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?三星 文章 最新資訊

三星將推出物聯(lián)網(wǎng)系統(tǒng) 利用人工智能整合建筑管理

  • 　　據(jù)外媒報道，有行業(yè)消息人士稱，三星將于10月18號在首爾總部推出一款物聯(lián)網(wǎng)系統(tǒng)(IoT)，能夠?qū)⑷斯ぶ悄苷系浇ㄖ芾碇小！　⊥ㄟ^使用多種傳感器以及閉路電視提供的其他信息，這款名為b.IoT的系統(tǒng)可用來自動控制建筑的氣溫和照明。　　所謂物聯(lián)網(wǎng)是指，將不同的設(shè)備和機(jī)器連接到互聯(lián)網(wǎng)上，來促進(jìn)數(shù)據(jù)的交換，從而達(dá)到提升總體效率和便捷性的目的?！　∪欠Q，利用b.IoT系統(tǒng)，供暖和空調(diào)系統(tǒng)可在員工到達(dá)公司前便提前啟動，同時實(shí)時探測房間是否有人使用，以關(guān)閉電源節(jié)省電力。此外，它還能與保安配合，更好地保護(hù)商業(yè)機(jī)密
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三星公司硬盤產(chǎn)業(yè)疲軟 試圖轉(zhuǎn)向QLC閃存生產(chǎn)

  • 　　三星方面宣布其將推出4層單元閃存，即QLC NAND芯片。目前容量最高的閃存單元是具有每單元容納3 bits的TLC(三層單元)。然而由于QLC芯片所用材料較TLC而言，其讀寫速度更慢且使用壽命也更低，所以QLC芯片的制備難度也隨之增大。 　　   　　SSD可并行訪問多塊晶片以提升訪問速度，同時還能夠憑借冗余配置以延長其耐用性。 　　迄今為止，東芝公司與西部數(shù)據(jù)公司，東芝方面的代工合作伙伴已經(jīng)開始運(yùn)行配有768 Gbit容量的QLC芯片產(chǎn)品生產(chǎn)線。而如果該合資企業(yè)沒有因為東芝方
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國外大神拆解三星Note8？連筆都沒放過

  • 　　   　　   　　   　　   　　   　　   　　   　　   　　   　　   　　   　　   　　   　　   　　  　　    
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或自主研發(fā) S-GPU？三星有可能收購Imagination部分專利

  • 　　據(jù)爆料人士@i冰宇宙 透露，三星對 Imagination GPU 相關(guān)專利很感興趣，有可能收購部分專利，助力自主研發(fā) S-GPU。 ???? 　　   　　除此之外，該爆料人士沒有透露更多的信息，所以暫時也無法確定該消息是否真實(shí)。 　　Imagination 可謂是英國科技領(lǐng)域的一顆明星，但是今年年初貢獻(xiàn)其收入一半多的蘋果公司表示將不再使用 Imagination 的技術(shù)，這一消息曾引發(fā) Imagination 股價大跌超過50%。 　　最近幾年，蘋果在開發(fā)自己半導(dǎo)體技術(shù)方面
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分析師：三星存儲器業(yè)務(wù)創(chuàng)紀(jì)錄，有望推高Q3利潤

  • 　　據(jù)路透社北京時間10月10日消息，分析師預(yù)計，三星存儲芯片業(yè)務(wù)利潤將在第三季度創(chuàng)下紀(jì)錄，這一數(shù)據(jù)意味著三星電子的利潤再創(chuàng)新高。受此消息提振，三星股價周二在韓國股市開盤后大漲4.5%。 　　據(jù)分析師預(yù)計，三星電子第三季度利潤為14.3萬億韓元(約合126億美元)，再次創(chuàng)下新高。今年第二季度三星電子的單個季度的凈利潤首次超過蘋果公司。公告顯示，三星電子2017年4-6月營業(yè)利潤達(dá)到創(chuàng)紀(jì)錄的14.07萬億韓元(約126.44億美元)，同比增長72.9%;凈利潤11.05萬億韓元，刷新歷史紀(jì)錄。 　　外媒
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三星及LG海外設(shè)廠遭遇大不同 南韓政府標(biāo)準(zhǔn)引發(fā)質(zhì)疑

  • 　　南韓政府對樂金顯示器(LG Display;LGD)前往廣州興建OLED工廠案，以有技術(shù)外流疑慮為由審查進(jìn)度遲緩。相較于三星電子(Samsung Electronics)與三星顯示器(Samsung Display)前往大陸、越南興建NAND Flash及中小尺寸OLED面板工廠的寬容態(tài)度，南韓業(yè)界質(zhì)疑政府有雙重標(biāo)準(zhǔn)。 　　據(jù)韓媒朝鮮日報報導(dǎo)，近期南韓政府以技術(shù)外流大陸疑慮，遲遲未批準(zhǔn)LGD申請大陸OLED工廠建案許可。DRAM、NAND Flash記憶體與OLED同樣為南韓國家重點(diǎn)技術(shù)領(lǐng)域，記憶體
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三星在OLED屏幕上為難蘋果？蘋果：我怕你？

  • 即便三星停止向蘋果提供OLED屏幕，蘋果背后還是有一堆廠商在爭著去供貨，共分一杯羹。
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一文讓你全面了解OLED技術(shù)以及AMOLED屏

  • 一文讓你全面了解OLED技術(shù)以及AMOLED屏-三星以及部分國產(chǎn)智能手機(jī)早已用上了AMOLED顯示屏，不過傳言iPhone8將采用AMOLED顯示屏的消息再一次推高了OLED技術(shù)的熱度。雖然經(jīng)常聽說AMOLED，但你知道它與OLED的關(guān)系嗎？手機(jī)廠商為何要爭搶OLED面板？智能手機(jī)和VR能讓OLED成為主流嗎？帶著一連串的問題，讓我們來全面了解一下OLED技術(shù)。
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三星起訴華為的16件專利中已有10件被判全部無效

  • 　　2017年9月30日，國家知識產(chǎn)權(quán)局專利復(fù)審委員會(以下簡稱“專利復(fù)審委員會”)一口氣發(fā)布了八份與三星專利相關(guān)的專利無效宣告復(fù)審決定。其中，共計 5 件被宣告全部無效，1 件部分無效，僅有 2 件維持有效。 　　其中，“表示雙模式移動終端的當(dāng)前通信服務(wù)的類型的裝置和方法”、“具有照相機(jī)的便攜式終端以及用于通過該終端拍照的方法”、“使用無線局域網(wǎng)存儲數(shù)據(jù)到網(wǎng)存儲器的系統(tǒng)及方法”、“用于編輯用于主
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惠普收購三星打印機(jī)業(yè)務(wù)獲商務(wù)部有條件批準(zhǔn)

  • 日前，商務(wù)部官網(wǎng)發(fā)布消息稱，以附加限制性條件的形式批準(zhǔn)了惠普公司收購三星電子有限公司部分業(yè)務(wù)案。
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內(nèi)存條掀起的漲價潮：國產(chǎn)手機(jī)漲價 三星成最大贏家

  • 存儲器作為一種根據(jù)庫存、需求、產(chǎn)能因素變化而具有明顯周期性的行業(yè)，這一輪漲價大幅增加了國產(chǎn)智能手機(jī)和PC廠商的成本，目前部分智能手機(jī)已經(jīng)漲價，幅度在100~500元不等。
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三星推11納米FinFET，宣布7nm將全面導(dǎo)入EUV

  • 　　隨著臺積電宣布全世界第一個 3 奈米制程的建廠計劃落腳臺灣南科之后，10 奈米以下個位數(shù)制程技術(shù)的競爭就正式進(jìn)入白熱化的階段。 臺積電的對手三星 29 日也宣布，將開始導(dǎo)入 11 奈米的 FinFET，預(yù)計在 2018 年正式投產(chǎn)之外，也宣布將在新一代的 7 奈米制程上全面采用 EUV 極紫外線光刻設(shè)備。 　　根據(jù)三星表示，11 奈米 FinFET 制程技術(shù)「11LPP (Low Power Plus)」是現(xiàn)今 14 奈米和 10 奈米制程的融合，一方面采用 10 奈米制程 BEOL (后端制程)，
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內(nèi)存條漲價抬高國產(chǎn)手機(jī)成本 三星、美光成最大贏家

  • 　　“2017年DRAM價格漲幅將達(dá)到39%”，ICInsights在2017年第三季度做出預(yù)計。當(dāng)下，以DRAM為代表的半導(dǎo)體存儲器在全球范圍內(nèi)掀起漲價潮。 　　DRAM作為半導(dǎo)體存儲器的產(chǎn)品類型之一，常見產(chǎn)品形態(tài)是內(nèi)存條，主要的兩個應(yīng)用市場是PC和智能手機(jī)。據(jù)京東商城官網(wǎng)顯示，金士頓DDR424008G臺式機(jī)內(nèi)存在半年內(nèi)價格從400元左右漲至800元左右，同時金立集團(tuán)董事長劉立榮在9月25日媒體交流會上稱，國產(chǎn)手機(jī)下半年仍會漲價，部分原因是內(nèi)存成本上升。 　　集邦咨詢半導(dǎo)體
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三星宣布11nm新工藝：7nm全面上極紫外光刻

  • 　　Intel雖然一再強(qiáng)調(diào)自己的xxnm工藝才是最精確的，比如同樣標(biāo)稱10nm，自己要比三星、臺積電的領(lǐng)先整整一代，但是沒辦法，人家的腳步要快得多。 　　今天，三星電子又宣布了新的11nm FinFET制造工藝“11LPP”(Low Power Plus)，并確認(rèn)未來7nm工藝將上EUV極紫外光刻。 　　   　　三星11LPP工藝不是全新的，而是14nm、10nm的融合，一方面采用10nm BEOL(后端工藝)，可以大大縮小芯片面積，另一方面則沿用14nm
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三星宣布11納米芯片新工藝：7納米也在路上了

  • 　　Intel雖然一再強(qiáng)調(diào)自己的xxnm工藝才是最精確的，比如同樣標(biāo)稱10nm，自己要比三星、臺積電的領(lǐng)先整整一代，但是沒辦法，人家的腳步要快得多。 　　今天，三星電子又宣布了新的11nm FinFET制造工藝“11LPP”(Low Power Plus)，并確認(rèn)未來7nm工藝將上EUV極紫外光刻。 　　三星11LPP工藝不是全新的，而是14nm、10nm的融合，一方面采用10nm BEOL(后端工藝)，可以大大縮小芯片面積，另一方面則沿用14nm LPP工藝的部分元素。
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