡介及應用實例探討

  • 藍光LED產品問世，開啟全彩化的LED看板在顯示面板的應用發(fā)展，由于發(fā)光二極管的發(fā)光特色，加上LED具有體積小、耗...
  • 關鍵字： LED行業(yè)  光阻劑  LED芯片  
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光阻劑介紹

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