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EEPW首頁(yè) >> 主題列表 >> 光刻試驗(yàn)樣機(jī)

我科學(xué)家另辟蹊徑造出9納米光刻試驗(yàn)樣機(jī)

  • 記者從武漢光電國(guó)家研究中心獲悉，該中心甘棕松團(tuán)隊(duì)采用二束激光在自研的光刻膠上突破了光束衍射極限的限制，采用遠(yuǎn)場(chǎng)光學(xué)的辦法，光刻出最小9納米線寬的線段，實(shí)現(xiàn)了從超分辨成像到超衍射極限光刻制造的重大創(chuàng)新。
  • 關(guān)鍵字： 光制造技術(shù)  9納米  光刻試驗(yàn)樣機(jī)  
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光刻試驗(yàn)樣機(jī)介紹

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